JPH033917Y2 - - Google Patents
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- JPH033917Y2 JPH033917Y2 JP7271785U JP7271785U JPH033917Y2 JP H033917 Y2 JPH033917 Y2 JP H033917Y2 JP 7271785 U JP7271785 U JP 7271785U JP 7271785 U JP7271785 U JP 7271785U JP H033917 Y2 JPH033917 Y2 JP H033917Y2
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- JP
- Japan
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- raw material
- oxidizing gas
- fluidized bed
- porous refractory
- furnace
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Landscapes
- Manufacture Of Iron (AREA)
- Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)
Description
この考案は粉粒状鉄鉱石あるいは鉄粉等の粉粒
状原材料を予熱して投入し、これら原材料を還元
するための流動層式還元炉の改良に関する。
状原材料を予熱して投入し、これら原材料を還元
するための流動層式還元炉の改良に関する。
近年、金属酸化物を含有する鉱石の資源は、低
品位化、粉鉱化しつつあり、鉄鉱石の場合も、粉
鉱化の傾向が著しく、粉粒状鉄鉱石を利用できる
流動層式還元炉を用いて鉄鋼を生産するようにな
つてきている。 上記のような流動層式還元炉においては、還元
温度を高くして生産性の向上を図ろうとすれば、
鉱石が流動層内で焼結し易くなるという問題点が
ある。 即ち、第2図に示されるような流動層式還元炉
1において、流動層2の温度を700〜800℃の還元
温度に保つために、該流動層2の下方の分散板3
の孔3Aから流入する還元ガスの温度を900〜
1000℃として、鉱石温度を上げるエネルギ及び還
元エネルギの両方を賄うようにしているが、分散
板3の孔3A付近での温度が特に高くなり、この
部分で鉱石が焼結し易くなる。 これに対して、焼結がなく、且つ、還元温度を
上げて生産性を確保するためには高度の操業技術
を必要とし、しかも、該操業技術を持つてしても
焼結を完全に防止できるものではなかつた。 これに対して、原料投入口4から炉内に投入さ
れる原料を、予め1000℃程度に予熱して、分散板
3から流入される還元ガスの温度を750〜850℃と
して、分散板3部分での原料の焼結を防止する方
法がある。 しかしながら、原料の予熱効果を得るために
は、前述の如く原料を1000℃近くまで予熱しなけ
ればならず、この場合は、原料投入口4の炉内周
壁部分4A(第3図参照)における耐火物の温度
が流動層2の温度よりもかなり高くなり、該流動
層2で還元された原料が温度の高い耐火物に接触
してここで焼結を生じ、炉内周壁部分4Aに付着
成長し、原料投入口4を閉塞することがあるとい
う問題点がある。
品位化、粉鉱化しつつあり、鉄鉱石の場合も、粉
鉱化の傾向が著しく、粉粒状鉄鉱石を利用できる
流動層式還元炉を用いて鉄鋼を生産するようにな
つてきている。 上記のような流動層式還元炉においては、還元
温度を高くして生産性の向上を図ろうとすれば、
鉱石が流動層内で焼結し易くなるという問題点が
ある。 即ち、第2図に示されるような流動層式還元炉
1において、流動層2の温度を700〜800℃の還元
温度に保つために、該流動層2の下方の分散板3
の孔3Aから流入する還元ガスの温度を900〜
1000℃として、鉱石温度を上げるエネルギ及び還
元エネルギの両方を賄うようにしているが、分散
板3の孔3A付近での温度が特に高くなり、この
部分で鉱石が焼結し易くなる。 これに対して、焼結がなく、且つ、還元温度を
上げて生産性を確保するためには高度の操業技術
を必要とし、しかも、該操業技術を持つてしても
