JPH0339981A - 現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ｌ成分現像剤を用いた電子写真装置の現像装
置に関する。

従来の技術 一般に、現像方式には、キャリア粒子とトナーとの混合
物を用いる２成分現像剤方式の他に、キャリア粒子を持
たずトナーのみによる１成分現像剤方式がある。ここに
、体積固有抵抗値の高い、いわゆる中抵抗以上の１成分
トナーを用いる現像装置においては、階調性、シャープ
ネス等の画質向上のため、感光体に対向して実際の現像
を受は持つ現像剤担持体（現像ローラ）について工夫し
たものがある。

例えば、特開昭５５−４６７６８号公報によれば、現像
ローラにつき、導電性支持体層の表層に抵抗体層を備え
るが、この抵抗体層の抵抗値を１０°〜ｌ　Ｏ”Ωａｎ
とし、現像領域での電界強度を制御する方式が提案され
ている。即ち、現像ローラによるバイアス現像のために
は導電性であるのがよいが、これではエツジ効果を発揮
させることができず、かといって、完全なる絶縁性現像
ローラとするとバイアス効果がないために地肌汚れを生
じてしまうので、現像バイアスの効く範囲で抵抗体層の
抵抗値を上げるようにしたものである。

また、特開昭５７−６６４５６号公報によれば、現像ロ
ーラにおいて、高抵抗体層の上に中抵抗体層を設け、現
像電流を高抵抗体層−中抵抗体層を通じて供給させる方
式が提案されている。即ち、抵抗体層に用いる材料の比
抵抗と厚みとにより現像電界強度を最適化しようとする
もので、現像領域下では、中抵抗体層のセルフバイアス
効果を用いるようにしたものである。

発明が解決しようとする課題 ところが、抵抗を持つものは、一般に、温度や湿度によ
ってその抵抗値が変化する。よって、上記のように表層
に高抵抗の抵抗体層を用いただけの場合、環境変化等に
よる現像電界の変動が直接的に画像に影響する場合があ
る。よって、従来方式は、環境変動等に対して現像電界
制御の余裕度の小さいものとなっている。

また、抵抗を持つものは、一般に、温度や湿度によって
その抵抗値が変化するため、上記のように表層に高抵抗
の抵抗体層を用いただけの場合、環境変化等による現像
電界の変動が直接的に画像に影響する場合がある。また
、現像ローラ上のトナー層は、現像領域に入る前に、薄
層化規制部材によって所望の層厚に規制されるが、現像
ローラ表層にはトナー層に見合う対向電荷が存在するこ
とになり、一般には、薄層化規制部材通過直後では対向
電荷過多の状態にある。ここに、現像工程での実効バイ
アスが現像ローラ表面の電荷量によって生ずる表面電位
により変動してしまうので、現１ｍ　！１域において適
正な現像動作を行うためには、この現像領域に入る現像
剤層の電荷量とバランスしている必要があるが、従来方
式ではこの保証のないものである。

さらに、これらの方式のように高抵抗体層を持つ現像ロ
ーラでは、現像工程終了後に感光体やトナー除去ローラ
といった対向部材による電気的な履歴を持ったままトナ
ー補給動作に入るために、トナー補給ムラを生ずる場合
がある。例えば、現像ローラ表面のトナー層を見ると、
現像工程後では現像工程により剥離された部分と現像に
供されず残っている部分とが混在し、電位的にもムラを
生ずるため、トナー供給性に差異を生じ、トナー層ムラ
となり、現像動作に悪影響を及ぼすことになる。しかも
、抵抗を持つものは、一般に、温度や湿度によってその
抵抗値が変化するため、現像ローラの高抵抗体層の抵抗
変動による影響を直接的に受けてしまう。

