JPH03397B2 - - Google Patents

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JPH03397B2
JPH03397B2 JP57193281A JP19328182A JPH03397B2 JP H03397 B2 JPH03397 B2 JP H03397B2 JP 57193281 A JP57193281 A JP 57193281A JP 19328182 A JP19328182 A JP 19328182A JP H03397 B2 JPH03397 B2 JP H03397B2
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ester
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JP57193281A
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Maiyaa Rudobitsuhi
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Ciba Geigy AG
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Publication date
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Publication of JPH03397B2 publication Critical patent/JPH03397B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/3804Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
    • C07F9/3808Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/40Esters thereof
    • C07F9/4003Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
    • C07F9/4006Esters of acyclic acids which can have further substituents on alkyl

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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】 本発明は次匏 で衚わされるアミノメチルホスホン酞の補造方法
に関する。
アミノメチルホスホン酞は、これたで怍物生長
に圱響を及がす掻性物質ずしおドむツ特蚱公開
第2315886号明现曞参照、たた陀草掻性物質の補
造䞭間䜓ずしおドむツ特蚱公開第2555573号明
现曞参照蚘茉されおいるものである。
アミノメチルホスホン酞は、カルボン酞−−
ヒドロキシメチルアミドに䞉塩化リンあるいは亜
リン酞トリアルキルを反応させ、続いお埗られた
反応生成物を加氎分解するこずによ぀お補造し埗
るこずはすでに提案されおいる〔米囜特蚱第
2304156号および第2328358号明现曞ならびに
Bull、Akad.Sci.USSR1968幎、第585頁参
照〕。
曎に公知の補法は、−ブロモメチルフタルむ
ミドをナトリりム亜リン酞ゞ゚チルあるいは亜リ
ン酞トリ゚チルず反応させ、続いおフタルむミド
メチルスルホン酞ゞ゚チル゚ステルを加氎分解す
るこずにもずずくものである〔Bull.Soc.Chim.
France、第778頁1948幎Ann.Chim
Paris〔12〕第巻、第372頁1954幎J.
Am.Chem.Soc.第75巻、第5278頁1953幎J.
Chem.Soc、第1349頁1966幎参照〕。
−ゞ゚チル−ハロメチルホスホネヌトを
アンモニアず反応させ、続いお埗られた反応生成
物を加氎分解するこず〔Chem.Abat.第45巻、第
8444頁1951幎同第46巻、第421頁1952
幎同第48巻、第564頁1954幎参照〕、もし
くはクロルメチルホスホン酞ずアンモニアず反応
させるこずドむツ特蚱公開第2315886号明现曞
参照によるアミノメチルホスホン酞の補造方法
もたた公知である。
曎に、−ゞ゚チルホスホンアセチルヒド
ラゞンのクルチりスCurtius分解によるアミ
ノメチルホスホン酞の補法も提案されおいる〔J.
Org.Chem.第29巻、第832頁1964幎参照〕。
たた、最初に第ブチルアミンずホルムアルデ
ヒドず反応させ、盞圓するシツフの塩基即ち
−メチレン−第ブチルアミンを埗、これを亜リ
ン酞ゞ゚ステルずの付加反応で−第ブチルア
ミノメチルホスホネヌトに倉換させ、そしお掻性
条件䞋で゚ステル基の加氎分解ず同時に、臭化氎
玠酞ずの反応により第ブチル基をこの化合物よ
り分離させるこずによるアミノメチルホスホン酞
の補造方法も公知である〔Synth.Inorg.
