JPH0339307A - アクリルエラストマーの製造法 - Google Patents
アクリルエラストマーの製造法Info
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Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、アクリルエラストマーの製造法に関する。更
に詳しくは、二次加硫を省略してもきわめて良好な圧縮
永久歪および耐熱性を有する加硫物を与えるエポキシ基
含有アクリルエラストマーの製造法に関する。
に詳しくは、二次加硫を省略してもきわめて良好な圧縮
永久歪および耐熱性を有する加硫物を与えるエポキシ基
含有アクリルエラストマーの製造法に関する。
エポキシ基を架橋サイトとするアクリルエラストマーの
加硫系としては、ポリアミン、ポリアミン塩、ジチオカ
ルバミン酸塩、有機カルボン酸アンモニウム塩、イミダ
ゾール類などを架橋剤として用いたものが一般的である
が、これらの加硫系をハロゲンまたは活性ハロゲンを架
橋サイトとするアクリルエラストマーの加硫系、例えば
イオウまたはイオウ供与性化合物−脂肪酸アルカリ金属
塩、トリチオシアヌール酸−脂肪酸アルカリ金属塩、ジ
チオカルバミン酸塩などを架橋剤として用いたものと比
較して、加硫速度が遅いため長時間の二次加硫が必要で
あり、その上二次加硫物の圧縮永久歪や耐熱性にも劣る
という欠点がみられる。
加硫系としては、ポリアミン、ポリアミン塩、ジチオカ
ルバミン酸塩、有機カルボン酸アンモニウム塩、イミダ
ゾール類などを架橋剤として用いたものが一般的である
が、これらの加硫系をハロゲンまたは活性ハロゲンを架
橋サイトとするアクリルエラストマーの加硫系、例えば
イオウまたはイオウ供与性化合物−脂肪酸アルカリ金属
塩、トリチオシアヌール酸−脂肪酸アルカリ金属塩、ジ
チオカルバミン酸塩などを架橋剤として用いたものと比
較して、加硫速度が遅いため長時間の二次加硫が必要で
あり、その上二次加硫物の圧縮永久歪や耐熱性にも劣る
という欠点がみられる。
しかしながら、エポキシ基を架橋サイトとするアクリル
エラストマーは、金属腐食性が少ないという利点がある
ので、それの有効利用を図るため、加硫速度や圧縮永久
歪の改善についての検討がなされている。
エラストマーは、金属腐食性が少ないという利点がある
ので、それの有効利用を図るため、加硫速度や圧縮永久
歪の改善についての検討がなされている。
即ち、加硫系の架橋剤として、次のようなものが提案さ
れている。
れている。
特開昭61−26620号公報二号公報化2個以上のカ
ルボキシル基を含有する化合物−第4級アンモニウム塩
またはホスホニウム塩 特開昭61−235424号公報:多価カルボン酸無水
物−第4級アンモニウム塩またはホスホニウム塩特gI
J昭62−236849号公報:多価カルボン酸(無水
物)−第4級アンモニウム塩またはホスホニウム塩−尿
素類 特開昭63−57628−9号公報二分子中L: −C
XNHCY −(X、Y:0またはS)結合を2個以上
有する有機化合物−第4級アンモニウム塩またはホスホ
ニウム塩(−尿素結合またはチオ尿素結合を有する化合
物)特開昭63−218752号公報:分子中ニー C
XNHCY −(X、Y:OまたはS)結合を2個以上
有する有機化合物−グアニジン系化合物 また、架橋点となるエポキシ基に他の架橋点を組合せた
アクリルエラストマーまたはそれの加硫系としては、次
のようなものが提案されている。
ルボキシル基を含有する化合物−第4級アンモニウム塩
またはホスホニウム塩 特開昭61−235424号公報:多価カルボン酸無水
物−第4級アンモニウム塩またはホスホニウム塩特gI
J昭62−236849号公報:多価カルボン酸(無水
物)−第4級アンモニウム塩またはホスホニウム塩−尿
素類 特開昭63−57628−9号公報二分子中L: −C
XNHCY −(X、Y:0またはS)結合を2個以上
有する有機化合物−第4級アンモニウム塩またはホスホ
ニウム塩(−尿素結合またはチオ尿素結合を有する化合
物)特開昭63−218752号公報:分子中ニー C
XNHCY −(X、Y:OまたはS)結合を2個以上