課題を解決するための手段 表層に抵抗体層を持つ現像剤担持体を備え、その他、現
像工程終了後の現像剤担持体上の残留現像剤を除去する
除去部材と、現像工程終了後にこの現像剤担持体上に現
像剤を補給させる現像剤補給部材と、前記現像剤担持体
上の現像剤層の層厚を規制する薄層化規制部材とを必要
に応じて備えたｌ成分現像方式の現像装置において、感
光体・現像剤層の静電容量をＣ１、 抵抗体層の電気的抵抗Ｒとこの抵抗体層の静電容量Ｃヨ
との積で表される時定数をτ１＝Ｃ２×Ｒ、前記抵抗体
層と感光体・現像剤層とでなす時定数をτ、＝　（ｃ、
＋ｃ、）　ＸＲ。

現像剤担持体上のある一点が現像剤担持体と感光体とで
なす現像領域を通過する時間をり。

現像剤担持体上のある一点が薄層化規制部材通過後、現
像領域に入るまでの時間をｔ１、現像剤担持体上のある
一点が現像領域通過後、現像剤補給部材に至るまでの時
間をし１、現像剤担持体上のある一点が除去部材を通過
後、現像剤補給部材に至るまでの時間をｔ４とした時、
請求項１記載の発明では、１．（τ１、請求項２記載の
発明では、１．）τ 請求項３記載の発明では、１．＞τ１、請求項４記載の
発明では、１．）τ 請求項５記載の発明では、 １、＜τ、　かつ　仁、〉で 請求項６記載の発明では、 １、＜τ３　かつ　１．）τ１ 請求項７記載の発明では、 １、＜τ３　かつ　１．＞τ、　かつ　１．）τ。

請求項８記載の発明では・、 ｔ１＜τ２かつ　１．＞τ。

ｉ１Ｎ求項９記載の発明では、 １、　（τ３　かつ　１．）τ１　かつ　１４）τ。

なる関係を各々満足する電気的な特性を持つ抵抗体層と
した。

作用 請求項１記載の発明のように、現像領域を通過する時間
ｔｌ　に対して抵抗体層と感光体・現像剤層とでなす時
定数τ、＝（Ｃ，＋Ｃ，）ＸＲが長い場合、現像領域で
は抵抗体層を絶縁体層とみなすことができる。よって、
現像領域では現像電界強度を安定したものとし、所望の
現像条件とすることが可能となる。つまり、抵抗体層自
体を絶縁体層とするようなことなく、環境等による変動
に対する現像電界の制御の余裕度が増すことになる。

また、現像剤担持体上の現像剤層は、現像領域に入る前
に、薄層化規制部材によって所望の層厚に規制される。

この時、請求項２記載の発明によれば、現像剤担持体の
抵抗体層の時定数τ、が薄層化規制部材領域通過後、現
像領域に入るまでの時間ｔ、よりも小さいので、現像領
域に入るまでに現像剤担持体表面の余剰電荷が十分に減
衰する９よって、現像剤担持体表面の電位は、現像領域
では適正な状態となり、実効バイアスの変動のない現像
動作が可能となる。

また、現像剤担持体上に対して現像剤は現像工程後に現
像剤補給部材により補給される。この時、現像剤担持体
表面では現像工程で現像剤の剥離された部分と残存部分
とが混在し、電位的にもムラのある状態となり得る。こ
こに、請求項３記載の発明によれば、抵抗体層の時定数
τ、が、現像領域を通過後、現像剤補給部材に至るまで
の時間ｔ、よりも小さいので、現像剤補給部材に至るま
でには現像剤担持体表面の余分な電位が十分に減衰する
。即ち、現像剤担持体の表面が現像工程終了後に現像工
程での電気的な履歴を持ったまま現像剤補給動作に入る
ことがなく、実効現像バイアスに影響しないようにムラ
のない現像剤補給が可能となる。

これは、現像工程終了後の現像剤担持体上の残留現像剤
を除去する除去部材を備えたものでも同様であり、請求
項４記載の発明のように、抵抗体層の時定数ｔ１が、除
去部材通過後、現像剤補給部材に至るまでの時間ｔ４よ
りも小さいことにより、ムラのない現像剤補給が可能と
なる。

さらに、請求項５ないし９記載の発明のように、これら
を適宜組合せた条件によれば、相乗効果が発揮される。

実施例 本発明の第一の実施例を第１図ないし第３図に基づいて
説明する。まず、本実施例の現像装置は、例えばドラム
状の感光体１に対向接触させて現像剤担持体としての現
像ローラ２が設けられ、現像容器３内において現像ロー
ラ２の周りに現像剤補給部材としての補給ローラ４と、
薄層化規制部材としての層厚規制ローラ５とが設けられ
ている。

