JPS6251032A - 磁気記録媒体製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は磁気テープその他の磁気記録媒体を製造する
装置に関する。

（従来の技術） この種磁気記録媒体を製造するのに、磁性粒子を適当な
添加剤とともに溶液中に分散させた磁性塗料を、プラス
チックフィルムなどの基材の表面に塗布して磁性塗膜を
形成し、この磁性塗膜が未乾燥のうちに垂直磁場配向処
理し、そのあと前記塗膜を硬化するようにしている。

このような製造工程のうち、硬化を電子線の照射によっ
て行うことが考えられているが、実際問題として磁性粒
子への配向磁界印加後、短時間のうちに電子線を照射す
ることが必要で、もしこの時間が長くなると、折角配向
された磁性粒子が互いの磁性によって反発吸引し合うな
どして凝集し、その配向性が悪化してしまうようになる
にれを回避するためには、磁場配向のための磁界発生装
置と電子線照射装置とをできるだけ接近させて配置して
おき、磁界発生装置を通過した直後に電子線を照射すれ
ばよい。第５図は従来のこの種製造装置を示すもので、
１は垂直磁場配向のための磁界を発生させるための磁界
発生装置で。

一対の磁石ＩＡ、１Ｂをその異極性の磁極を互いに対向
させて構成されてあり、両磁石間を磁性塗膜を有するテ
ープ２が走行するようにしである。

３はテープ２の走行方向（矢印方向）に沿って磁界発生
装置１の後方に設置されてある電子線照射装置で、その
照射窓３Ａがテープ２の表面に相対し、ここからでる電
子線をテープ２に照射するようにしである。

しかしながらこのような構成において、前記したように
磁界発生装置１と、電子線照射装置３とを可及的に接近
させた場合、つぎのような不都合が発生する。すなわち
各磁石ＩＡ、ＩＢからは図中点線で示すように磁石ＩＡ
からの磁束が、磁石ＩＢに向い、この過程でテープ２上
の磁性塗膜内の磁性粒子を垂直磁場配向処理するのであ
るが、磁界発生装置１と、電子線照射装置３とが接近し
ていると、磁石ＩＢから磁石ＩＡに戻ろうとする磁束（
帰路磁束）の一部が浮遊磁束となって、電子線照射装置
からの電子線に交差してしまうことがある。

このように電子線と磁束とが交差すると、電子は電磁力
により進行方向と直角に力を受け、円弧を描くように偏
向するので、電子線分布は大きく拡がる。この結果照射
窓３Ａから得られる電子線量の分布は不均一となり、磁
気テープ面に均一に均一に電子線を照射することができ
ないようになり、高品質の記録媒体は得られない。

（発明が解決しようとする問題点） この発明は磁界発生装置と電子線照射装置とを十分接近
させて設置しても、電子線が磁界発生装置の帰路磁束に
より影響されないようにすることを目的とする。

（問題点を解決するための手段） この発明は垂直磁場配向のための磁界発生装置を、基材
の搬送通路に両磁極が対向するように配置された少なく
ともひとつのＵ字状の磁石と、前記磁石の各磁極に前記
搬送通路をはさんで向い合うように配置された磁性片と
から構成したことを特徴とする。

これによれば磁石の帰路磁束はこれと向い合う磁性片を
通るようになり、これによって磁束はその拡がりをほと
んど見ないようになる。そのため磁界発生装置と電子線
照射装置とを充分接近して設置しても、電子線と磁束と
が交差するようなことはこれをもって確実に回避できる
ようになる。

（実施例） この発明を図によって説明する。第１図において磁界発
生装置１は、Ｕ字状の磁石１１Ａを備えており、その各
ＴＩ＆極はテープ２の搬送路に沿って位置されている。

４は磁性片たとえば珪素鋼板。

パーマロイなどのような特に高透磁率の磁性片で。

これは磁石１１Ａの磁極に、テープ２の搬送通路をはさ
んで向い合うように配置されてある。

磁石１１ＡのＮ磁極から出た磁束はテープ２の搬送通路
を通って磁性片４に入り、続いてこの磁性片４から再び
前記搬送を通って磁石１１ＡのＳ磁極に戻る。テープ２
は矢印方向に走行し、その搬送過程で前記磁石１１Ａの
磁極と磁性片４との間の搬送通路を通過するとき、テー
プ２の表面に塗布されてある磁性塗膜内の磁性粒子が垂
直磁場配向される。

またテープ２の走行方向後方に電子線照射装置３が設置
されてあり、磁界発生装置１によって磁場配向されたテ
ープ２は、電子照射装置３の照射窓３Ａから放射される
電子線によって照射されて硬化される。この電子線照射
による硬化作用は従来のものと特に相違するものでない
。

