JPH0340942A - 光ファイバの製造方法 - Google Patents
光ファイバの製造方法Info
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- JPH0340942A JPH0340942A JP1175119A JP17511989A JPH0340942A JP H0340942 A JPH0340942 A JP H0340942A JP 1175119 A JP1175119 A JP 1175119A JP 17511989 A JP17511989 A JP 17511989A JP H0340942 A JPH0340942 A JP H0340942A
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- optical fiber
- cooling gas
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- 238000007380 fibre production Methods 0.000 title 1
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Landscapes
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は、光ファイバの製造過程における架橋装置に係
り、特に、光ファイバ製造工程の高速化を図った光ファ
イバの製造過程における架橋装置に関する。
り、特に、光ファイバ製造工程の高速化を図った光ファ
イバの製造過程における架橋装置に関する。
「従来の技術」
光ファイバの製造装置の該略構成を第３図に示すと、こ
の装置は、光ファイバの母材（以下プリフォームという
）２を周囲から加熱して細線化するための加熱炉ｌと、 該加熱炉ｌの下流に配置され、細線化さ４″、た光ファ
イバ裸線４に液状の紫外線硬化型の被膜材３を塗布する
ダイス５と、 被膜材３が塗布された光ファイバ課線４に周囲から紫外
線を投射して被膜材３を架橋させる架橋筒６と、 架橋された光ファイバ木線９を巻き取る巻き取り装置１
０とから構成されている。
の装置は、光ファイバの母材（以下プリフォームという
）２を周囲から加熱して細線化するための加熱炉ｌと、 該加熱炉ｌの下流に配置され、細線化さ４″、た光ファ
イバ裸線４に液状の紫外線硬化型の被膜材３を塗布する
ダイス５と、 被膜材３が塗布された光ファイバ課線４に周囲から紫外
線を投射して被膜材３を架橋させる架橋筒６と、 架橋された光ファイバ木線９を巻き取る巻き取り装置１
０とから構成されている。
そして、上記架橋筒６の従来例としては、例えば、第４
図に示すように架橋筒本体６ａ内に、紫外線投射手段６
ｂを配置してその中を通る光ファイバ課線４に紫外線を
投射して被膜材３を架橋するしのがあった。
図に示すように架橋筒本体６ａ内に、紫外線投射手段６
ｂを配置してその中を通る光ファイバ課線４に紫外線を
投射して被膜材３を架橋するしのがあった。
「発明が解決しようとする課題」
しかしながら、上記装置においては、光ファイバの線引
き速度の高速化を図るうえで、次のような間層が生じて
きた。
き速度の高速化を図るうえで、次のような間層が生じて
きた。
ｌ）加熱炉ｌから線引きされた光ファイバ課線４が島を
持っているので、線引き速度が速い場合、紫外線硬化型
被膜材３が光ファイバ裸線４にうまく付着しない場合か
ある。
持っているので、線引き速度が速い場合、紫外線硬化型
被膜材３が光ファイバ裸線４にうまく付着しない場合か
ある。
２）線通し時と架橋時との線引き速度の昇降差に十分応
答する紫外線量の制御を行うことが難しかまた。
答する紫外線量の制御を行うことが難しかまた。
この場合、架橋筒６を長尺化して十分な紫外線風を確保
することが考えられるが、装置の大型化つながるので好
ましくなかった。
することが考えられるが、装置の大型化つながるので好
ましくなかった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的は
、装置の大型化を図ることなく、線引き速度の高速化を
効率良く図ることができる光ファイバの製造過程におけ
る架橋装置を提供することにある。
、装置の大型化を図ることなく、線引き速度の高速化を
効率良く図ることができる光ファイバの製造過程におけ
る架橋装置を提供することにある。
「課題を解決するための手段」
本発明に係る光ファイバの製造過程における架橋装置は
、被膜材が塗布された光ファイバ裸線を囲んだ状態に線
引き通路に配置され、冷却ガスが滞留状態を調整可能に
挿通される円環状の冷却ガス流路と− 該冷却ガス流路の周囲に配置され、該冷却ガス流路内に
滞留する冷却ガスを通して光ファイバ裸線に塗布された
被膜材に紫外線を照射する紫外線照射手段とを具備する
ことを特徴とする。
、被膜材が塗布された光ファイバ裸線を囲んだ状態に線
引き通路に配置され、冷却ガスが滞留状態を調整可能に
挿通される円環状の冷却ガス流路と− 該冷却ガス流路の周囲に配置され、該冷却ガス流路内に
滞留する冷却ガスを通して光ファイバ裸線に塗布された
被膜材に紫外線を照射する紫外線照射手段とを具備する
ことを特徴とする。
「作用」
本発明に係る光ファイバの製造過程における架橋装置に
よれば、被膜材が塗布された光ファイバ裸線の周囲を冷
却ガスが流れているので、冷却ガスの冷却作用によって
光ファイバ裸線への被膜材の付着状態を向上させるとと
