JPH0337139Y2 - - Google Patents
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- JPH0337139Y2 JPH0337139Y2 JP1278285U JP1278285U JPH0337139Y2 JP H0337139 Y2 JPH0337139 Y2 JP H0337139Y2 JP 1278285 U JP1278285 U JP 1278285U JP 1278285 U JP1278285 U JP 1278285U JP H0337139 Y2 JPH0337139 Y2 JP H0337139Y2
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- magnetic
- magnetic field
- electron beam
- coating film
- beam irradiation
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 36
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 9
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この考案は磁気テープその他の磁気記録媒体を
製造する装置に関する。
製造する装置に関する。
(従来の技術)
この種磁気記録媒体を製造するのに、磁性粒子
を適当な添加剤とともに溶液中に分散させた磁性
塗料を、プラスチツクフイルムなどの基材の表面
に塗布して磁性塗膜を形成し、この磁性塗膜が未
乾燥のうちに磁場配向処理し、そのあと熱乾燥を
行つてから、更にカレンダ処理裁断するようにし
ている。
を適当な添加剤とともに溶液中に分散させた磁性
塗料を、プラスチツクフイルムなどの基材の表面
に塗布して磁性塗膜を形成し、この磁性塗膜が未
乾燥のうちに磁場配向処理し、そのあと熱乾燥を
行つてから、更にカレンダ処理裁断するようにし
ている。
このような製造工程のうち、熱乾燥を電子線硬
化によつて行うことが考えられており、これによ
れば、短時間低温での熱処理が可能となること、
磁性塗料のポツトライフが長くなり、溶剤の低減
化が図れること、配向度、表面硬度、耐摩耗性、
耐久性などが向上し、記録媒体の品質向上が可能
になること、など幾多の効果が得られる。
化によつて行うことが考えられており、これによ
れば、短時間低温での熱処理が可能となること、
磁性塗料のポツトライフが長くなり、溶剤の低減
化が図れること、配向度、表面硬度、耐摩耗性、
耐久性などが向上し、記録媒体の品質向上が可能
になること、など幾多の効果が得られる。
しかし実際問題として、単に熱乾燥過程を電子
線照射に置換しただけでは、上記のような諸特性
は満足できない。具体的には磁性粒子への配向磁
界印加後、短時間のうちに電子線を照射すること
が必要で、もしこの時間が長くなると、折角配向
された磁性粒子が互いの磁性によつて反発吸引し
合うなどして凝集し、その配向性が悪化してしま
うようになる。
線照射に置換しただけでは、上記のような諸特性
は満足できない。具体的には磁性粒子への配向磁
界印加後、短時間のうちに電子線を照射すること
が必要で、もしこの時間が長くなると、折角配向
された磁性粒子が互いの磁性によつて反発吸引し
合うなどして凝集し、その配向性が悪化してしま
うようになる。
これを回避するためには、磁場配向のための磁
界発生装置と電子線照射装置とをできるだけ接近
させて配置しておき、磁界発生装置を通過した直
後、たとえば1秒以内、好ましくは0.5秒以内の
うちに電子線を照射すればよい。
界発生装置と電子線照射装置とをできるだけ接近
させて配置しておき、磁界発生装置を通過した直
後、たとえば1秒以内、好ましくは0.5秒以内の
うちに電子線を照射すればよい。
第3図は従来のこの種製造装置を示すもので、
1は磁場配向のための磁界を発生させるための磁
界発生装置で、ここでは一対の磁石1A,1Bを
その同極性の磁極を互いに反発し合うように対向
させて設置した例を示し、両磁石間を磁性塗膜を
有するテープ2が通過するようにしてある。3は
テープ2の走行方向(矢印方向)後方に設置され