有する有機化合物−グアニジン系化合物 また、架橋点となるエポキシ基に他の架橋点を組合せた
アクリルエラストマーまたはそれの加硫系としては、次
のようなものが提案されている。
特開昭61−26621号公報:エポキシ基およびカル
ボキシル基を含有するアクリルエラストマーに、第4級
アンモニウム塩またはホスホニウム塩−尿素類またはア
ミド類加硫系を配合 特開昭61−73708号公報ニアクリル酸エステル−
ジエン系単量体−エポキシ基含有ビニル単量体(−モノ
ビニル系またはモノビニリデン系単量体)共重合体より
なるアクリルエラストマー しかしながら、これらのアクリルエラストマーまたはそ
の加硫系においては、良好な圧縮永久歪を有する加硫物
を得るにはやはり二次加硫が必要であり、その上二次加
硫前後の常態物性値の変化が大きく、耐熱性も従来レベ
ルにとどまっているのが実情である。
ボキシル基を含有するアクリルエラストマーに、第4級
アンモニウム塩またはホスホニウム塩−尿素類またはア
ミド類加硫系を配合 特開昭61−73708号公報ニアクリル酸エステル−
ジエン系単量体−エポキシ基含有ビニル単量体(−モノ
ビニル系またはモノビニリデン系単量体)共重合体より
なるアクリルエラストマー しかしながら、これらのアクリルエラストマーまたはそ
の加硫系においては、良好な圧縮永久歪を有する加硫物
を得るにはやはり二次加硫が必要であり、その上二次加
硫前後の常態物性値の変化が大きく、耐熱性も従来レベ
ルにとどまっているのが実情である。
本発明の目的は、従来公知のエポキシ基含有ア久歪およ
び耐熱性の点ですぐれた加硫物を与えるエポキシ基含有
アクリルエラストマーの製造法を提供することにある。
び耐熱性の点ですぐれた加硫物を与えるエポキシ基含有
アクリルエラストマーの製造法を提供することにある。
かかる本発明の目的は、(a)炭素数1〜8のアルキル
基を有するアルキルアクリレートおよび/または(b)
炭素数2〜8のアルコキシアルキル基を有するアルコキ
シアルキルアクリレート、(C)エポキシ基含有ビニル
単量体および(d)α、β−不飽和カルボン酸アリール
エステルを共重合させ、アクリルエラストマーを製造す
ることによって遠戚される。
基を有するアルキルアクリレートおよび/または(b)
炭素数2〜8のアルコキシアルキル基を有するアルコキ
シアルキルアクリレート、(C)エポキシ基含有ビニル
単量体および(d)α、β−不飽和カルボン酸アリール
エステルを共重合させ、アクリルエラストマーを製造す
ることによって遠戚される。
アクリルエラストマーを形成する(a)成分のアルキル
アクリレートとしては1例えばメチルアクリレート、エ
チルアクリレート、n−またはイソ−プロピルアクリレ
ート、n−またはイソ−ブチルアクリレート、n−アミ
ルアクリレート、n−へキシルアクリレート、2−エチ
ルへキシルアクリレート。
アクリレートとしては1例えばメチルアクリレート、エ
チルアクリレート、n−またはイソ−プロピルアクリレ
ート、n−またはイソ−ブチルアクリレート、n−アミ
ルアクリレート、n−へキシルアクリレート、2−エチ
ルへキシルアクリレート。
n−オクチルアクリレート、2−シアノエチルアクリレ
ートなどの炭素数1〜8のアルキル基(シアノ基などの
置換基を有するものを含む)を有するアルキルアクリレ
ートが用いられ、好ましくはエチルアクリレートまたは
n−ブチルアクリレートが用いられる。
ートなどの炭素数1〜8のアルキル基(シアノ基などの
置換基を有するものを含む)を有するアルキルアクリレ
ートが用いられ、好ましくはエチルアクリレートまたは
n−ブチルアクリレートが用いられる。
また、(b)成分のアルコキシアルキルアクリレートと
しては、例えばメトキシメチルアクリレート、エトキシ
メチルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート
、2−エトキシエチルアクリレート、2−ブトキシエチ
ルアクリレートなどの炭素数2〜8のアルコキシアルキ
ル基を有するアルコキシアルキルアクリレートが用いら
れ、好ましくは2−メドキシエチルアクリレート、2−
エトキシエチルアクリレートが用いられる。