もに、光ファイバ裸線の線引き速度に応じて冷却ガスの
滞留状態を調整することにより、該冷却ガスを通して照
射される紫外線量が被膜材の架橋に適度な量となって、
効率良く架橋を行うことができる。
よれば、被膜材が塗布された光ファイバ裸線の周囲を冷
却ガスが流れているので、冷却ガスの冷却作用によって
光ファイバ裸線への被膜材の付着状態を向上させるとと
もに、光ファイバ裸線の線引き速度に応じて冷却ガスの
滞留状態を調整することにより、該冷却ガスを通して照
射される紫外線量が被膜材の架橋に適度な量となって、
効率良く架橋を行うことができる。
「実施例」
本発明に係る光ファイバの製造過程における架橋装置の
一実施例を第１図を参照して説明する。
一実施例を第１図を参照して説明する。
この実施例における架橋装置は、加熱炉ｌにて紡糸され
、紫外線硬化型樹脂が塗布された光ファイバｌ［４を第
１図および第２図に示すように、そのほぼ中心軸線上に
通過させるガラス管１１と、その周囲に２重円環状の冷
却ガス＃ ｍ Ｗ、 Ｉ ２とが配設されている。
、紫外線硬化型樹脂が塗布された光ファイバｌ［４を第
１図および第２図に示すように、そのほぼ中心軸線上に
通過させるガラス管１１と、その周囲に２重円環状の冷
却ガス＃ ｍ Ｗ、 Ｉ ２とが配設されている。
冷却ガス挿通管１２には、Ｎｔ、Ａｒ、Ｈｅ等の冷却ガ
スがその滞留状態を調整可能に挿通されるように紅って
いる。例えば、冷却ガス挿通管１２の」二部から冷却ガ
スを供給し、下部から排気する際に、排気側に排気弁を
設け、該排気弁の絞り瓜によって冷却ガス挿通管１２内
のガス圧や密度を調整するように構成されている。
スがその滞留状態を調整可能に挿通されるように紅って
いる。例えば、冷却ガス挿通管１２の」二部から冷却ガ
スを供給し、下部から排気する際に、排気側に排気弁を
設け、該排気弁の絞り瓜によって冷却ガス挿通管１２内
のガス圧や密度を調整するように構成されている。
そして、冷却ガス挿通管！２の後方には、前記光ファイ
バ課ｖＡ４の通過軸を第１のｊｆ１点Ｂとずろ楕円への
一部を為すミラー［３が配設されている。
バ課ｖＡ４の通過軸を第１のｊｆ１点Ｂとずろ楕円への
一部を為すミラー［３が配設されている。
この楕円Ａの第２の焦点Ｃには、紫外線を投射するため
の例えばキセノン放電灯やヘリウム放電管等の光源１４
が配置されており、該光源１４から投射される紫外線は
光ファイバ裸線４に前方から照射するものとミラー１３
に反射されて後方から照射されるものとがあり、光ファ
イバ裸線４の周囲全体に向って照射されるようになって
いる。
の例えばキセノン放電灯やヘリウム放電管等の光源１４
が配置されており、該光源１４から投射される紫外線は
光ファイバ裸線４に前方から照射するものとミラー１３
に反射されて後方から照射されるものとがあり、光ファ
イバ裸線４の周囲全体に向って照射されるようになって
いる。
上記のような構成の光ファイバの架橋装置によれば、冷
却ガス挿通管１２に流れる冷却ガスのガス圧を高くして
ガスの密度を高くすることにより、光ファイバ裸線４に
塗布された被膜材３への紫外線の到達量を少なくするこ
とができ、また、冷却ガスのガス圧を低くしてガスの密
度を低くすることにより、光ファイバ裸線４に塗布され
た被膜材への紫外線の到達量を多くすることができる。
却ガス挿通管１２に流れる冷却ガスのガス圧を高くして
ガスの密度を高くすることにより、光ファイバ裸線４に
塗布された被膜材３への紫外線の到達量を少なくするこ
とができ、また、冷却ガスのガス圧を低くしてガスの密
度を低くすることにより、光ファイバ裸線４に塗布され
た被膜材への紫外線の到達量を多くすることができる。
したかって、線引き速度が速い場合は、ガスの密度を低
くして紫外線照射量を多くし、線引き速度が遅い場合は
、ガスの密度を高くして紫外線月射量を少なくし、被膜
材の架橋に適した紫外線量を得ることができる。
くして紫外線照射量を多くし、線引き速度が遅い場合は
、ガスの密度を高くして紫外線月射量を少なくし、被膜
材の架橋に適した紫外線量を得ることができる。
そしてさらに、通過する光ファイバ裸線４の周囲を冷却
ガスが流れることにより、該冷却ガスの冷却作用によっ
て被膜材の光ファイバ課線４への付着状態を向上させて
効率良く架橋することができる。
ガスが流れることにより、該冷却ガスの冷却作用によっ
て被膜材の光ファイバ課線４への付着状態を向上させて
効率良く架橋することができる。
なお、上記実施例においては、ガス圧を変えて被膜材へ
の紫外線の照射量を調整するようにしたが、紫外線透過
量の異なる冷却ガスを冷却ガス挿通管１２に流すことに
より調整するようにしてもよい。
の紫外線の照射量を調整するようにしたが、紫外線透過
量の異なる冷却ガスを冷却ガス挿通管１２に流すことに
より調整するようにしてもよい。
「発明の効果」
以上説明したように本発明に張る光ファイバの製造過程
における架橋装置によれば、線引きされて通過する光フ
ァイバの周囲に、冷却ガス流路を設け、該冷却ガス流路
に流れる冷却ガスの滞留状態を調整して光ファイバ裸線
の被膜材への紫外線の照射量を調整することができ、線
通し時等の線速か遅い場合、架橋時等の線速の速い場合
に、その状態に合わせて紫外線照射量を変えて効率良い
線引き工程を行うことができ、かつ冷却ガスの冷却作用
によって、光ファイバ裸線への被膜材の付着状態を向上
させることができ、さらに効率良い架橋を行うことがで
きる。そして、この場合、冷却、架橋を一箇所にて行っ