焼結を完全に防止できるものではなかつた。 これに対して、原料投入口4から炉内に投入さ
れる原料を、予め1000℃程度に予熱して、分散板
3から流入される還元ガスの温度を750〜850℃と
して、分散板3部分での原料の焼結を防止する方
法がある。 しかしながら、原料の予熱効果を得るために
は、前述の如く原料を1000℃近くまで予熱しなけ
ればならず、この場合は、原料投入口4の炉内周
壁部分4A(第3図参照)における耐火物の温度
が流動層2の温度よりもかなり高くなり、該流動
層2で還元された原料が温度の高い耐火物に接触
してここで焼結を生じ、炉内周壁部分4Aに付着
成長し、原料投入口4を閉塞することがあるとい
う問題点がある。
この考案は上記従来の問題点に鑑みてなされた
ものであつて、予熱原料の温度を下げることな
く、原料投入口の閉塞を防止できるようにした流
動層式還元炉を提供することを目的とする。
ものであつて、予熱原料の温度を下げることな
く、原料投入口の閉塞を防止できるようにした流
動層式還元炉を提供することを目的とする。
この考案は、粉粒状原料を予熱して原料投入口
から投入する流動層式還元炉において、前記原料
投入口の少なくとも炉内周壁部分を、多孔質耐火
物で形成すると共に、該多孔質耐火物を通して、
非酸化性ガスを炉内にパツケージさせる非酸化性
ガス供給設備を設けることにより上記目的を達成
するものである。
から投入する流動層式還元炉において、前記原料
投入口の少なくとも炉内周壁部分を、多孔質耐火
物で形成すると共に、該多孔質耐火物を通して、
非酸化性ガスを炉内にパツケージさせる非酸化性
ガス供給設備を設けることにより上記目的を達成
するものである。
この考案においては、非酸化性ガスが、原料投
入口の炉内周壁部分に配置された多孔質耐火物の
孔から炉内にパージされることによつて、該炉内
周壁部分が冷却され、この部分に還元された原料
が付着成長することを防止するようにしている。
入口の炉内周壁部分に配置された多孔質耐火物の
孔から炉内にパージされることによつて、該炉内
周壁部分が冷却され、この部分に還元された原料
が付着成長することを防止するようにしている。
以下本考案の実施例を図面を参照して説明す
る。 この実施例は、第1図に示されるように、粉粒
状の鉄鉱石を予熱して原料投入口14から投入す
る流動層式還元炉10において、前記原料投入口
14の炉内周壁部分を、多孔質耐火物14Aで形
成すると共に、該多孔質耐火物14Aを通して、
非酸化性ガスを炉内にパージさせる非酸化性ガス
供給設備15を設けたものである。 図の符号12は流動層、13は分散板、13A
は分散板13に形成された還元ガス流入用の孔を
それぞれ示す。 前記非酸化性ガス供給設備15は、前記多孔質
耐火物14の外周部分に接続される供給口16
と、この供給口16に接続される供給管17と、
この供給管17の途中に配置された加熱装置18
及びポンプ19と、ガス供給源20とから構成さ
れ、ガス供給源20の非酸化性ガスをポンプ19
によつて供給管17、供給口16を介して多孔質
耐火物14Aに供給するようにされている。 加熱装置18は、必要に応じて作動させて、多
孔質耐火物14Aに供給される非酸化性ガスを適
宜の温度に予熱するものである。 ここで、前記多孔質耐火物14は、例えば気孔
率60〜80%程度のポーラスレンガから構成され、
又、非酸化性ガスは流動層12において還元され
た原料を再酸化しないようなガスであつて、例え
ばN2、CO、H2からなる。 又、多孔質耐火物14Aから炉内にパージされ
る非酸化性ガスの量は、例えば0.5〜1m3/sec程
度とする。 又、非酸化性ガスを予熱する場合はその温度は
300〜400℃程度とする。 上記のような流動層式還元炉10において、非
酸化性ガス供給設備15からN2、COあるいはH2
等の非酸化性ガスを、原料投入口14の炉内周壁
部分に配置された多孔質耐火物14Aから炉内に
少量パージさせると、該多孔質耐火物14Aの温
度が低下する。 従つて、原料投入口14から約1000℃程度に投
入される原料によつても、該多孔質耐火物14A
が高温になることがなく、このため、流動層12
において還元された原料が該多孔質耐火物14A
に接触しても焼結することがなく、従つて多孔質
耐火物14A部分に焼結した原料が付着成長する
ことがなく、原料投入口14が焼結原料によつて
閉塞されることが防止される。 ここで、多孔質耐火物14Aを通して炉内にパ