しては、例えばメトキシメチルアクリレート、エトキシ
メチルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート
、2−エトキシエチルアクリレート、2−ブトキシエチ
ルアクリレートなどの炭素数2〜8のアルコキシアルキ
ル基を有するアルコキシアルキルアクリレートが用いら
れ、好ましくは2−メドキシエチルアクリレート、2−
エトキシエチルアクリレートが用いられる。
これらの(、)成分および(b)成分の両者が用いられ
る場合には前者が約10〜90モル2、また後者が約9
0〜lOモル2の割合で一般に用いられる。
る場合には前者が約10〜90モル2、また後者が約9
0〜lOモル2の割合で一般に用いられる。
これら(a)成分および/または(b)成分の一部、具
体的には約20重量%程度迄を他の共重合性単量体と置
換し、共重合させてもよい、かかる共重合性単量体とし
ては、例えばエチレン、プロピレン、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、アクリロニトリル。
体的には約20重量%程度迄を他の共重合性単量体と置
換し、共重合させてもよい、かかる共重合性単量体とし
ては、例えばエチレン、プロピレン、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、アクリロニトリル。
アクリルアミド、スチレン、酢酸ビニル、エチルビニル
エーテル、ブ′チルビニルエーテル、アルキルメタクリ
レート、ヒドロキシアルキルアクリレ−ト、アルコキシ
アルキルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート
、ベンジルアクリレート、フルフリルアクリレートなど
が挙げられる。
エーテル、ブ′チルビニルエーテル、アルキルメタクリ
レート、ヒドロキシアルキルアクリレ−ト、アルコキシ
アルキルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート
、ベンジルアクリレート、フルフリルアクリレートなど
が挙げられる。
更に、(a)成分および/または(b)成分の一部、具
体的には約10重量%程度迄をジエン系単量体と置換し
、共重合させてもよい、かかるジエン系単量体としては
、例えばジビニルベンゼン、ピペリレン、イソプレン、
ペンタジェン、ビニルシクロヘキセン、クロロプレン、
ブタジェン、メチルブタジェン、シクロペンタジェン、
メチルペンタジェン、エチレングリコールジアクリレー
ト、プロピレングリコールジアクリレート、エチレング
リコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメ
タクリレートなどが挙げられる。
体的には約10重量%程度迄をジエン系単量体と置換し
、共重合させてもよい、かかるジエン系単量体としては
、例えばジビニルベンゼン、ピペリレン、イソプレン、
ペンタジェン、ビニルシクロヘキセン、クロロプレン、
ブタジェン、メチルブタジェン、シクロペンタジェン、
メチルペンタジェン、エチレングリコールジアクリレー
ト、プロピレングリコールジアクリレート、エチレング
リコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメ
タクリレートなどが挙げられる。
(C)成分のエポキシ基含有ビニル単量体としては、例
えばビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエー
テル、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレ
ートなどが用いられる。
えばビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエー
テル、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレ
ートなどが用いられる。
また、(d)成分のα、β−不飽和カルボン酸アリール
エステルとしては、アクリル酸、メタクリル酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマル酸などのα。