てある電子線照射装置で、その照射窓3Aがテー
プ2の表面に相対している。
1は磁場配向のための磁界を発生させるための磁
界発生装置で、ここでは一対の磁石1A,1Bを
その同極性の磁極を互いに反発し合うように対向
させて設置した例を示し、両磁石間を磁性塗膜を
有するテープ2が通過するようにしてある。3は
テープ2の走行方向(矢印方向)後方に設置され
てある電子線照射装置で、その照射窓3Aがテー
プ2の表面に相対している。
しかしながらこのような構成において、前記し
たように磁界発生装置1と、電子線照射装置3と
を可及的に接近させた場合、つぎのような不都合
が発生する。すなわち各磁石1A,1Bからは図
中点線で示すように磁束が各磁極間を通り、この
過程でテープ2上の磁性塗膜内の磁性粒子を磁場
配向処理するのであるが、磁界発生装置1と、電
子線照射装置3とが接近していると、前記磁束の
一部が漏洩磁束となつて電子線照射装置からの電
子線に交差してしまうことがある。
たように磁界発生装置1と、電子線照射装置3と
を可及的に接近させた場合、つぎのような不都合
が発生する。すなわち各磁石1A,1Bからは図
中点線で示すように磁束が各磁極間を通り、この
過程でテープ2上の磁性塗膜内の磁性粒子を磁場
配向処理するのであるが、磁界発生装置1と、電
子線照射装置3とが接近していると、前記磁束の
一部が漏洩磁束となつて電子線照射装置からの電
子線に交差してしまうことがある。
このように電子線と漏洩磁束とが交差すると、
電子は電磁力により進行方向と直角に力を受け、
円弧を描くように偏向するので、電子線分布は大
きく拡がる。この結果照射窓3Aから得られる電
子線量の分布は不均一となり、磁気テープ面に均
一に電子線を照射することができないようにな
り、高品質の記録媒体は得られない。
電子は電磁力により進行方向と直角に力を受け、
円弧を描くように偏向するので、電子線分布は大
きく拡がる。この結果照射窓3Aから得られる電
子線量の分布は不均一となり、磁気テープ面に均
一に電子線を照射することができないようにな
り、高品質の記録媒体は得られない。
さらに偏向を受けた電子の一部は電子線照射装
置の内壁に衝突することがあり、これが照射効率
の低下、あるいは前記内壁の過熱の原因となるこ
とがある。
置の内壁に衝突することがあり、これが照射効率
の低下、あるいは前記内壁の過熱の原因となるこ
とがある。
(考案が解決しようとする問題点)
この考案は磁界発生装置と電子線照射装置とを
十分接近させて設置しても、電子線が磁界発生装
置からの漏洩磁束により影響されないようにする
ことを目的とする。
十分接近させて設置しても、電子線が磁界発生装
置からの漏洩磁束により影響されないようにする
ことを目的とする。
(問題点を解決するための手段)
この考案は水平磁場配向のための磁界を発生す
る磁界発生装置と、これと対称的に他の磁界発生
装置とをテープの走行方向に沿つて並設して、両
磁界発生装置からの磁束が互いに反発し合うよう
にするとともに、両磁界発生装置間に電子線照射
装置を設置し、これによつて電子線が漏洩磁束に
よつて影響されないようにしたことを特徴とす
る。
る磁界発生装置と、これと対称的に他の磁界発生
装置とをテープの走行方向に沿つて並設して、両
磁界発生装置からの磁束が互いに反発し合うよう
にするとともに、両磁界発生装置間に電子線照射
装置を設置し、これによつて電子線が漏洩磁束に
よつて影響されないようにしたことを特徴とす
る。
この考案を図によつて説明する。第1図におい
て磁界発生装置1は一対の磁石1A,1Bによつ
て構成されてあり、両磁石の同極性の磁極が対向
された間隙をテープ2が矢印方向に走行し、その
過程でテープ2の表面に塗布されてある磁性塗膜
内の磁性粒子が磁場配向されるようになつてい
る。またテープ2の走行方向後方に電子線照射装
置3が設置されてあり、磁界発生装置1によつて
磁場配向されたテープ2は、電子照射装置3の照
射窓3Aから放射される電子線によつて照射さ
れ、硬化される。これらの構成ならびに作用は従
来のものと特に相違するところはない。
て磁界発生装置1は一対の磁石1A,1Bによつ
て構成されてあり、両磁石の同極性の磁極が対向
された間隙をテープ2が矢印方向に走行し、その
過程でテープ2の表面に塗布されてある磁性塗膜
内の磁性粒子が磁場配向されるようになつてい