ージされる非酸化性ガスは、その量が少量である
ので原料投入口14から投入される予熱原料の温
度をほとんど下げることがなく、更には、N2、
COあるいはH2等の非酸化性ガスであるので、流
動層12において還元された原料を再酸化するよ
うなことはない。 特に、非酸化性ガス供給設備15における加熱
装置18によつて、パージされる非酸化性ガスを
300〜400℃程度に予熱すれば、原料投入口14か
ら投入される予熱原料の温度をほとんど下げるこ
とはない。 なお上記実施例は、原料投入口14の炉内周壁
部分に多孔質耐火物14Aを配置するようにした
ものであるが、本考案はこれに限定されるもので
なく、多孔質耐火物14Aは少なくとも原料投入
口14の炉内周壁部分に配置されるものであれば
よく、更に原料投入口14の他の部分について多
孔質耐火物を設けるようにしてもよい。 又、上記実施例は、多孔質耐火物14Aを気孔
率60〜80%程度のポーラスレンガとしたものであ
るが、これは、少量の非酸化性ガスを炉内にパー
ジできるものであればよく、従つて例えば気孔率
を更に小さくして、非酸化性ガスの供給の供給圧
力を高くするようにしてもよい。 又、多孔質耐火物14Aはポーラスレンガ以外
の耐火材料であつてもよい。 又、上記実施例は非酸化性ガスをN2、COある
いはH2としたものであるが、これら以外の非酸
化性ガスであつてもよい。 又、多孔質耐火物14Aから炉内にパージさせ
る非酸化性ガスの量を少なくする場合は、該非酸
化性ガスを予熱することなく、常温で供給するよ
うにしてもよい。
る。 この実施例は、第1図に示されるように、粉粒
状の鉄鉱石を予熱して原料投入口14から投入す
る流動層式還元炉10において、前記原料投入口
14の炉内周壁部分を、多孔質耐火物14Aで形
成すると共に、該多孔質耐火物14Aを通して、
非酸化性ガスを炉内にパージさせる非酸化性ガス
供給設備15を設けたものである。 図の符号12は流動層、13は分散板、13A
は分散板13に形成された還元ガス流入用の孔を
それぞれ示す。 前記非酸化性ガス供給設備15は、前記多孔質
耐火物14の外周部分に接続される供給口16
と、この供給口16に接続される供給管17と、
この供給管17の途中に配置された加熱装置18
及びポンプ19と、ガス供給源20とから構成さ
れ、ガス供給源20の非酸化性ガスをポンプ19
によつて供給管17、供給口16を介して多孔質
耐火物14Aに供給するようにされている。 加熱装置18は、必要に応じて作動させて、多
孔質耐火物14Aに供給される非酸化性ガスを適
宜の温度に予熱するものである。 ここで、前記多孔質耐火物14は、例えば気孔
率60〜80%程度のポーラスレンガから構成され、
又、非酸化性ガスは流動層12において還元され
た原料を再酸化しないようなガスであつて、例え
ばN2、CO、H2からなる。 又、多孔質耐火物14Aから炉内にパージされ
る非酸化性ガスの量は、例えば0.5〜1m3/sec程
度とする。 又、非酸化性ガスを予熱する場合はその温度は
300〜400℃程度とする。 上記のような流動層式還元炉10において、非
酸化性ガス供給設備15からN2、COあるいはH2
等の非酸化性ガスを、原料投入口14の炉内周壁
部分に配置された多孔質耐火物14Aから炉内に
少量パージさせると、該多孔質耐火物14Aの温
度が低下する。 従つて、原料投入口14から約1000℃程度に投
入される原料によつても、該多孔質耐火物14A
が高温になることがなく、このため、流動層12
において還元された原料が該多孔質耐火物14A
に接触しても焼結することがなく、従つて多孔質
耐火物14A部分に焼結した原料が付着成長する
ことがなく、原料投入口14が焼結原料によつて
閉塞されることが防止される。 ここで、多孔質耐火物14Aを通して炉内にパ
ージされる非酸化性ガスは、その量が少量である
ので原料投入口14から投入される予熱原料の温
度をほとんど下げることがなく、更には、N2、
COあるいはH2等の非酸化性ガスであるので、流
動層12において還元された原料を再酸化するよ
うなことはない。 特に、非酸化性ガス供給設備15における加熱
装置18によつて、パージされる非酸化性ガスを
300〜400℃程度に予熱すれば、原料投入口14か
ら投入される予熱原料の温度をほとんど下げるこ
とはない。 なお上記実施例は、原料投入口14の炉内周壁