エステルとしては、アクリル酸、メタクリル酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマル酸などのα。
β−不飽和カルボン酸のフェニルエステル、クロロフェ
ニルエステル、ブロモフェニルエステル、ニトロフェニ
ルエステル、アルキルフェニルエステル、アルコキシフ
ェニルエステルなど、具体的にはフェニルアクリレート
、フェニルメタクリレート、p−クロロフェニルアクリ
レート、p−クロロフェニルメタクリレート、p−ブロ
モフェニルアクリレート、P−ブロモフェニルメタクリ
レート、p−ニトロフェニルアクリレート、P−ニトロ
フェニルメタクリレート、フェニルクロトネート、ジフ
ェニルマレエート、ジフェニルフマレートなどが用いら
れる。
ニルエステル、ブロモフェニルエステル、ニトロフェニ
ルエステル、アルキルフェニルエステル、アルコキシフ
ェニルエステルなど、具体的にはフェニルアクリレート
、フェニルメタクリレート、p−クロロフェニルアクリ
レート、p−クロロフェニルメタクリレート、p−ブロ
モフェニルアクリレート、P−ブロモフェニルメタクリ
レート、p−ニトロフェニルアクリレート、P−ニトロ
フェニルメタクリレート、フェニルクロトネート、ジフ
ェニルマレエート、ジフェニルフマレートなどが用いら
れる。
以上の各成分は、(a)成分および/または(b)成分
が約80〜99.8重量メ、好ましくは約90〜99重
量%、(C)成分が約0.1〜10重量算、好ましくは
約0.5〜5重量算、また(d)成分が約0.1〜10
重量2.好ましくは約0.2〜5重量2の割合で共重合
反応に供せられる。
が約80〜99.8重量メ、好ましくは約90〜99重
量%、(C)成分が約0.1〜10重量算、好ましくは
約0.5〜5重量算、また(d)成分が約0.1〜10
重量2.好ましくは約0.2〜5重量2の割合で共重合
反応に供せられる。
共重合反応は5通常用いられるラジカル重合開始剤の存
在下に、乳化重合、けん濁重合、溶液重合、塊状重合な
ど任意の重合方法で行われ、好ましくは乳化重合法で行
われる。なお2重合開始剤は、レドックス系としても用
いることができる。
在下に、乳化重合、けん濁重合、溶液重合、塊状重合な
ど任意の重合方法で行われ、好ましくは乳化重合法で行
われる。なお2重合開始剤は、レドックス系としても用
いることができる。
反応は1回分方式あるいは連続的または断続的な添加方
式など任意の方式により、約−1O〜100℃、好まし
くは約2〜80℃の温度で行われる0反応終了後の生成
重合体の分離は、用いられた重合方式によりそれぞれ異
なるが1例えば乳化重合やけん濁重合の場合には、反応
混合液に酸や多価金属塩などの凝固剤を添加することに
より行われ1分離された重合体は洗浄および乾燥工程を
経て、架橋剤による加硫に付される。
式など任意の方式により、約−1O〜100℃、好まし
くは約2〜80℃の温度で行われる0反応終了後の生成
重合体の分離は、用いられた重合方式によりそれぞれ異
なるが1例えば乳化重合やけん濁重合の場合には、反応
混合液に酸や多価金属塩などの凝固剤を添加することに
より行われ1分離された重合体は洗浄および乾燥工程を
経て、架橋剤による加硫に付される。
架橋剤としては、好ましくは次の2種類のものが用いら
れる。
れる。
(1)シアヌール酸類
シアヌール酸、イソシアヌール酸またはそれらのモノア
ルキル、モノアリール置換体、例えばモノメチル、モノ
エチル、モノフェニル置換体などが用いられる。
ルキル、モノアリール置換体、例えばモノメチル、モノ
エチル、モノフェニル置換体などが用いられる。
(2)第4級アンモニウム塩またはホスホニウム塩第4
級アンモニウム塩またはホスホニウム塩としては1次の
一般式で示されるものが用いられる。
級アンモニウム塩またはホスホニウム塩としては1次の
一般式で示されるものが用いられる。
(RJJJ4P)◆x −(Rz n z R3R4N