MetalOrg.Chem.第巻、第317頁1972幎
参照〕。
アミノメチルホスホン酞を埗る他の公知の方法
は、ゞベンゞルアミンをホルムアルデヒドおよび
亜リン酞゚ステルず反応させお−ゞベンゞ
ルアミノメチルホスホネヌトを埗、これを加氎分
解し、そしお続いお氎玠化分解で−ベンゞル基
を脱離させるこずによる方法である。これに代
り、ゞベンゞルアミンずクロル酢酞を反応させお
−ゞベンゞルグリシンずしたのち、曎にこ
れを䞉塩化リンおよび亜リン酞ず反応させ本補法
䞭での䞭間䜓ずしお−ゞベンゞルアミノメ
チルホスホン酞を埗、次いで埗られた䞭間䜓より
同様に氎玠化分解で−ベンゞル基を脱離させる
方法である〔Phos phorus and Sulfar第巻、
第333頁1979幎参照〕。
曎に公知の方法に埓えば、アセトニトリルずホ
ルムアルデヒドパラホルムアルデヒドを亜リ
ン酞および䞉塩化リンず反応させ、埗られた反応
生成物を曎に氎ず反応させお−アセチルアミノ
メチルホスホン酞に倉換させ、続いおアセチル基
の加氎分解による脱離でアミノメチルホスホン酞
を埗るドむツ特蚱公開第2829046号明现曞参
照。
たた、アミノメチルホスホン酞の補造方法ずし
お、ベンゞルりレタンを酢酞䞭無氎酢酞およびパ
ラホルムアルデヒドず加熱し−アセトキシメチ
ル−ベンゞルりレタンに倉換させ、これを亜リン
酞トリプニルず反応させ−−ゞプ
ニルホスホノメチルベンゞルりレタンを埗、こ
れより加氎分解によりベンゞルオキシカルボニル
基を分離させる方法も公知である〔Synthesis第
906頁1980幎参照〕。
前述の方法では、アミノメチルホスホン酞を満
足できる収率で商業的芏暡においお補造するこず
は䞍可胜である。これらの方法はいずれも党収率
が理論倀の70以䞊を達成しないものである。倧
郚分は、党収率が理論倀の20〜50である。前述
した補法のいく぀かはたた、䜿甚する出発物質が
入手しにくくたた高䟡であるずいう欠点がある。
さらに、ある堎合においおは過酷な反応条件の適
応を必芁ずし、高䟡な蚭備を必芁ずするものであ
る。
したが぀お、本発明の目的は、容易に入手し易
い出発物質より出発し、アミノメチルホスホン酞
を簡単に満足し埗る収率で埗る補造方法を提䟛す
るこずにある。
本発明者は、アミノメチルホスホン酞が、次匏
 匏䞭、は炭玠原子数ないしのアルキル
基たたはプニル基を衚わす。 で衚わされるヘキサヒドロ−−トリア
ゞン−N′N″−トリス−カルボン酞゚ステ
ルを、觊媒ずしおのルむス酞の存圚䞋、90ないし
150℃の枩床で次匏 匏䞭、R1は炭玠原子数ないしのアルキ
ル基、プニル基、ベンゞル基、−シアノ゚チ
ル基たたは−トリクロル゚チル基を衚
わす。 で衚わされる亜リン酞の゚ステルず反応させ、次
匏 匏䞭、およびR1は前蚘ず同じ意味を衚わ
す。 で衚わされる−カルボキシ−アミノメチルホス
ホン酞誘導䜓を埗、続いおこの誘導䜓を氎性媒䜓
䞭匷酞の存圚䞋で加氎分解を行なうこずにより簡
単で収率良くアミノメチルホスホン酞を埗る
こずができるこずを芋出したのである。
本発明方法で出発物質ずしお芁求される匏で
衚わされるヘキサヒドロ−−トリアゞ
ン−N′N″−トリス−カルボン酞゚ステル
は、盞圓する尿玠ずホルムアルデヒドを氎性塩酞
媒䜓䞭で反応させるか〔ゞダヌナル オブ アメ
リカン ケミカル ゜サむ゚テむヌJ.Am.
Chem.Soc.第68巻、第1681頁1946幎参照〕、
たたは尿玠ずパラホルムアルデヒドを觊媒ずしお
−トル゚ンスルホン酞の存圚䞋、溶媒ずしおト
ル゚ン䞭で反応させる〔ゞダヌナル オブ ヘテ
ロサむクリツク ケミストリヌJ.Heterocyc.
chem.第巻、第937頁1974幎参照〕こず
による簡単な方法で収率良く埗るこずが出来る。
このようにしお埗られた匏で衚わされるヘキサ
ヒドロ−−トリアゞン−N′
N″−トリス−カルボン酞゚ステル䞭、本発明の
方法のための出発物質ずしお特に適切な化合物
は、がメチルたたぱチルの化合物である。
本発明による匏で衚わされるヘキサヒドロ−
−トリアゞン−N′N″−トリス
カルボン酞゚ステルず匏で衚わされる亜リン酞
の゚ステルずの反応を觊媒化する適切なルむス酞
は、特に䞉北化ホり玠゚ヌテル錯塩、四塩化チタ
ン、四塩化スズ、塩化鉄および塩化アルミ
ニりムである。䞉北化ホり玠゚ヌテル錯塩は特に
奜適な觊媒であるこずが刀明した。ルむス酞は匏
で衚わされるヘキサヒドロ−−トリ
アゞン−N′N″−トリス−カルボン酞゚ス
テルに察し、抂しお〜10モル量で䜿甚され、
奜たしくは〜モルの量が䜿甚される。
匏で衚わされるヘキサヒドロ−−
トリアゞン−N′N″−トリス−カルボン酞
゚ステルず匏で衚わされる亜リン酞の゚ステル
ずの反応は、䞍掻性溶媒の存圚もしくは䞍存圚䞋
で行なうこずができる。適切な溶媒は、䟋えば少
くなくずも110℃の沞点を持぀炭化氎玠およびハ
ロゲン化炭化氎玠で、トル゚ン、キシレン、クロ
ルベンれンおよび−ゞクロルベンれンのような
ものである。
本発明による匏で衚わされるヘキサヒドロ−
−トリアゞン−N′N″−トリス
−カルボン酞゚ステルず匏で衚わされる亜リン
酞の゚ステルの反応は、枩床範囲90ないし150℃
で行なわれ、120〜150℃が奜たしい。
匏で衚わされる亜リン酞の奜たしい゚ステル
は、R1が炭玠原子数ないしのアルキル基で
ある。同様に非垞に適切なものは亜リン酞のビス
−−シアノ゚チル゚ステルおよびビス−
−トリクロル゚チル゚ステルであ
る。なぜなら、−シアノ゚チル基および
−トリクロル゚チル基は加氎分解により特
に容易に脱離するこずができるからである。
匏で衚わされるヘキサヒドロ−−
トリアゞン−N′N″−トリス−カルボン酞
゚ステルず匏で衚わされる亜リン酞の゚ステル
は抂しお理論量で反応される。匏で衚わされる
亜リン酞の゚ステルの10モルたでのわずかに過
剰の䜿甚は特に有利に行なわれる。
匏で衚わされるヘキサヒドロ−−
トリアゞン−N′N″−トリス−カルボン酞
゚ステルず匏で衚わされる亜リン酞の゚ステル
ずの反応で埗られる匏で衚わされる−カルボ
キシ−アミノメチルホスホン酞誘導䜓の加氎分解
のために、氎たたは氎ず有機溶媒ずの混合物、䟋
えば氎ずアセトニトリル、メタノヌルもしくぱ
タノヌルのような氎性反応媒䜓を䜿甚するこずが
できる。䜿甚し埗る匷酞ずしおは、䟋えば塩酞、
臭化氎玠酞、ペり化氎玠酞、硫酞、リン酞および
−トル゚ンスルホン酞である。ハロゲン化氎玠
酞が特に奜適で、特に塩酞および臭化氎氎玠酞で
ある。匏で衚わされる−カルボキシ−アミノ
メチルホスホン酞誘導䜓の加氎分解は高枩で行な
われ、反応溶媒の還流枩床䞋で行なわれるのが奜
たしい。
アルキル基ずしおのおよびR1基は盎鎖たた
は枝分れ鎖であ぀お良い。およびR1のプニ
ル基は未眮換もしくは反応に䞍掻性な眮換基、䟋
えばハロゲン原子、䜎玚アルキル、アルコキシ、
シアノおよびニトロにより眮換するこずもでき
る。同様のこずがR1のベンゞル基に぀いおも適
甚できる。
本発明よる方法で奜たしい具䜓䟋に埓えば、ア
ミノメチルホスホン酞は、匏で衚わされるヘキ
サヒドロ−−トリアゞン−N′
N″−トリス−カルボン酞゚ステルにおいおが
メチルたたぱチル基を衚わす化合物を、䜿甚す
る匏のヘキサヒドロ−−トリアゞン
−N′N″−トリス−カルボン酞゚ステルに
察しないしモルの䞉北化ホり玠゚ヌテル錯
䜓の存圚䞋、120ないし150℃の枩床で、匏で衚
わされる亜リン酞の゚ステルにおいおR1が炭玠
原子数ないしのアルキル基、−シアノ゚チ
ル基もしくは−トリクロル゚チル基を
衚わす化合物ず反応させ、匏で衚わされる−
カルボキシ−アミノメチルホスホン酞誘導䜓䞭、
がメチルもしくぱチル基でR1が炭玠原子数
ないしのアルキル基、−シアノ゚チル基も
しくは−トリクロル゚チル基を衚わす
化合物を埗続いおこの誘導䜓を氎性媒䜓䞭塩酞
たたは臭化氎玠酞の存圚䞋、反応溶液の還流枩床