また、補給ローラ４前段にはトナーカートリッジ６側か
ら落下するトナー（ｌ成分現像剤）を回転により撹拌し
て補給ローラ４に供給するアジテータ７も設けられてい
る。

ここに、感光体ｌは第２図に示すようにベース層８上に
光導電層９を形成したものである。また、現像ローラ２
は導電性支持体１０上に、カーボンを混入したウレタン
ゴムからなる約６問厚の導電性弾性体層１１を設け、そ
の表面に少量のカーボンを分散させたウレタン樹脂から
なる約５０ｐｍ厚の高抵抗の抵抗体層１２を設けたもの
である。導電性弾性体層１１を設ける目的は、感光体ｌ
への均一接触を保つためであるが、この導電性弾性体層
１１の時定数は現像時間に対して十分小さく無視し得る
ものとされている。また、現像ローラ２には第２図及び
第３図に示すように現像バイアス電源１３が接続され、
バイアス電圧Ｖ、が印加されている。ここに、抵抗体層
１２は等倒曲には第３図（ｂ）に示すように静電容量Ｃ
１、電気的抵抗Ｒを持ち、抵抗体層１２の時定数ｔ１は
、ｔ１　＝Ｃ：、ＸＲで表される。また、特に図示しな
いが、補給ローラ４、層厚規制ローラ５等にも適宜バイ
アス電圧が印加されている。

このような構成において、感光体ｌ及び各ローラ２，４
，５が第１図中に矢印で示す方向に回転することにより
、現像処理が行われる。

まず、補給ローラ４によって現像ローラ２上に供給され
るトナーは、層厚規制ローラ５によって所望のトナー層
厚に薄層化される。ここに、層厚規制ローラ５通過前の
現像ローラ２上のトナー供給量は所望の値よりも供給過
多となっており、現像ローラ２表層にはこれに見合う対
向電荷が存在するため、層厚規制ローラ５を通過した直
後では対向電荷過多の状態となっている。ところが、現
像工程での実効バイアスがローラ表面電荷量によって生
ずるローラ表面電位で変化してしまうため。

現像領域において適正な現像工程を行うためには、この
現像領域に入るトナー薄層の電荷量とバランスがとれて
いる必要がある。このためには、現像ローラ２表面の余
剰電荷が現像領域に入るまでに十分減衰していなければ
ならない。ここに、本実施例では、現像ローラ２上のあ
る一点が層厚規制ローラ５通過後、現像領域に入るまで
の時間をｔ３とした時、抵抗体層１２の時定数τ１が、
τ３（１，なる関係を満足するように設定されている。

このように、抵抗体層１２の時定数τ１が時間し。

よりも小さいことにより、現像ローラ２表面の余剰電荷
が現像領域に入るまでの間に十分減衰し、適正な状態で
現像領域に入ることになる。よって、余剰電荷の影響を
受けることなく現像領域での適正な現像工程が確保され
る。これは、現像ローラ２を構成する上で、その余裕度
を向上させるものでもある。

次に、現像領域では、感光体ｌと現像ローラ２との加圧
接触により現像ニップができる。即ち、現像ローラ２と
感光体ｌとでなす現像ニップが現像領域となる。ここに
、現像ローラ２上のある一点がこの現像領域を通過する
時間をｔ３とした時、この現像領域では感光体１を含む
現像ローラ２表面からの層が、大きな時定数を持ってい
れば抵抗成分を無視して、第３図（ａ）に示すように静
電容量Ｃ１と考えることができる。即ち、第２図に示す
ように感光体ｌ−現像剤層１４の静電容量が０１　　と
なる（ちなみに、第３図（ｂ）は現像ローラ２が他の部
材と接触していない時又は箇所での等価回路を示す）。