る。またテープ2の走行方向後方に電子線照射装
置3が設置されてあり、磁界発生装置1によつて
磁場配向されたテープ2は、電子照射装置3の照
射窓3Aから放射される電子線によつて照射さ
れ、硬化される。これらの構成ならびに作用は従
来のものと特に相違するところはない。
なお必要があれば、図のように磁石からの磁束
のための磁路4を設け、テープを磁場配向した磁
束の帰路を確保するようにしておいてもよい。
のための磁路4を設け、テープを磁場配向した磁
束の帰路を確保するようにしておいてもよい。
この考案にしたがい、磁界発生装置1からの磁
束が電子線照射装置3からの電子線に到達しない
ようにするため、電子線照射装置3よりもテープ
2の走行方向後方に別の磁界発生装置5を配置す
る。この磁界発生装置5は前記磁界発生装置1と
同じ構成のものが使用される。すなわち一対の磁
石6A,6Bを備え、両磁石の同極性の磁極を対
向させておき、その対向磁極間にテープ2を走行
するようにしてある。テープ2の同じ表面には同
じ極性の磁極が相対するように各磁石が配置され
ている。7は前記磁路4に対応する磁路である。
束が電子線照射装置3からの電子線に到達しない
ようにするため、電子線照射装置3よりもテープ
2の走行方向後方に別の磁界発生装置5を配置す
る。この磁界発生装置5は前記磁界発生装置1と
同じ構成のものが使用される。すなわち一対の磁
石6A,6Bを備え、両磁石の同極性の磁極を対
向させておき、その対向磁極間にテープ2を走行
するようにしてある。テープ2の同じ表面には同
じ極性の磁極が相対するように各磁石が配置され
ている。7は前記磁路4に対応する磁路である。
(作用)
電子線照射装置3をはさんで磁界発生装置1と
対称的に磁界発生装置5を設置しているので、両
磁界発生装置1,5からの磁束は互いに反発し合
い、そのため一方の磁界発生装置からの漏洩磁束
が、他方の磁界発生装置に向かつていくようなこ
とはない。そして磁石1B,6Bからでた磁束の
ほとんどは磁路4,7を通つて磁石1A,6Aに
戻つていくようになる。このように電子線照射装
置3に向かう漏洩磁束がないということは、電子
線照射装置3からの電子線と交差する磁束がない
ということを意味する。したがつて前記電子線が
磁束によつて影響を受けるといつたことが十分回
避されるようになるのである。
対称的に磁界発生装置5を設置しているので、両
磁界発生装置1,5からの磁束は互いに反発し合
い、そのため一方の磁界発生装置からの漏洩磁束
が、他方の磁界発生装置に向かつていくようなこ
とはない。そして磁石1B,6Bからでた磁束の
ほとんどは磁路4,7を通つて磁石1A,6Aに
戻つていくようになる。このように電子線照射装
置3に向かう漏洩磁束がないということは、電子
線照射装置3からの電子線と交差する磁束がない
ということを意味する。したがつて前記電子線が
磁束によつて影響を受けるといつたことが十分回
避されるようになるのである。
以上の実施例は磁界発生装置として永久磁石を
用いて構成した例であるが、これに代えて電磁石
を用いるようにしてもよいし、あるいは交流また
は直流によつて励磁される空心コイルを使用して
構成してもよい。この場合はテープ2を空心コイ
ルの内部をその軸心方向に沿つて走行させるよう
にすればよい。
用いて構成した例であるが、これに代えて電磁石
を用いるようにしてもよいし、あるいは交流また
は直流によつて励磁される空心コイルを使用して
構成してもよい。この場合はテープ2を空心コイ
ルの内部をその軸心方向に沿つて走行させるよう
にすればよい。
(考案の効果)
以上詳述したようにこの考案によれば、磁場配
向のための磁界発生装置と前記磁界発生装置と対
称的に並設される磁界発生装置との間に、熱硬化
用の電子線照射装置を設置したので、両磁界発生
装置からの磁束が互いに反発し合うようになり、
したがつて磁界発生装置と電子線照射装置とを十
分接近して設置しておいても、磁界発生装置から
の磁束によつて電子線が影響されるようなことは
これをもつて確実に回避することができ、したが
つて磁界発生装置によつて磁場配向処理を施した
後、直ちに電子線照射による熱乾燥処理を施すこ
とができるようになり、これにより高品質の記録
媒体が製作できるようになるといつた効果を奏す
る。