しかしこのような磁場配向処理において、前述したよう
に磁石１１Ａの一方の磁極から出た磁束は、磁性片４を
帰路として戻るのでこの磁石を帰路としない浮遊磁束は
極力低減されるようになる。

しかもこの磁束は磁極面と向い合っている磁性片の表面
と垂直に出入りするので、磁性片４の表面近傍に垂直磁
場が形成されるようになり、そのためテープ２はその磁
場によって確実に垂直配向処理されるようになる。

また前記のように磁束は磁性片４に対して垂直に出入り
するので、磁束が拡がるようなことはなく、シたがって
磁界発生装置１と電子線照射装置３とが充分に接近して
設置之れでいても、磁束と電子線とが交差するようなこ
とは確実に回避できるようになる。

なおテープ２はその搬送過程で２度にわたって垂直磁場
を通過することになるが、この面垂直磁場は互いにその
磁場方向を逆にしているものの。

塗膜内の磁性粒子に対してはどちらも垂直方向に磁界が
加わるので、垂直配向性が増大するようになって都合が
よい。

一方磁性粒子内の磁化は磁場の反転によって反転するが
、磁性粒子自体は反転するに至らない。

これを具体的数値に基づいて説明すると、いまテープ２
の搬送速度を１２０ｍ／分（２ＩＩＩ／秒）、配向磁場
を３ＫＯｅとし、磁石１１Ａの磁極間の距離を６■とす
る。すると第４図に示すようにテープ２が磁石１１Ａの
Ｓ磁極を通過してから、磁石１１ＡのＳ、Ｎ磁極間の中
央に到達したとき１点Ａで示すようにテープ２は無磁場
状態におかれる。そしてこれより更に搬送されると逆方
向磁界をテープ２が受ける。この逆方向磁界が磁性粒子
の保磁力（通常は３００〜１００００ｅ）　　（点Ｂ）
を超えるときから磁性粒子に磁化反転が生じ、磁性粒子
の磁化方向と外部磁場方向とが一致することになる。

したがってテープ２は点Ａ、Ｂ間においてのみ。

磁性粒子の磁化方向と外部磁場方向とが逆となり、この
間で磁性粒子に反転力が作用するようになる。

しかし点Ａ、Ｂ間の距離は約１ａ１１であり、搬送速度
が２ｍ／秒であるときは、点Ａ、Ｂ間を通過するのに要
する時間は５ｍ秒である。

一方磁性粒子が外部配向磁場によって回転されるのに要
する時間は、塗布した液の粘度、磁場の強さにも影響さ
れるが、一般には１００ｍ秒程度とされている６したが
って前記のような５ｍ秒程度の短い時間では、粒子はほ
とんど回転することはない。

第２図、第３図は配向磁場を長く必要とするときに好適
な構成を示す。これは複数の磁石１１Ａ〜１１Ｃを用意
し、その各磁極がテープ２の搬送通路に沿って並ぶよう
に配置しである。これによれば長い磁場を一つの磁石で
構成するのに比較して、小さい磁石の複数で足りるよう
になるので、安価に製作できるようになる。

なお実際のこの種テープの製造に際しては、その量産性
の観点からテープの搬送速度は６０〜３００ｍ／分（１
〜５　ｍ　／秒）とされる。また磁石は垂直磁場を連続
して形成することが重要であり、搬送方向に沿ったＮ、
Ｓ磁極間の間隔を、１〜６ａ１１程度となるように磁石
を並べて設置する。なお磁場の強さは２０００〜８００
０ガウス程度とする。

（発明の効果） 以上詳述したようにこの発明によれば、垂直磁場配向の
ための磁界発生装置を、基材の搬送通路をはさんで少な
くともひとつのＵ字状の磁石と、その磁極に向い合う磁
性片とによって構成するようにしたので、磁石からの磁
束は磁性片を帰路とするようになるため浮遊磁束はほぼ
皆無となり、したがって磁界発生装置と電子線照射装置
とを十分に接近して設置しておいても、磁界発生装置か
らの磁束によって電子線が影響されるようなことはこれ
をもって確実に回避することができるといった効果を奏
する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の実施例を示す正面図、第２図、第３
図はこの発明の他の実施例を示す正面図、第４図は動作
説明用の特性図、第５図は従来例の正面図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基材の表面に形成されてある磁性塗膜を垂直磁場配向す
   るための磁界発生装置と、前記磁界発生装置によって磁
   場配向された前記磁性塗膜にこれを硬化するための電子
   線を照射する電子線照射装置とからなる磁気記録媒体製
   造装置において、前記磁界発生装置を、前記基材の搬送
   通路に両磁極が対向するように配置された少なくともひ
   とつのＵ字状の磁石と、前記磁石の各磁極に前記搬送通
   路をはさんで向い合うように配置された磁性片とから構
   成してなる磁気記録媒体製造装置。