そして、現像領域では、この容量ＣＩと、抵抗体層１２
のＣ，とＲとによる回路との直列回路となり、この時の
抵抗体［１２と感光体ｌ・現像剤層１４とでなす時定数
τ、はて、＝（Ｃ，＋Ｃ，）ＸＲで表される。本実施例
では、このような現像の時間ｔ、に対して、この時定数
τ。

を、１＋＜τ３なる関係に、大きくしているので、現像
領域では抵抗体層１２を絶縁体層とみなすことができる
。従って、現像ローラ２が表層に抵抗体層１２なる抵抗
成分を持つ場合でも、現像領域では絶縁体と等価である
ため、温度変化等の環境変動の影響を受けず、現像電界
強度を安定させることができ、所望の現像条件とするこ
とができる。

感光体Ｉ上の静電潜像を現像領域で現像した後、現像ロ
ーラ２は補給ローラ４側に回動していき、新たなトナー
補給を受ける。ここに、現像ローラ２上の現像剤をみる
と、現像工程で現像に供されて剥離された部分と現像に
供されず残存した部分とが混在する。補給ローラ４によ
り現像ローラ２上に新たなトナーを補給する時に、この
現像ローラ２上の電位にムラがある状態では供給性に差
異を生じトナー層ムラの原因となる場合がある。従って
、現像ローラ２上にトナーを均一に供給させるためには
、現像終了後、補給ローラ４領域に到達するまでに現像
ローラ２上の余分な電位が十分に減衰していなくてはな
らない。この点、本実施例では、現像ローラ２上のある
一点が現像領域通適役、補給ローラ４の領域に入るまで
の時間をり３とした時、抵抗体層１２の時定数τ１が、
ｔ３＞τ１、なる関係を満足するように小さくされてい
る。よって、現像ローラ２表面の余分な電位が補給ロー
ラ４到達前に十分に減衰し、ムラがなく均一なトナー層
厚となるトナー補給が可能となる。

つづいて、本発明の第二の実施例を第４図により説明す
る。前記実施例で示した部分と同一部分は同一符号を用
いて示す。本実施例は、現像工程後であって、補給ロー
ラ４よりも前段に位置させて、現像後に現像ローラ２表
面に残存したトナー（残留現像剤）を除去する除去部材
としての除去ローラ１５を備えたものに適用したもので
ある。

また、この除去ローラ１５には適宜バイアス電圧が印加
されている。

このような除去ローラ１５を持つものでは、現像ローラ
２上のある一点が除去ローラ１５通過後、補給ローラ４
　ｆｉｉｌ域に至るまでの時間をｔ４とした時、抵抗体
層１２の時定数τ１が、１．＞τ１なる関係を満足する
ように小さければ、現像ローラ２表面の余分な電位が補
給ローラ４到達前に十分に減衰し、ムラがなく均一なト
ナー層厚となるトナー補給が可能となる。

これらの実施例に示したように、現像ローラ２が表層に
抵抗体層１２なる抵抗成分を持つ場合であっても、抵抗
体１ｆ１１２の時定数τ１　と、各部での処理時間１．
．１．．１．との関係を制御することにより、各部での
現像ローラ２の表面電位を安定させることができる。ま
た、抵抗体層１２と感光体１・現像剤層１４を含む時定
数τ、を現像時間り、より大きくすることにより、現像
領域では絶縁体として扱うことができ、現像電界の制御
も可能となる。

なお、本実施例では現像剤担持体として現像ローラ２を
用いたが、ベルト状のものであってもよい、また、導電
性弾性体層１１や抵抗体層１２の材質としても前述した
ものに限らないものである。