)←X−R1〜R4:炭素数1〜25のアルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アルキ ルアリール基、アラルキル基ま たはポリオキシアルキレン基で あり、あるいはこれらの内の2〜 3個がPまたはNと共に複素環構造 を形成することもできる r:cQ−1Br\工\)1504−1H2PO4−1
RCOO”、RO5O,−1R5O−1ROPO2H−
。
)←X−R1〜R4:炭素数1〜25のアルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アルキ ルアリール基、アラルキル基ま たはポリオキシアルキレン基で あり、あるいはこれらの内の2〜 3個がPまたはNと共に複素環構造 を形成することもできる r:cQ−1Br\工\)1504−1H2PO4−1
RCOO”、RO5O,−1R5O−1ROPO2H−
。
CO,−一などのアニオン
具体的には1例えばテトラエチルアンモニウムブロマイ
ド、テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチ
ルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウム
アイオダイド、n−ドデシルトリメチルアンモニウムブ
ロマイド、セチルジメチルベンジルアンモニウムクロラ
イド、メチルセチルジベンジルアンモニウムブロマイド
、セチルジメチルエチルアンモニウムブロマイド、オク
タデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、セチルピ
リジウムクロライド、セチルピリジウムブロマイド、セ
チルピリジウムアイオダイド、セチルピリジウムサルフ
ェート、テトラエチルアンモニウムアセテート、トリメ
チルベンジルアンモニウムベンゾエート、トリメチルベ
ンジルアンモニウム−p−トルエンスルホネート、トリ
メチルベンジルアンモニウムボレート、8−ベンジル−
1,8−ジアザビシクロ[5,4,OF−ウンデク−7
−エニウムクロライド、1,8−ジアザビシクロ[5,
4,Ol−ウンデセン−7−メチルアンモニウムメトサ
ルフェート、5−ベンジル−1,5−ジアザビシクロ[
4,3,0]−5−ノネニウムクロライド、5−ベンジ
ル−1,5−ジアザビシクロ[4゜3.0F−5−ノネ
ニウムブロマイド、5−ベンジル−1,5−ジアザビシ
クロ[4,3,01−5−ノネニウムテトラフルオロボ
レート、5−ベンジル−1,5−ジアザビシクロ[4,
3,0]−5−ノネニウムヘキサフルオロホスフエート
などの第4級アンモニウム塩、あるいは例えばテトラフ
ェニルホスホニウムクロライド、トリフェニルベンジル
ホスホニウムクロライド、トリフェニルベンジルホスホ
ニウムブロマイド、トリフェニルメトキシメチルホスホ
ニウムクロライド、トリフェニルメチルカルボニルメチ
ルホスホニウムクロライド、トリフェニルエトキシカル
ボニルメチルホスホニウムクロライド、トリオクチルベ
ンジルホスホニウムクロライド、トリオクチルメチルホ
スホニウムブロマイド、トリオクチルエチルホスホニウ
ムアセテート、トリオクチルエチルホスホニウムジメチ
ルホスフェート、テトラオクチルホスホニウムクロライ
ド、セチルジメチルベンジルホスホニウムクロライドな
どの第4級ホスホニウム塩が挙げられる。
ド、テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチ
ルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウム
アイオダイド、n−ドデシルトリメチルアンモニウムブ
ロマイド、セチルジメチルベンジルアンモニウムクロラ
イド、メチルセチルジベンジルアンモニウムブロマイド
、セチルジメチルエチルアンモニウムブロマイド、オク
タデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、セチルピ
リジウムクロライド、セチルピリジウムブロマイド、セ
チルピリジウムアイオダイド、セチルピリジウムサルフ
ェート、テトラエチルアンモニウムアセテート、トリメ
チルベンジルアンモニウムベンゾエート、トリメチルベ
ンジルアンモニウム−p−トルエンスルホネート、トリ