ているので、装置の大型化につながることなく、小型な
光ファイバの製造装置を錬成することかできる。
における架橋装置によれば、線引きされて通過する光フ
ァイバの周囲に、冷却ガス流路を設け、該冷却ガス流路
に流れる冷却ガスの滞留状態を調整して光ファイバ裸線
の被膜材への紫外線の照射量を調整することができ、線
通し時等の線速か遅い場合、架橋時等の線速の速い場合
に、その状態に合わせて紫外線照射量を変えて効率良い
線引き工程を行うことができ、かつ冷却ガスの冷却作用
によって、光ファイバ裸線への被膜材の付着状態を向上
させることができ、さらに効率良い架橋を行うことがで
きる。そして、この場合、冷却、架橋を一箇所にて行っ
ているので、装置の大型化につながることなく、小型な
光ファイバの製造装置を錬成することかできる。
第１図はこの発明に係る光ファイバの製造過程における
架橋装置の一実施例を示す横断面図、第２図は同縦断面
図、第３図は光ファイバの製造装置を示す該略構成図、
第４図は架橋筒の従来例を示す縦断面図である。 ！！・・・・・・ガラス管、１２・・・・・冷却ガス挿
通管、ｔ３・・・・・ミラー １４・・・・・・光源、
Ａ・・・・・楕円、Ｂ・・・・・・第１の焦点、Ｃ・・
・・・・第２の焦点。
架橋装置の一実施例を示す横断面図、第２図は同縦断面
図、第３図は光ファイバの製造装置を示す該略構成図、
第４図は架橋筒の従来例を示す縦断面図である。 ！！・・・・・・ガラス管、１２・・・・・冷却ガス挿
通管、ｔ３・・・・・ミラー １４・・・・・・光源、
Ａ・・・・・楕円、Ｂ・・・・・・第１の焦点、Ｃ・・
・・・・第２の焦点。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 光ファイバ裸線を母材から線引きして、その下流にて紫
外線硬化型の被膜材を塗布した後に、周囲より紫外線を
投射して、光ファイバ裸線に被膜材を架橋する光ファイ
バの製造過程における架橋装置において、 前記被膜材が塗布された光ファイバ裸線を囲んだ状態に
線引き通路に配置され、冷却ガスが滞留状態を調整可能
に挿通される円環状の冷却ガス流路と、 該冷却ガス流路の周囲に配置され、該冷却ガス流路内に
滞留する冷却ガスを通して光ファイバ裸線に塗布された
被膜材に紫外線を照射する紫外線照射手段とを具備する
ことを特徴とする光ファイバの製造過程における架橋装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1175119A JP2735886B2 (ja) | 1989-07-06 | 1989-07-06 | 光ファイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1175119A JP2735886B2 (ja) | 1989-07-06 | 1989-07-06 | 光ファイバの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0340942A true JPH0340942A (ja) | 1991-02-21 |
| JP2735886B2 JP2735886B2 (ja) | 1998-04-02 |
Family
ID=15990610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1175119A Expired - Fee Related JP2735886B2 (ja) | 1989-07-06 | 1989-07-06 | 光ファイバの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2735886B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6090854A (ja) * | 1983-10-21 | 1985-05-22 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光フアイバの被覆方法 |
| JPS6287437A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバの製造方法 |
| JPS6311538U (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-26 |
-
1989
- 1989-07-06 JP JP1175119A patent/JP2735886B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6090854A (ja) * | 1983-10-21 | 1985-05-22 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光フアイバの被覆方法 |
| JPS6287437A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバの製造方法 |
| JPS6311538U (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-26 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2735886B2 (ja) | 1998-04-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |