JP3236612B2 - アシルアミノメタンホスホン酸およびアシルアミノメタンホスフィン酸の製造方法 - Google Patents
アシルアミノメタンホスホン酸およびアシルアミノメタンホスフィン酸の製造方法Info
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Description
ミノメタンホスホン酸およびアシルアミノメチルホスフ
ィン酸の製造方法。
たれるアミノメタンホスホン酸を製造する為の価値ある
中間生成物である。特に、グリオキシル酸との反応によ
って除草効果のあるN−ホスホノメチルグリシンを製造
するための中間生成物として適してもいる(米国特許第
4,851,159号明細書参照)。従来にはアシルアミノメタ
ンホスホン酸は例えばN−ヒドロキシメチルアミドと三
塩化燐との反応および続いての塩酸での加水分解によっ
て得られる(米国特許第2,304,156号明細書;米国特許
第2,328,358号明細書)。この方法の特別な欠点は、不
所望の副生成物として発癌作用物質と見なされているビ
スクロロメチルエーテルを形成する点である。ビスクロ
ロメチルエーテルは、加水分解段階にホルムアルデヒド
と塩酸との反応によて生じ、その際にホルムアルデヒド
が製造条件次第でN−ヒドロキシメチルアミド中に痕跡
量含まれる。ビスクロロメチルエーテルを残り無く除く
には、多大な費用の掛かる精製段階が必要とされる。従
って、ビスクロロメチルエーテルの形成を回避しそして
工業的に使用可能である方法を提供することが課題であ
る。
はフェニルでありそしてR2は水素原子、炭素原子数1〜
6、殊に1〜3のアルキル、ベンジルあるいはフェニル
を意味し、これは非置換であるかまたは炭素原子数1〜
4のアルキル、炭素原子数1〜4のアルコキシおよびハ
ロゲン原子の群の内の一つまたは複数の残基で置換され
ている。〕 で表される化合物を製造する方法において、式II R2−CO−NH−CH2−OH (II) 〔式中、R2は上述の意味を有する。〕 で表される化合物を式III 〔式中、R1は上述の意味を有する。〕 で表される化合物と、式IIの化合物を基準として少なく
とも等モル量の無水酢酸の存在下に反応させることを特
徴とする、上記方法である。
R1が水酸基である場合は除かれる−を有する上記式Iの
アシルアミノメチルホスフィン酸でもある。これらの化
合物は、生物活性を示すアミノメチルホスフィン酸を製
造する価値ある中間生成物である(S.L.Maier、“リン
および硫黄(Phosphorus and Sulfur)”14の“アミ
ノホスホン酸の化学における進歩(Advances in the
Chemistry of Aminophosphonic Acids)”、195〜
322(1983)およびその中で引用されている文献)。特
に、R1およびR2が上述の特に有利な意味を有する式Iの
アシルアミノメチルホスフィン酸が有利である。
下のものが適する:N−ヒドロキシメチルホルムアミド、
N−ヒドロキシメチルアセトアミドおよび特にN−ヒド
ロキシメチルベンズアミド。一般式IIIの酸には例えば
亜リン酸、メタ亜ホスホン酸およびベンゼン亜ホスホン
酸がある。式IIおよびIIIの化合物は一般に公知であ
り、市販されているかまたは公知の方法で容易に製造で
きる。
ル比である。出発物質である一般式IIのN−ヒドロキシ
メチルアミド、一般式IIIの酸および無水酢酸は、1:1:
1.5〜1:(1〜1.1):8のモル比、特に1:1:1.5〜1:1:4の
モル比で使用するのが特に有利である。更に過剰の無水
酢酸の使用も可能である。
ことができる。
トン性有機溶剤、例えば酢酸、アセトニトリル、テトラ
ヒドロフランまたはジオキサンが適している。特に有利
な溶剤は酢酸である。溶剤を使用しなくともよい。
水酢酸を5〜60℃の温度範囲で場合によっては冷却しな
がら混合することによって実施するのが有利である。こ
の場合、各成分の添加順序に制限がない。例えば、無水
酢酸に、酢酸のような有機溶剤に一般式IIIの酸を溶解
した溶液を配量供給し、次いでこの混合物に、場合によ
っては溶剤に溶解した一般式IIのN−ヒドロキシメチル
アミドを回分的にまたは連続的に添加してもよい。混合
の終了後に場合によっては更に、例えば10〜60℃の温度
範囲内で後攪拌し、そして次に加熱して好ましくは還流
させる。反応の終了後に、反応混合物中に含まれる過剰
量の無水酢酸を水の添加および更に加熱によって初めて
加水分解することが重要であり得る。その後に、予備重
合の際に場合によっては添加された有機溶剤を、例えば
場合によっては減圧下での蒸留によって除くのが有利で
ある。しかしながら反応生成物は場合によっては結晶状
態で有機溶剤から吸引濾過によって分離することができ
る。
を5〜60℃の温度で場合によっては冷却しながら混合し
そして次に完全に反応させる為に還流状態で加熱する。
えば、最初に易揮発性物質を減圧下に留去することが可
能である。生じる残留物を次に場合によっては加熱下に
水または他の溶剤、例えばアセトン、アセトニトリル、
酢酸、メタノール、エタノールまたはイソプロパノール
と一緒に加熱しながら溶解する。生じる結晶質生成物を
次に分離しそして通例の方法によって更に精製すること
ができる。更に、反応混合物中に含まれる過剰量の無水
酢酸を、更に後処理する以前に加水分解するのも有利で
あり得る。N−ヒドロキシメチルベンズアミドを用いる
場合には、次に最終生成物の一部が該混合物を冷却する
やいなや結晶状態で得ることができる。
できる。R2がメチルでない場合には、式(I)の最終生
成物はR2がメチルを意味する式(I)の化合物を副生成
物として多少含有し得る点が本方法の特異な点である。
米国特許第4,851,159号明細書の方法に対応する最終生
成物の後処理には、この多少の副生成物が本発明の方法
の主成分と同様に価値がある。所望の場合には、この副
生成物を通例の分離方法によって分離できる。
を200mlの酢酸に添加しそして10℃に冷却する。次い
で、200mlの酢酸に164g(2.0mol)の亜リン酸を溶解し
た溶液をこの温度で攪拌および冷却下に15分間に滴加す
る。滴加の終わり頃に殆ど透明な溶液が生じる。今度
は、521g(5.11mol)の無水酢酸を迅速に滴加し、その
際に温度は冷却しながら53℃を超えさせない。次に2.5
時間還流状態を維持する。室温に冷却した後に冷却下に
56g(3.1mol)の水を添加する。次いで30分間、還流状
態を維持する。次いで減圧下に約110mlの酢酸を留去し
そして残留する反応溶液を夜通し攪拌しそして次に吸引
濾過する。約70%のベンゾイルアミノメタンホスホン
酸、約20%のアセチルアミノメタンホスホン酸およびそ
の他のホスホン酸より成る340g(理論値の約80%)の結
晶質混合物が得られる(31P−NMR−スペクトルによ
る)。この混合物は156〜163℃の融点を有している。水
で再結晶化した後に176〜177℃の融点のベンゾイルアミ
ノメタンホスホン酸が得られる。
攪拌および冷却のもとで、164g(2.0mol)の亜リン酸と
300mlの酢酸との溶液を1時間の間に滴加する。次いで3
02g(2.0mol)のN−ヒドロキシメチルベンズアミドを5
0分の間に冷却下に10〜15℃で滴加する。10℃で20分間
更に攪拌する。反応混合物を次いで還流状態に2.5時間
維持しそして水に冷却する。今度は61g(3.39mol)の水
を冷却および攪拌下に25〜30℃で滴加する。次に再び還
流状態に維持する。冷却後に夜通し攪拌しそして次に吸
引濾過する。320g(理論値の約75%)の粗ベンゾイルア
ミノメタンホスホン酸が得られる。母液から別の粗酸を
得ることができる。
度は40mlの酢酸に16g(0.2mol)のメタン亜ホスホン酸
を溶解した溶液を攪拌および冷却のもとで添加する。次
いで、30.2g(0.2mol)のN−ヒドロキシメチルベンズ
アミドを10分の間に冷却下に回分的に添加する。次に冷
却を止めると、内部温度が32℃にまで上昇する。次に還
流下に2.5時間加熱しそしてその後に冷却する。次いで
減圧状態で95℃の内部温度まで濃縮する。残留物として
46.7gの粗生成物が残る。これを水に加熱状態で溶解し
そして熱い状態で吸引濾過処理する。濾液を減圧状態で
再び95℃まで濃縮する。38.3gの結晶質残留物が得られ
る。水での再結晶処理の後に、24g(理論値の56%)が
得られる。