向のための磁界発生装置と前記磁界発生装置と対
称的に並設される磁界発生装置との間に、熱硬化
用の電子線照射装置を設置したので、両磁界発生
装置からの磁束が互いに反発し合うようになり、
したがつて磁界発生装置と電子線照射装置とを十
分接近して設置しておいても、磁界発生装置から
の磁束によつて電子線が影響されるようなことは
これをもつて確実に回避することができ、したが
つて磁界発生装置によつて磁場配向処理を施した
後、直ちに電子線照射による熱乾燥処理を施すこ
とができるようになり、これにより高品質の記録
媒体が製作できるようになるといつた効果を奏す
る。
第1図はこの考案の実施例を示す斜視図、第2
図は第1図の正面図、第3図は従来例の正面図で
ある。 1,5……磁界発生装置、2……テープ(基
材)、3……電子線照射装置。
図は第1図の正面図、第3図は従来例の正面図で
ある。 1,5……磁界発生装置、2……テープ(基
材)、3……電子線照射装置。
Claims (1)
- 基材の表面に形成されてある磁性塗膜の表面に
沿つて水平に通る磁束を発生して、前記磁性塗膜
を磁場配向するための磁界発生装置と、前記磁界
発生装置によつて磁場配向された前記磁性塗膜に
これを硬化するための電子線を照射する電子線照
射装置とからなる磁気記録媒体製造装置におい
て、前記電子線照射装置をはさんで、前記磁界発
生装置からの磁束と互いに反発し合う磁束を発生
する別の磁束発生装置を、前記基材の走行方向に
沿つて対称的に並設してなる磁気記録媒体製造装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1278285U JPH0337139Y2 (ja) | 1985-01-30 | 1985-01-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1278285U JPH0337139Y2 (ja) | 1985-01-30 | 1985-01-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61130019U JPS61130019U (ja) | 1986-08-14 |
| JPH0337139Y2 true JPH0337139Y2 (ja) | 1991-08-06 |
Family
ID=30496173
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1278285U Expired JPH0337139Y2 (ja) | 1985-01-30 | 1985-01-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0337139Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019203204A1 (ja) * | 2018-04-18 | 2019-10-24 | 国立大学法人京都大学 | 配向体装置及び配向体製造方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63171428A (ja) * | 1987-01-08 | 1988-07-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体製造装置 |
-
1985
- 1985-01-30 JP JP1278285U patent/JPH0337139Y2/ja not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019203204A1 (ja) * | 2018-04-18 | 2019-10-24 | 国立大学法人京都大学 | 配向体装置及び配向体製造方法 |
| JP2019192668A (ja) * | 2018-04-18 | 2019-10-31 | 国立大学法人京都大学 | 配向体装置及び配向体製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61130019U (ja) | 1986-08-14 |
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