メチルベンジルアンモニウムボレート、8−ベンジル−
1,8−ジアザビシクロ[5,4,OF−ウンデク−7
−エニウムクロライド、1,8−ジアザビシクロ[5,
4,Ol−ウンデセン−7−メチルアンモニウムメトサ
ルフェート、5−ベンジル−1,5−ジアザビシクロ[
4,3,0]−5−ノネニウムクロライド、5−ベンジ
ル−1,5−ジアザビシクロ[4゜3.0F−5−ノネ
ニウムブロマイド、5−ベンジル−1,5−ジアザビシ
クロ[4,3,01−5−ノネニウムテトラフルオロボ
レート、5−ベンジル−1,5−ジアザビシクロ[4,
3,0]−5−ノネニウムヘキサフルオロホスフエート
などの第4級アンモニウム塩、あるいは例えばテトラフ
ェニルホスホニウムクロライド、トリフェニルベンジル
ホスホニウムクロライド、トリフェニルベンジルホスホ
ニウムブロマイド、トリフェニルメトキシメチルホスホ
ニウムクロライド、トリフェニルメチルカルボニルメチ
ルホスホニウムクロライド、トリフェニルエトキシカル
ボニルメチルホスホニウムクロライド、トリオクチルベ
ンジルホスホニウムクロライド、トリオクチルメチルホ
スホニウムブロマイド、トリオクチルエチルホスホニウ
ムアセテート、トリオクチルエチルホスホニウムジメチ
ルホスフェート、テトラオクチルホスホニウムクロライ
ド、セチルジメチルベンジルホスホニウムクロライドな
どの第4級ホスホニウム塩が挙げられる。
これらの架橋剤を用いる際には、(3)尿素類または(
4)グアニジン類を併用することが好ましい。
4)グアニジン類を併用することが好ましい。
尿素類としては、尿素、チオ尿素以外にこれらの置換体
、例えばN−メチル、N−エチル、N、N−ジメチル、
N、N’−ジエチル、N、N−ジエチル、N、N’−
エチリデン、N−アセチル、N−メチル−N′−アセチ
ル、N。
、例えばN−メチル、N−エチル、N、N−ジメチル、
N、N’−ジエチル、N、N−ジエチル、N、N’−
エチリデン、N−アセチル、N−メチル−N′−アセチ
ル、N。
N′−ジメチロール、テトラメチル、カルバミル、N−
フェニル、N−ベンジル、N−エチル−N′−フェニル
、N、N’−ジフェニル、 N、N−ジフェニル、N−
ベンゾイル、テトラフェニル、 N、N−ジメチル−N
、N’−ジクロロフェニルなどの置換体の他、カルバモ
イルカルバミド酸、エチレン尿素、グリコリル尿素、ジ
メチルパラバン酸、ベンゾイミダゾロン、5−メチルウ
ラシルなどが用いられる。
フェニル、N−ベンジル、N−エチル−N′−フェニル
、N、N’−ジフェニル、 N、N−ジフェニル、N−
ベンゾイル、テトラフェニル、 N、N−ジメチル−N
、N’−ジクロロフェニルなどの置換体の他、カルバモ
イルカルバミド酸、エチレン尿素、グリコリル尿素、ジ
メチルパラバン酸、ベンゾイミダゾロン、5−メチルウ
ラシルなどが用いられる。
また、グアニジン類としては、グアニジン以外にそれの
置換体1例えばアミノ、1,1,3.3−テトラメチル
、n−ドデシル、メチロール、ジメチロール。
置換体1例えばアミノ、1,1,3.3−テトラメチル
、n−ドデシル、メチロール、ジメチロール。
1−フェニル、I、3−ジフェニル、l、3−ジー0−
トリル、トリフェニル、1−ベンジル−2,3−ジメチ
ル、シアンなどの置換体の他、1,6−ゲアニジノヘキ
サン、グアニル尿素、ビグアニド、1−o−トリルビグ
アニドなどが用いられる。
トリル、トリフェニル、1−ベンジル−2,3−ジメチ
ル、シアンなどの置換体の他、1,6−ゲアニジノヘキ
サン、グアニル尿素、ビグアニド、1−o−トリルビグ
アニドなどが用いられる。
これらの架橋剤は、アクリルエラストマー100重量部
当り、シアヌール酸類は約0.05〜10重量部。
当り、シアヌール酸類は約0.05〜10重量部。
好ましくは約0.2〜5重量部、第4級アンモニウム塩
またはホスホニウム塩は約0.1〜10重量部、好まし
くは約0.1〜5重量部の割合で、また尿素類およびグ
アニジン類はいずれも約10〜0重量部、好ましくは約
5〜0.2重量部の割合で用いられる。
またはホスホニウム塩は約0.1〜10重量部、好まし
くは約0.1〜5重量部の割合で、また尿素類およびグ
アニジン類はいずれも約10〜0重量部、好ましくは約
