JPH0331313A - セルフヒーリング,ポリウレタン層の製造方法および得られるその生成物 - Google Patents
セルフヒーリング,ポリウレタン層の製造方法および得られるその生成物Info
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- JPH0331313A JPH0331313A JP2144593A JP14459390A JPH0331313A JP H0331313 A JPH0331313 A JP H0331313A JP 2144593 A JP2144593 A JP 2144593A JP 14459390 A JP14459390 A JP 14459390A JP H0331313 A JPH0331313 A JP H0331313A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、積層安全ガラス板もしくは窓の製造に用いら
れ得る高い光学的特性のポリウレタン層の製造、詳細に
は、ガラスおよび/またはポリカーボネートもしくはポ
リメチルメタクリレートの如き硬質プラスチック材料か
ら製造される一体式のもしくは積層硬質基材のための被
覆層として、または、例えば、エネルギー吸収特性を有
するポリウレタン層もしくはポリエステル層の如きより
軟質層のための被覆層として用いられ得る、引掻きおよ
び磨耗耐性を有する熱硬化性ポリウレタン層の製造に関
し、前記層は硬質基材と接触する。
れ得る高い光学的特性のポリウレタン層の製造、詳細に
は、ガラスおよび/またはポリカーボネートもしくはポ
リメチルメタクリレートの如き硬質プラスチック材料か
ら製造される一体式のもしくは積層硬質基材のための被
覆層として、または、例えば、エネルギー吸収特性を有
するポリウレタン層もしくはポリエステル層の如きより
軟質層のための被覆層として用いられ得る、引掻きおよ
び磨耗耐性を有する熱硬化性ポリウレタン層の製造に関
し、前記層は硬質基材と接触する。
このタイプの被覆層は、例えば仏国特許第218771
9号、第2251608号および第2574396号に
記述しである。このセルフヒーリング(self−he
aling)層は、熱硬化性ポリウレタンに基づき、普
通の温度条件下で、高い弾性変形容量、2000DaN
/c4より下の低い弾性率および少くとも2%の塑性変
形で60%より上の破断点伸びを有する。
9号、第2251608号および第2574396号に
記述しである。このセルフヒーリング(self−he
aling)層は、熱硬化性ポリウレタンに基づき、普
通の温度条件下で、高い弾性変形容量、2000DaN
/c4より下の低い弾性率および少くとも2%の塑性変
形で60%より上の破断点伸びを有する。
特に好ましい熱硬化性ポリウレタンは、仏国特許第22
51608号に記述しである。
51608号に記述しである。
このタイプの層を製造するために、一般に反応性流し込
み法、すなわち熱硬化性ポリウレタン層が、一般に流し
込み装置の下で移動する平らなガラス基材の形の基材上
に連続的に流し込まれる反応成分の均質な混合物から形
成される方法が用いられる。反応性流し込み法は、例え
ば、仏国特許第2442128号に記述しである。流し
込まれる反応混合物を形成する成分は、一方ではポリオ
ール成分、一般に、2よりも高い一般に3もしくは2〜
3の官能価を有するポリエステルポリオールもしくはポ
リエーテルポリオール、ならびに他方では、官能価3を
有する、1.6−ヘキサンジイソシアネートのトリイソ
シアヌレートもしくはビウレットの中から選ばれ得るイ
ソシアネート成分である。
み法、すなわち熱硬化性ポリウレタン層が、一般に流し
込み装置の下で移動する平らなガラス基材の形の基材上
に連続的に流し込まれる反応成分の均質な混合物から形
成される方法が用いられる。反応性流し込み法は、例え
ば、仏国特許第2442128号に記述しである。流し
込まれる反応混合物を形成する成分は、一方ではポリオ
ール成分、一般に、2よりも高い一般に3もしくは2〜
3の官能価を有するポリエステルポリオールもしくはポ
リエーテルポリオール、ならびに他方では、官能価3を
有する、1.6−ヘキサンジイソシアネートのトリイソ
シアヌレートもしくはビウレットの中から選ばれ得るイ
ソシアネート成分である。
2種の前記の成分の混合物の反応性流し込みを含む方法
は、優秀な光学的特性を有し、引掻き、摩耗、表面用剤
および溶剤耐性の如き所望の特性を有する層に帰着する
。しかし、前記反応性流し込み法は、一般に200pm
を越える厚さの層でのみ完全に満足すべきものである。
は、優秀な光学的特性を有し、引掻き、摩耗、表面用剤
および溶剤耐性の如き所望の特性を有する層に帰着する
。しかし、前記反応性流し込み法は、一般に200pm
を越える厚さの層でのみ完全に満足すべきものである。
約100n以下の薄い厚さでは、得られる層の光学的特
性は、機械的性質は一般に適当であるにもかかわらず、
常に満足すべきものではない。
性は、機械的性質は一般に適当であるにもかかわらず、
常に満足すべきものではない。
一般に300 tsより下の薄い厚さの熱硬化性ポリウ