さらには、現像工程も接触方式に限らず、非接触方式で
行なうものであっても、現像領域以外では上述した関係
を満足するように構成すればよい。

発明の効果 本発明は、上述したように、感光体・現像剤層の静電容
量をＣｐ　、抵抗体層の電気的抵抗Ｒとこの抵抗体層の
静電容量Ｃ，との積で表される時定数をτ１＝Ｃ２×Ｒ
、前記抵抗体層と感光体・現像剤層とでなす時定数をτ
、＝　（Ｃ１＋Ｃ２）×Ｒ、現像剤担持体上のある一点
が現像剤担持体と感光体とでなす現像領域を通過する時
間をｔ、、１像剤担持体上のある一点が薄層化規制部材
通過後、現像領域に入るまでの時間をｔ１、現像剤担持
体上のある一点が現像領域通過後、現像剤補給部材に至
るまでの時間をり、、現像剤担持体上のある一点が除去
部材を通過後、現像剤補給部材に至るまでの時間をり３
とした時、請求項１記載の発明によれば、現像領域を通
過する時間１．に対して抵抗体層と感光体・現像剤層と
でなす時定数τ、＝（Ｃ，＋Ｃ，）Ｘ　Ｒを長くしたの
で、現像領域では抵抗体層を絶縁体層とみなすことがで
き、よって、現像領域では現像電界強度を安定したもの
とし、所望の現像条件とすることが可能となり、抵抗体
層自体を絶縁体層とするようなことなく、環境等による
変動に対する現像電界の制御の余裕度が増すことになる
。

また、現像剤担持体上の現像剤層は、現像領域に入る前
に、薄層化規制部材によって所望の層厚に規制されるが
、請求項２記載の発明によれば、現像剤担持体の抵抗体
層の時定数τ、が薄層化規制部材領域通過後、現像領域
に入るまでの時間り、よりも小さいので、現像領域に入
るまでに現像剤担持体表面の余剰電荷が十分に減衰する
ことになり、よって、現像剤担持体表面の電位は、現像
領域では適正な状態となり、実効バイアスの変動のない
現像動作が可能となる。

また、現像剤担持体上に対して現像剤が現像工程後に現
像剤補給部材により補給されるとき、現像剤担持体表面
では現像工程で現像剤の剥離された部分と残存部分とが
混在し、電位的にもムラのある状態となり得るが、請求
項３記載の発明によれば、抵抗体層の時定数τ、が、現
像領域を通過後、現像剤補給部材に至るまでの時間ｔ、
よりも小さいので、現像剤補給部材に至るまでには現像
剤担持体表面の余分な電位を十分に減衰させることがで
き、よって、現像剤担持体の表面が現像工程終了後に現
像工程での電気的な履歴を持ったまま現像剤補給動作に
入ることがなく、実効現像バイアスに影響しないように
ムラのない現像剤補給を行なわせることができる。

これは、現像工程終了後の現像剤担持体上の残留現像剤
を除去する除去部材を備えたものでも同様であり、請求
項４記載の発明によれば、抵抗体層の時定数τ１が、除
去部材通過後、現像剤補給部材に至るまでの時間り、よ
りも小さいので、ムラのない現像剤補給を行なわせるこ
とができる。

さらに、請求項５ないし９記載の発明のように、これら
を適宜組合せた条件によれば、相乗効果が発揮されるこ
とになる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第一の実施例を示す概略正面図、第２
図は現像領域付近を模式的に示す構造図、第３図は等価
回路図、第４図は本発明の第二の実施例を示す概略正面
図である。 ｌ・・・感光体、２・・・現像剤担持体、４・・・現像
剤補給部材、５・・・薄層化規制部材、１２・・・抵抗
体層、１４・・・現像剤層、１５・・・除去部打出　願
　人　　　株式会社　　　リ　コ５環 （ａ） （ｂ） ↓ 図 、１５