5〜0.2重量部の割合で用いられる。
これらの配合割合は、加硫速度、貯蔵安定性、加工安全
性、加硫物の機械的物性、耐熱性、圧縮永久歪などの諸
性質、諸性性の値から、それぞれ好ましい範囲として特
定されたものである。これ以下の配合割合で各加硫系成
分が用いられると。
性、加硫物の機械的物性、耐熱性、圧縮永久歪などの諸
性質、諸性性の値から、それぞれ好ましい範囲として特
定されたものである。これ以下の配合割合で各加硫系成
分が用いられると。
加硫速度がかなり低下し、また加硫物の一般物性の点で
も満足されるものが得られず、他方これ以上の配合割合
で用いると、加硫速度は一般に大きくなるものの、貯蔵
安定性、加工安全性、加硫物の一般物性などが損なわれ
るようになるので好ましくない。
も満足されるものが得られず、他方これ以上の配合割合
で用いると、加硫速度は一般に大きくなるものの、貯蔵
安定性、加工安全性、加硫物の一般物性などが損なわれ
るようになるので好ましくない。
配合物のv4mは、これらの加硫系成分を、他の添加剤
、例えば補強剤、充填剤、老化防止剤、安定剤、可塑剤
、滑剤などと共に、ロール混合、バンバリー混合、溶液
混合など一般に用いられている方法によって行われる。
、例えば補強剤、充填剤、老化防止剤、安定剤、可塑剤
、滑剤などと共に、ロール混合、バンバリー混合、溶液
混合など一般に用いられている方法によって行われる。
調製された配合物の加硫温度は通常150℃以上であり
、この温度でのプレス加硫および二次加硫あるいは蒸気
加硫などによって加硫が行われる。
、この温度でのプレス加硫および二次加硫あるいは蒸気
加硫などによって加硫が行われる。
本発明に係るエポキシ基およびカルボン酸アリールエス
テル基含有アクリルエラストマーは、それの二次加硫物
は勿論のこと、それのプレス加硫物でもきわめて良好な
圧縮永久歪を示している。
テル基含有アクリルエラストマーは、それの二次加硫物
は勿論のこと、それのプレス加硫物でもきわめて良好な
圧縮永久歪を示している。
また、二次加硫前後の常態物性の変化も小さく、プレス
加硫物の老化特性(耐熱性)の良好なことと相まって、
二次加硫を省略することも可能である。
加硫物の老化特性(耐熱性)の良好なことと相まって、
二次加硫を省略することも可能である。
次に、実施例について本発明を説明する。
実施例1〜3.比較例1〜3
温度計、撹拌機、窒素導入管および減圧装置を備えたセ
パラブルフラスコ中に、水150部(重量。
パラブルフラスコ中に、水150部(重量。
以下同じ)、硫酸ナトリウム0.1部、乳化剤(花王製
品エマール10、エマルダン14フ、レベノールvzの
1,5:2:2部合物)5.5部および下記衣1の単量
体混合物100部を仕込み、脱気、窒素置換をくり返し
つつ系内の酸素を十分に除去した後、ナトリウムハイド
ロサルファイド 0.01部ナトリウムホ
ルムアルデヒドスルホキシレート 0.002部第3ブ
チルハイドロパーオキサイド 0.005
部よりなる重合開始剤系混合物を加え、室温下で重合反
応を開始させた。重合転化率が95〜9部の範囲内にな
るように反応を6時間継続した後、反応混合物を塩析し
、十分に水洗、乾燥し、共重合体ニジストマーを得た。
品エマール10、エマルダン14フ、レベノールvzの
1,5:2:2部合物)5.5部および下記衣1の単量
体混合物100部を仕込み、脱気、窒素置換をくり返し
つつ系内の酸素を十分に除去した後、ナトリウムハイド
ロサルファイド 0.01部ナトリウムホ
ルムアルデヒドスルホキシレート 0.002部第3ブ
チルハイドロパーオキサイド 0.005
部よりなる重合開始剤系混合物を加え、室温下で重合反
応を開始させた。重合転化率が95〜9部の範囲内にな
るように反応を6時間継続した後、反応混合物を塩析し
、十分に水洗、乾燥し、共重合体ニジストマーを得た。
表1
エチルアクリレート
□ブチルアクリレート
2−メトキシエチルアクリレート
アリルグリシジルエーテル
グリシジルメタクリレート
フェニルメタクリレート
p−クロロフェニル
メタクリレート
95.0 35.0 35.0 97.0 37.0
37.030.0 30.0 30.0 30.