レタン層を製造するために、反応性噴霧法が提案された
。この場合、反応性混合物は流し込みヘッドによって流
し込まれることはもはやなく、その代りに、例えば高速
度で回転するボウルを有するメカニズムにより噴霧もし
くは噴霧(atomized)され、例えば欧州特許第
161184号に記述のようである。しかし、再び、得
られる光学的特性は、約100−以下の厚さを有する層
では常に満足すべきものではないということがある。
レタン層を製造するために、反応性噴霧法が提案された
。この場合、反応性混合物は流し込みヘッドによって流
し込まれることはもはやなく、その代りに、例えば高速
度で回転するボウルを有するメカニズムにより噴霧もし
くは噴霧(atomized)され、例えば欧州特許第
161184号に記述のようである。しかし、再び、得
られる光学的特性は、約100−以下の厚さを有する層
では常に満足すべきものではないということがある。
本発明は、反応性流し込みもしくは反応性噴霧による、
および前記の不利益を取り除く、ポリウレタン層の製造
、より詳細には100nより下の厚さでさえ、良好な光
学的特性のセルフヒーリング熱硬化性ポリウレタン層を
製造することを可能にするための新規な方法を提案する
。
および前記の不利益を取り除く、ポリウレタン層の製造
、より詳細には100nより下の厚さでさえ、良好な光
学的特性のセルフヒーリング熱硬化性ポリウレタン層を
製造することを可能にするための新規な方法を提案する
。
本発明の方法に従って、必要な官能価を有し熱硬化性ポ
リウレタン層を得るために当業者にとって公知のおよび
本場合にはイソシアネート成分として官能価3を有する
成分の反応混合物の層形成基材上にもはや付着物はない
。代りに、本発明に従って、基材上に、官能価2を有す
るモノマージイソシアネートおよびポリオール成分の混
合物が流し込みもしくは噴霧することにより付着される
。
リウレタン層を得るために当業者にとって公知のおよび
本場合にはイソシアネート成分として官能価3を有する
成分の反応混合物の層形成基材上にもはや付着物はない
。代りに、本発明に従って、基材上に、官能価2を有す
るモノマージイソシアネートおよびポリオール成分の混
合物が流し込みもしくは噴霧することにより付着される
。
イソシアネートのトリマー化が、熱の作用によるポリウ
レタンの重合反応が起こるとき、層形成基材上で起こる
。トリマー化は、有利には重合反応と同時もしくは直前
に実施される。
レタンの重合反応が起こるとき、層形成基材上で起こる
。トリマー化は、有利には重合反応と同時もしくは直前
に実施される。
本発明によるイソシアネートの現場でのトリマー化は、
驚くほど安全ガラス板の用途に必要なすべての特性を有
する層を製造することを可能にする。所望の最終生成物
、すなわち熱硬化性ポリウレタンを得るためのイソシア
ネート成分として適合する官能価すなわち官能価3を有
する成分の非常に均質な反応混合物から高い光学的特性
を有する層を製造することの困難を知って、当業者は、
反応性流し込み、層中の不均質性の源を占め、回復でき
ない光学的欠点に帰着しがちな補足の反応により高い光
学的特性の層の製造方法を提供することを期待しなかっ
た。
驚くほど安全ガラス板の用途に必要なすべての特性を有
する層を製造することを可能にする。所望の最終生成物
、すなわち熱硬化性ポリウレタンを得るためのイソシア
ネート成分として適合する官能価すなわち官能価3を有
する成分の非常に均質な反応混合物から高い光学的特性
を有する層を製造することの困難を知って、当業者は、
反応性流し込み、層中の不均質性の源を占め、回復でき
ない光学的欠点に帰着しがちな補足の反応により高い光
学的特性の層の製造方法を提供することを期待しなかっ
た。
本発明による現場でのトリマー化は、モノマー1.6−
ヘキサメチレンジイソシアネートの場合の下記図による
トリイソシアヌレートを形成する閉環トリマー化であり
得る: 前記で参照された1、6−へキサメチレンジイソシアネ
ー(・は別として、他のモノマージイソシアネートが、
本発明による方法で用いられ得る。
ヘキサメチレンジイソシアネートの場合の下記図による
トリイソシアヌレートを形成する閉環トリマー化であり
得る: 前記で参照された1、6−へキサメチレンジイソシアネ
ー(・は別として、他のモノマージイソシアネートが、
本発明による方法で用いられ得る。
これらは、単独タイプの七ツマ−もしくはモノマーの混
合物、後記に示されたようなイソシアネートビウレット
もしくはトリイソシアヌレートから形成できるジイソシ
アネートである。
合物、後記に示されたようなイソシアネートビウレット
もしくはトリイソシアヌレートから形成できるジイソシ
アネートである。
3−イソシアナトメチル−3,5,5−)リメチルシク
ロへキシルジイソシアネート(IPDI)、m−テトラ
メチルキシリレンジイソシアネート(m−TMX旧)お
よび2 、2 、4−)ジメチル−6−ヘキサンジイソ
シアネート(TMDI)を参照されたい。
ロへキシルジイソシアネート(IPDI)、m−テトラ
メチルキシリレンジイソシアネート(m−TMX旧)お
よび2 、2 、4−)ジメチル−6−ヘキサンジイソ
シアネート(TMDI)を参照されたい。