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、表層に抵抗体層を持つ現像剤担持体を備えた１成分
   現像方式の現像装置において、感光体・現像剤層の静電
   容量をＣ＿１、前記抵抗体層の電気的抵抗をＲ、この抵
   抗体層の静電容量をＣ＿２、前記抵抗体層と感光体・現
   像剤層とでなす時定数をτ＿２＝（Ｃ＿１＋Ｃ＿２）×
   Ｒ、現像剤担持体上のある一点が現像剤担持体と感光体
   とでなす現像領域を通過する時間をｔ＿１とした時、 ｔ＿１＜τ＿２ なる関係を満足する電気的な特性を持つ抵抗体層とした
   ことを特徴とする現像装置。 ２、表層に抵抗体層を持つ現像剤担持体と、この現像剤
   担持体上の現像剤層の層厚を規制する薄層化規制部材と
   を備えた１成分現像方式の現像装置において、前記抵抗
   体層の電気的抵抗Ｒとこの抵抗体層の静電容量Ｃ＿２と
   の積で表される時定数をτ＿１＝Ｃ＿２×Ｒ、前記現像
   剤担持体上のある一点が前記薄層化規制部材通過後、現
   像剤担持体と感光体とでなす現像領域に入るまでの時間
   をｔ＿２とした時、 ｔ＿２＞τ＿１ なる関係を満足する電気的な特性を持つ抵抗体層とした
   ことを特徴とする現像装置。 ３、表層に抵抗体層を持つ現像剤担持体と、現像工程終
   了後にこの現像剤担持体上に現像剤を補給させる現像剤
   補給部材とを備えた１成分現像方式の現像装置において
   、前記抵抗体層の電気的抵抗Ｒとこの抵抗体層の静電容
   量Ｃ＿２との積で表される時定数をτ＿１＝Ｃ＿２×Ｒ
   、現像剤担持体上のある一点が現像剤担持体と感光体と
   でなす現像領域を通過後、前記現像剤補給部材に至るま
   での時間をｔ＿３とした時、 ｔ＿３＞τ＿１ なる関係を満足する電気的な特性を持つ抵抗体層とした
   ことを特徴とする現像装置。 ４、表層に抵抗体層を持つ現像剤担持体と、現像工程終
   了後の現像剤担持体上の残留現像剤を除去する除去部材
   と、残留現像剤の除去されたこの現像剤担持体上に現像
   剤を補給させる現像剤補給部材とを備えた１成分現像方
   式の現像装置において、前記抵抗体層の電気的抵抗Ｒと
   この抵抗体層の静電容量Ｃ＿２との積で表される時定数
   をτ＿１＝Ｃ＿２×Ｒ、現像剤担持体上のある一点が前
   記除去部材を通過後、前記現像剤補給部材に至るまでの
   時間をｔ＿４とした時、 ｔ＿４＞τ＿１ なる関係を満足する電気的な特性を持つ抵抗体層とした
   ことを特徴とする現像装置。 ５、表層に抵抗体層を持つ現像剤担持体と、この現像剤
   担持体上の現像剤層の層厚を規制する薄層化規制部材と
   を備えた１成分現像方式の現像装置において、感光体・
   現像剤層の静電容量をＣ＿１、前記抵抗体層の電気的抵
   抗Ｒとこの抵抗体層の静電容量Ｃ＿２との積で表される
   時定数をτ＿１＝Ｃ＿２×Ｒ、前記抵抗体層と感光体・
   現像剤層とでなす時定数をτ＿２＝（Ｃ＿１＋Ｃ＿２）
   ×Ｒ、現像剤担持体上のある一点が現像剤担持体と感光
   体とでなす現像領域を通過する時間をｔ＿１、現像剤担
   持体上のある一点が前記薄層化規制部材通過後、前記現
   像領域に入るまでの時間をｔ＿２とした時、 ｔ＿１＜τ＿２かつｔ＿２＞τ＿１ なる関係を満足する電気的な特性を持つ抵抗体層とした
   ことを特徴とする現像装置。 ６、表層に抵抗体層を持つ現像剤担持体と、現像工程終
   了後にこの現像剤担持体上に現像剤を補給させる現像剤
   補給部材とを備えた１成分現像方式の現像装置において
   、感光体・現像剤層の静電容量をＣ＿１、前記抵抗体層
   の電気的抵抗Ｒとこの抵抗体層の静電容量Ｃ＿２との積