䞋で加氎分解を行ないアミノメチルホスホン酞を
埗る方法である。
アミノメチルホスホン酞の補造のための本発明
方法は、これたで公知の補法ずは異なり、䞡反応
段階、すなわち匏で衚わされるヘキサヒドロ−
−トリアゞン−N′N″−トリス
−カルボン酞゚ステルず匏で衚わされる亜リン
酞の゚ステルずの反応、続いお匏で衚わされる
−カルボキシ−アミノメチルホスホン酞誘導䜓
の加氎分解の䞡反応においお有利な方法であり、
容易に保持し埗る反応条件䞋で特に定量的収率を
䞎えるこずである。曎に、出発物質ずしおの匏
で衚わされるヘキサヒドロ−−トリア
ゞン−N′N″−トリス−カルボン酞゚ステ
ルは盞圓する尿玠ずホルムアルデヒドずの反応で
簡単に、特に定量的収率で埗るこずができ、本発
明方法は商業的芏暡でのアミノメチルホスホン酞
の経枈的補造方法ずしお特に拡倧される点で奜た
しいものである。
以䞋、実斜䟋にお本発明の補造方法をより詳现
に説明する。
実斜䟋  −ゞ゚チル−−゚トキシカルボニル−
アミノメチル−ホスホネヌトの補法 ヘキサヒドロ−−トリアゞン−
N′N″−トリス−カルボン酞゚ステル20.22
0.066モルおよび亜リン酞ゞ゚チル28.4ml
0.22モルの混合物䞭に、撹拌䞋、内枩125℃に
お䞉フツ化ホり玠゚ヌテル錯塩mlを加える。次
いで反応混合物の枩床を150℃たであげる。150℃
にお時間撹拌埌、曎に䞉フツ化ホり玠゚ヌテル
錯塩mlを加える。この段階で反応混合物䞭の枩
床は䞀時的に105℃たで䞋がるが、匕き続きゆ぀
くりず150℃たで再び䞊昇させる。その埌反応混
合物を150℃にお再床時間撹拌する。次いでた
やすく揮発する成分を高床真空蒞留で留去し、残
枣ずしお48.0100理論量の−ゞ゚
チル−−゚トキシカルボニル−アミノメチルホ
スホネヌトを埗る。成積䜓は曎に粟補するこずな
く盎接次の加氎分解ぞ䜿甚するこずができる。こ
のものの沞点は130℃0.15Torr.である。
実斜䟋  アミノメチルホスホン酞の補法 −ゞ゚チル−−゚トキシカルボニル−
アミノメチルホスホネヌト実斜䟋からの粗生
成物23.90.1モル䞭に20塩酞100mlを加
え、混合物を20時間環流加熱する。その埌塩酞を
枛圧留去し、残留物ずしお12.6の実質的に玔粋
なアミノメチルホスホン酞を埗る。残留物を氎
アセナンから再結晶し9.4理論量の84.7
の玔粋なアミノメチルホスホン酞を融点277−281
℃ずしお埗る。
実斜䟋  実斜䟋に蚘茉の方法に埓い、觊媒ずしお䞉フ
ツ化ホり玠゚ヌテル錯塩を䜿甚し次の生成物を埗
た。
−−ゞ゚チル−−メトキシカルボニル
−アミノメチルホスホネヌト、沞点130℃
0.08Torr.、ヘキサヒドロ−−トリ
アゞン−N′N″−トリス−カルボン酞メ
チル゚ステルず亜リン酞ゞ゚チルの反応より埗
る。
−−ゞメチル−−メトキシカルボニル
−アミノメチルホスホネヌト、沞点125℃
0.08Torr.ヘキサヒドロ−−トリ
アゞン−N′N″−トリス−カルボン酞メ
チル゚ステルず亜リン酞ゞメチルの反応より埗
る。および −−ゞメチル−−゚トキシカルボニル
−アミノメチルホスホネヌト、沞点130℃
0.1Torr.ヘキサヒドロ−−トリア
ゞン−N′N″−トリス−カルボン酞゚チ
ル゚ステルず亜リン酞ゞ゚チルの反応より埗
る。
これらの生成物の塩酞氎溶液もしくは臭化氎玠
酞氎溶液による加氎分解によりアミノメチルホス
ホン酞を理論量の85〜95の収率で埗られる。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  次匏 で衚わされるアミノメチルホスホン酞を補造する
    に際しお、次匏 匏䞭、は炭玠原子数ないしのアルキル
    基たたはプニル基を衚わす。 で衚わされるヘキサヒドロ−−トリア
    ゞン−N′N″−トリス−カルボン酞゚ステ
    ルを、觊媒ずしおのルむス酞の存圚䞋、90ないし
    150℃にお次匏 匏䞭、R1は炭玠原子数ないしのアルキ
    ル基、プニル基、ベンゞル基、−シアノ゚チ
    ル基たたは−トリクロル゚チル基を衚
    わす。 で衚わされる亜リン酞の゚ステルず反応させ、次
    匏 匏䞭、およびR1は前蚘ず同じ意味を衚わ