−(メチル)−ホスフィン酸;試料のCHNP−分析で以下
が得られる: 実施例4 43.2g(0.424mol)の無水酢酸を10℃に冷却する。今
度は40mlの酢酸に28.2g(0.2mol)のベンゼン亜ホスホ
ン酸を溶解した溶液を攪拌および冷却のもとで15℃で滴
加する。次いで、30.2g(0.2mol)のN−ヒドロキシメ
チルベンズアミドを10分の間に冷却下に回分的に15℃で
添加する。次に冷却を止めると、内部温度が35℃にまで
上昇する。次に還流下に3時間加熱しそしてその後に冷
却する。今度は175mlの水を添加し、その際に温度が35
℃に上昇する。再び還流下に加熱し、次いで再び攪拌下
に冷却する。再結晶処理の後に、158〜160℃の融点を持
つ全部で40g(理論値の73%)のベンゾイルアミノメチ
ル−フェニル−ホスフィン酸が得られる。CHNP−分析で
以下が得られる: 実施例5 40.8g(0.4mol)の無水酢酸を10℃に冷却する。次に
攪拌および冷却下に16.4g(0.2mol)の亜リン酸を5分
の間に添加する。次に17.8g(0.2mol)のN−ヒドロキ
シメチルアセトアミドを10分の間に10℃で添加する。最
初に室温にさせそして次に2.5時間、還流状態にまで加
熱する。次いで冷却する。10mlの水を回分的に添加す
る。その後に還流状態に1時間維持する。次いで10mlの
酢酸および1.5mlの水より成る混合物を添加しそして後
攪拌する。結晶化および吸引濾過の後に、188〜194℃の
融点を持つ全部で16.3g(理論値の53%)のアセチルア
ミノメタン−ホスホン酸が得られる。
Claims (12)
- 【請求項1】式I 【化1】 〔式中、R1は水酸基、炭素原子数1〜4のアルキルまた
はフェニルでありそしてR2は水素原子、炭素原子数1〜
6のアルキル、ベンジルあるいはフェニルを意味し、こ
れは非置換であるかまたは炭素原子数1〜4のアルキ
ル、炭素原子数1〜4のアルコキシおよびハロゲン原子
の群の内の一つまたは複数の残基で置換されている。〕 で表される化合物を製造する方法において、式II R2−CO−NH−CH2−OH (II) 〔式中、R2は上述の意味を有する。〕 で表される化合物を式III 【化2】 〔式中、R1は上述の意味を有する。〕 で表される化合物と、式IIの化合物を基準として少なく
とも等モル量の無水酢酸の存在下に反応させることを特
徴とする、上記方法。 - 【請求項2】R1が水酸基である請求項1に記載の方法。
- 【請求項3】R1がメチル、エチルまたはフェニルを意味
する請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】R2が水素原子、炭素原子数1〜3のアルキ
ル、ベンジルまたはフェニルを意味する請求項1、2ま
たは3に記載の方法。 - 【請求項5】R2がフェニルを意味する請求項1、2また
は3に記載の方法。 - 【請求項6】式IIおよびIIIの化合物および無水酢酸を
1:1:1.5〜1:(1〜1.1):8のモル比で反応させる請求項
1〜5のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項7】1:1:1.5〜1:1:4のモル比である請求項6に
記載の方法。 - 【請求項8】反応の終了後に過剰の無水酢酸を加水分解
する請求項6または7に記載の方法。 - 【請求項9】式IIの化合物とIIIの化合物との反応を有
機溶剤の存在下に実施する請求項1〜7のいずれか一つ
に記載の方法。 - 【請求項10】溶剤が酢酸である請求項9に記載の方
法。 - 【請求項11】式(I) 【化3】 〔式中、R1はフェニルでありそしてR2は水素原子、炭素
原子数1〜6のアルキル、ベンジルあるいはフェニルを
意味し、これは非置換であるかまたは炭素原子数1〜4
のアルキル、炭素原子数1〜4のアルコキシおよびハロ
ゲン原子の群の内の一つまたは複数の残基で置換されて
いる。〕 で表される化合物。 - 【請求項12】R1がフェニルでありそしてR2が水素原
子、メチルまたはフェニルを意味する請求項11に記載の
化合物。
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