   で表される時定数をτ＿１＝Ｃ＿２×Ｒ、前記抵抗体層
   と感光体・現像剤層とでなす時定数をτ＿２＝（Ｃ＿１
   ＋Ｃ＿２）×Ｒ、現像剤担持体上のある一点が現像剤担
   持体と感光体とでなす現像領域を通過する時間をｔ＿１
   、現像剤担持体上のある一点が前記現像領域通過後、前
   記現像剤補給部材に至るまでの時間をｔ＿３とした時、
   ｔ＿１＜τ＿２かつｔ＿３＞τ＿１ なる関係を満足する電気的な特性を持つ抵抗体層とした
   ことを特徴とする現像装置。 ７、表層に抵抗体層を持つ現像剤担持体と、現像工程終
   了後にこの現像剤担持体上に現像剤を補給させる現像剤
   補給部材と、前記現像剤担持体上の現像剤層の層厚を規
   制する薄層化規制部材とを備えた１成分現像方式の現像
   装置において、感光体・現像剤層の静電容量をＣ＿１、
   前記抵抗体層の電気的抵抗Ｒとこの抵抗体層の静電容量
   Ｃ＿２との積で表される時定数をτ＿１＝Ｃ＿２×Ｒ、
   前記抵抗体層と感光体・現像剤層とでなす時定数をτ＿
   ２＝（Ｃ＿１＋Ｃ＿２）×Ｒ、現像剤担持体上のある一
   点が現像剤担持体と感光体とでなす現像領域を通過する
   時間をｔ＿１、現像剤担持体上のある一点が前記薄層化
   規制部材通過後、前記現像領域に入るまでの時間をｔ＿
   ２、現像剤担持体上のある一点が前記現像領域通過後、
   前記現像剤補給部材に至るまでの時間をｔ＿３とした時
   、 ｔ＿１＜τ＿３かつｔ＿２＞τ＿１かつｔ＿３＞τ＿１
   なる関係を満足する電気的な特性を持つ抵抗体層とした
   ことを特徴とする現像装置。 ８、表層に抵抗体層を持つ現像剤担持体と、現像工程終
   了後の現像剤担持体上の残留現像剤を除去する除去部材
   と、残留現像剤の除去されたこの現像剤担持体上に現像
   剤を補給させる現像剤補給部材とを備えた１成分現像方
   式の現像装置において、感光体・現像剤層の静電容量を
   Ｃ＿１、前記抵抗体層の電気的抵抗Ｒとこの抵抗体層の
   静電容量Ｃ＿２との積で表される時定数をτ＿１＝Ｃ＿
   ２×Ｒ、前記抵抗体層と感光体・現像剤層とでなす時定
   数をτ＿２＝（Ｃ＿１＋Ｃ＿２）×Ｒ、現像剤担持体上
   のある一点が現像剤担持体と感光体とでなす現像領域を
   通過する時間をｔ＿１、現像剤担持体上のある一点が前
   記除去部材通過後、前記現像剤補給部材に至るまでの時
   間をｔ＿４とした時、 ｔ＿１＜τ＿２かつｔ＿４＞τ＿１ なる関係を満足する電気的な特性を持つ抵抗体層とした
   ことを特徴とする現像装置。 ９、表層に抵抗体層を持つ現像剤担持体と、現像工程終
   了後の現像剤担持体上の残留現像剤を除去する除去部材
   と、残留現像剤の除去されたこの現像剤担持体上に現像
   剤を補給させる現像剤補給部材と、前記現像剤担持体上
   の現像剤層の層厚を規制する薄層化規制部材とを備えた
   １成分現像方式の現像装置において、感光体・現像剤層
   の静電容量をＣ＿１、前記抵抗体層の電気的抵抗Ｒとこ
   の抵抗体層の静電容量Ｃ＿２との積で表される時定数を
   τ＿１＝Ｃ＿２×Ｒ、前記抵抗体層と感光体・現像剤層
   とでなす時定数をτ＿２＝（Ｃ＿１＋Ｃ＿２）×Ｒ、現
   像剤担持体上のある一点が現像剤担持体と感光体とでな
   す現像領域を通過する時間をｔ＿１、現像剤担持体上の
   ある一点が前記薄層化規制部材通過後、前記現像領域に
   入るまでの時間をｔ＿２、現像剤担持体上のある一点が
   前記除去部材領域通過後、前記現像剤補給部材に至るま
   での時間をｔ＿４とした時、 ｔ＿１＜τ＿２かつｔ＿２＞τ＿１かつｔ＿４＞τ＿１
   なる関係を満足する電気的な特性を持つ抵抗体層とした
   ことを特徴とする現像装置。