030.0 30.0 30.0 30.03.
0 3.0 3.0 3.03.0 3.0 2、Q 2.0 2.0 以上の各実施例および比較例でそれぞれ得られたアクリ
ルエラストマーについて、下記衣2に示される配合に従
って、冷却下のオープンロールで配合物を調製し、この
配合物を180℃、12分間のプレス加硫および150
℃、15時間のギヤーオーブン中での二次加硫を行った
。加硫物についてjIsK−6301に準じて加硫物性
を測定し、その結果を表2に併記した。なお、圧縮永久
歪は、150℃、70時間、25%圧縮時の値である。
37.030.0 30.0 30.0 30.
030.0 30.0 30.0 30.03.
0 3.0 3.0 3.03.0 3.0 2、Q 2.0 2.0 以上の各実施例および比較例でそれぞれ得られたアクリ
ルエラストマーについて、下記衣2に示される配合に従
って、冷却下のオープンロールで配合物を調製し、この
配合物を180℃、12分間のプレス加硫および150
℃、15時間のギヤーオーブン中での二次加硫を行った
。加硫物についてjIsK−6301に準じて加硫物性
を測定し、その結果を表2に併記した。なお、圧縮永久
歪は、150℃、70時間、25%圧縮時の値である。
(以下余白)
Claims (1)
- 1、(a)炭素数1〜8のアルキル基を有するアルキル
アクリレートおよび/または(b)炭素数2〜8のアル
コキシアルキル基を有するアルコキシアルキルアクリレ
ート、(c)エポキシ基含有ビニル単量体および(d)
α、β−不飽和カルボン酸アリールエステルを共重合さ
せることを特徴とするアクリルエラストマーの製造法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17494589A JP2754246B2 (ja) | 1989-07-06 | 1989-07-06 | アクリルエラストマーの製造法 |
US07/543,589 US5082903A (en) | 1989-06-06 | 1990-06-26 | Acrylic elastomer and its vulcanizable composition |
DE4021514A DE4021514C2 (de) | 1989-07-06 | 1990-07-06 | Epoxygruppenhaltiges Acrylelastomer und ihre vulkanisierbare Zusammensetzung |
US07/756,872 US5202401A (en) | 1989-06-06 | 1991-09-09 | Acrylic elastomer and its vulcanizable composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17494589A JP2754246B2 (ja) | 1989-07-06 | 1989-07-06 | アクリルエラストマーの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0339307A true JPH0339307A (ja) | 1991-02-20 |
JP2754246B2 JP2754246B2 (ja) | 1998-05-20 |
Family
ID=15987481
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17494589A Expired - Fee Related JP2754246B2 (ja) | 1989-06-06 | 1989-07-06 | アクリルエラストマーの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2754246B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5705303A (en) * | 1994-02-17 | 1998-01-06 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Toner composition for electrophotography |
US5707437A (en) * | 1994-02-28 | 1998-01-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Silanized titanium dioxide pigments resistant to discoloration when incorporated in polymers |
US5707770A (en) * | 1994-11-08 | 1998-01-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Toner for developing electrostatic images, two component type developer, developing method, image forming method, heat fixing method, and process for producing toner |
US5752151A (en) * | 1994-12-27 | 1998-05-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus having a cleaning blade with a tensile strength from 80 to 120 kg/cm2 |
-
1989
- 1989-07-06 JP JP17494589A patent/JP2754246B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5705303A (en) * | 1994-02-17 | 1998-01-06 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Toner composition for electrophotography |
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US5707770A (en) * | 1994-11-08 | 1998-01-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Toner for developing electrostatic images, two component type developer, developing method, image forming method, heat fixing method, and process for producing toner |
US5824442A (en) * | 1994-11-08 | 1998-10-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Developing method, image forming method, and heat fixing method, with toner |
US5752151A (en) * | 1994-12-27 | 1998-05-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus having a cleaning blade with a tensile strength from 80 to 120 kg/cm2 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2754246B2 (ja) | 1998-05-20 |
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