部分に多孔質耐火物14Aを配置するようにした
ものであるが、本考案はこれに限定されるもので
なく、多孔質耐火物14Aは少なくとも原料投入
口14の炉内周壁部分に配置されるものであれば
よく、更に原料投入口14の他の部分について多
孔質耐火物を設けるようにしてもよい。 又、上記実施例は、多孔質耐火物14Aを気孔
率60〜80%程度のポーラスレンガとしたものであ
るが、これは、少量の非酸化性ガスを炉内にパー
ジできるものであればよく、従つて例えば気孔率
を更に小さくして、非酸化性ガスの供給の供給圧
力を高くするようにしてもよい。 又、多孔質耐火物14Aはポーラスレンガ以外
の耐火材料であつてもよい。 又、上記実施例は非酸化性ガスをN2、COある
いはH2としたものであるが、これら以外の非酸
化性ガスであつてもよい。 又、多孔質耐火物14Aから炉内にパージさせ
る非酸化性ガスの量を少なくする場合は、該非酸
化性ガスを予熱することなく、常温で供給するよ
うにしてもよい。
本考案は上記のように構成したので、原料投入
口から投入する原料の予熱温度を低下させること
なく、該原料投入口の炉内周壁部分への焼結原料
の付着成長及びこれによる原料投入口の閉塞を防
止することができるという優れた効果を有する。
口から投入する原料の予熱温度を低下させること
なく、該原料投入口の炉内周壁部分への焼結原料
の付着成長及びこれによる原料投入口の閉塞を防
止することができるという優れた効果を有する。
第1図は本考案に係る流動層式還元炉の要部を
示す断面図、第2図及び第3図は従来の流動層式
還元炉を示す第1図と同様の断面図である。 10……流動層式還元炉、12……流動層、1
4……原料投入口、14A……多孔質耐火物、1
5……非酸化性ガス供給設備。
示す断面図、第2図及び第3図は従来の流動層式
還元炉を示す第1図と同様の断面図である。 10……流動層式還元炉、12……流動層、1
4……原料投入口、14A……多孔質耐火物、1
5……非酸化性ガス供給設備。
Claims (1)
- 粉粒状原料を予熱して原料投入口から投入する
流動層式還元炉において、前記原料投入口の少な
くとも炉内周壁部分を、多孔質耐火物で形成する
と共に、該多孔質耐火物を通して、非酸化性ガス
を炉内パージさせる非酸化性ガス供給設備を設け
たことを特徴とする流動層式還元炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7271785U JPH033917Y2 (ja) | 1985-05-16 | 1985-05-16 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7271785U JPH033917Y2 (ja) | 1985-05-16 | 1985-05-16 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61189195U JPS61189195U (ja) | 1986-11-26 |
JPH033917Y2 true JPH033917Y2 (ja) | 1991-01-31 |
Family
ID=30611389
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7271785U Expired JPH033917Y2 (ja) | 1985-05-16 | 1985-05-16 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH033917Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
MY170133A (en) * | 2012-10-16 | 2019-07-05 | Sumitomo Heavy Industries | Fluidized bed combustor |
-
1985
- 1985-05-16 JP JP7271785U patent/JPH033917Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61189195U (ja) | 1986-11-26 |
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