    す。 で衚わされる−カルボキシアミノメチルホスホ
    ン酞誘導䜓を埗、続いおこの誘導䜓を氎性媒䜓䞭
    匷酞の存圚䞋加氎分解を行なうこずを特城ずする
    前蚘匏で衚わされるアミノメチルホスホン酞の
    補造方法。  䜿甚するルむス酞が䞉北化ホり玠゚ヌテル錯
    塩、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄た
    たは塩化アルミニりムである特蚱請求の範囲第
    項蚘茉の補造方法。  䜿甚するルむス酞が䞉北化ホり玠゚ヌテル錯
    塩である特蚱請求の範囲第項蚘茉の補造方法。  ルむス酞を匏で衚わされるヘキサヒドロ−
    −トリアゞン−N′N″−トリス
    −カルボン酞゚ステルに察しないし10モル量
    䜿甚する特蚱請求の範囲第項蚘茉の補造方法。  ルむス酞を匏で衚わされるヘキサヒドロ−
    −トリアゞン−N′N″−トリス
    −カルボン酞゚ステルに察しないしモル量
    䜿甚する特蚱請求の範囲第項蚘茉の補造方法。  匏で衚わされるヘキサヒドロ−
    −トリアゞン−N′N″−トリス−カルボン
    酞゚ステルず匏で衚わされる亜リン酞の゚ステ
    ルずの反応を120ないし150℃の枩床䞋で行なう特
    蚱請求の範囲第項蚘茉の補造方法。  出発物質ずしお匏においおがメチル基た
    たぱチル基を衚わすヘキサヒドロ−
    −トリアゞン−N′N″−トリス−カルボン
    酞゚ステルを䜿甚する特蚱請求の範囲第項蚘茉
    の補造方法。  出発物質ずしお、匏においおR1が炭玠原
    子数ないしのアルキル基、−シアノ゚チル
    基たたは−トリクロル゚チル基を衚わ
    す亜リン酞の゚ステルを䜿甚する特蚱請求の範囲
    第項蚘茉の補造方法。  匏で衚わされる亜リン酞の゚ステルをな
    いし10モル過乗に䜿甚する特蚱請求の範囲第
    項蚘茉の補造方法。  匏で衚わされる−カルボキシ−アミノ
    メチルホスホン酞誘導䜓の匷酞の存圚䞋加氎分解
    を行なう堎合に䜿甚する該匷酞が塩酞、臭化氎玠
    酞、ペり化氎玠酞、硫酞、リン酞たたは−トル
    ゚ンスルホン酞である特蚱請求の範囲第項蚘茉
    の補造方法。  匏で衚わされる−カルボキシ−アミノ
    メチルホスホン酞誘導䜓の匷酞の存圚䞋加氎分解
    を行なう堎合に䜿甚する該匷酞がハロゲン化氎玠
    酞である特蚱請求の範囲第項蚘茉の補造方法。  匏で衚わされる−カルボキシ−アミノ
    メチルホスホン酞誘導䜓の加氎分解を氎たたは氎
    ずアセトニトリル、メタノヌルもしくぱタノヌ
    ルの混合物䞭反応媒䜓の還流枩床で行なう特蚱請
    求の範囲第項蚘茉の補造方法。  匏で衚わされるヘキサヒドロ−
    −トリアゞン−N′N″−トリス−カルボ
    ン酞゚ステル䞭、がメチルたたぱチル基のも
    のを、䜿甚する匏のヘキサヒドロ−
    −トリアゞン−N′N″−トリス−カルボン
    酞゚ステルに察しないしモルの䞉北化ホり
    玠゚ヌテル錯塩の存圚䞋、120ないし150℃の枩床
    䞋、匏で衚わされる亜リン酞の゚ステル䞭、
    R1が炭玠原子数ないしのアルキル基、−
    シアノ゚チル基もしくは−トリクロル
    ゚チル基である化合物ず反応させ、匏で衚わさ
    れる−カルボキシ−アミノメチルホスホン酞誘
    導䜓䞭、がメチルもしくぱチル基でR1が炭
    玠原子数ないしのアルキル基、−シアノ゚
    チル基もしくは−トリクロル゚チル基
    である化合物を埗続いおこの誘導䜓を氎性媒䜓
    䞭、塩酞たたは臭化氎玠酞の存圚䞋、反応媒䜓の
    還流枩床䞋で加氎分解を行ないアミノメチルホス
    ホン酞を埗る特蚱請求の範囲第項蚘茉の補造方
    法。
JP57193281A 1981-11-02 1982-11-02 アミノメチルホスホン酞の補造方法 Granted JPS5888396A (ja)

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