現場で1.6−ヘキサメチレンジイソシアネートの閉環
トリマー化を実施するために、反応器中での閉環トリマ
ー化反応のための公知の触媒、例えば、有機金属触媒、
第四アンモニウムの有機酸塩もしくは水酸化物、酢酸カ
リウムもしくはオクタン酸カリウムの如き強塩基を用い
ることが可能である。
トリマー化を実施するために、反応器中での閉環トリマ
ー化反応のための公知の触媒、例えば、有機金属触媒、
第四アンモニウムの有機酸塩もしくは水酸化物、酢酸カ
リウムもしくはオクタン酸カリウムの如き強塩基を用い
ることが可能である。
触媒の量は、触媒のタイプの関数として変化し得る。一
般に、反応混合物中のジイソシアネートの重量に基づい
て0.01〜5重量%の触媒レベルが選ばれる。
般に、反応混合物中のジイソシアネートの重量に基づい
て0.01〜5重量%の触媒レベルが選ばれる。
1.6−ヘキサメチレンジイソシアネートの現場でのト
リマー化のために特に適当である触媒は、第四アンモニ
ウム塩、例えば、Dabco TMHの名前で市販され
ている製品である。
リマー化のために特に適当である触媒は、第四アンモニ
ウム塩、例えば、Dabco TMHの名前で市販され
ている製品である。
さまざまな本発明に従って、現場でのトリマー化は、モ
ノマージイソシアネートのビウレット化反応、詳細には
第一、第二もしくは第三脂肪族アミンの如きビウレット
化剤の存在下での、1.6−ヘキサメチレンジイソシア
ネートの低粘度イソシアネートビウレットへの帰着であ
り得る。
ノマージイソシアネートのビウレット化反応、詳細には
第一、第二もしくは第三脂肪族アミンの如きビウレット
化剤の存在下での、1.6−ヘキサメチレンジイソシア
ネートの低粘度イソシアネートビウレットへの帰着であ
り得る。
本発明による方法で用いられるポリオール成分は、前記
の仏国特許第2187719号、第2251608号お
よび第2574396号に記述されている熱硬化性ポリ
ウレタン層の製造で公知であり用いられている。
の仏国特許第2187719号、第2251608号お
よび第2574396号に記述されている熱硬化性ポリ
ウレタン層の製造で公知であり用いられている。
このポリオール成分は、1.2.3−プロパントリオー
ル(グリセロール)、2.2−ビス−(ヒドロキシメチ
ル)−1−プロパツール(トリメチロールエタン)、2
.2−ビス−(ヒドロキシメチル)−1−ブタノール(
トリメチロールプロパン)、1,2.4−ブタントリオ
ール、1゜2.6−ヘキサンドリオール、2.2−ビス
−(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオール(
ペンタエリトリトール)および1,2,3゜4.5.6
−ヘキサンヘキツール(ソルビトール)の如き多官能価
アルコールの、マロン、琥珀、グルタル、アジピン、ス
ペリンおよびセバシン酸の如き脂肪族二酸との、または
エチレンオキシド、1.2−プロピレンオキシドおよび
テトラヒドロフランの如き環状エーテルとの反応により
得られるポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオ
ールの中から選ばれ得る。ポリオールは、またポリ(ε
−カプロラクトン)ポリオールであり得る。
ル(グリセロール)、2.2−ビス−(ヒドロキシメチ
ル)−1−プロパツール(トリメチロールエタン)、2
.2−ビス−(ヒドロキシメチル)−1−ブタノール(
トリメチロールプロパン)、1,2.4−ブタントリオ
ール、1゜2.6−ヘキサンドリオール、2.2−ビス
−(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオール(
ペンタエリトリトール)および1,2,3゜4.5.6
−ヘキサンヘキツール(ソルビトール)の如き多官能価
アルコールの、マロン、琥珀、グルタル、アジピン、ス
ペリンおよびセバシン酸の如き脂肪族二酸との、または
エチレンオキシド、1.2−プロピレンオキシドおよび
テトラヒドロフランの如き環状エーテルとの反応により
得られるポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオ
ールの中から選ばれ得る。ポリオールは、またポリ(ε
−カプロラクトン)ポリオールであり得る。
分校ポリオールの分子量は、有利には約250〜400
0、および好ましくは約450〜2000である。
0、および好ましくは約450〜2000である。
好ましいポリオール成分は、分子量的450を有し、1
.2−プロピレンオキシドの2,2−ビス−(ヒドロキ
シメチル)−11、反応混合物の縮合により得られ、遊
離ヒドロキシル基含有率約10.5〜12重量%を有す
るポリエーテルポリオール、トリメチロールプロパン、
■、6−ヘキサンジオール、アジピン酸および0および
i−フタル酸に基づき、OHラジカル含有率3〜5重量
%を有する弱分技ポリエステルポリオール、トリメチロ
ールヘキサンジオール、アジピン酸ならびにoおよびi
−フタル酸に基づき、OH基含有率約8〜12重量%を
有する三官能価ラクトンポリエステルポリオールの中か
ら選ばれる。
.2−プロピレンオキシドの2,2−ビス−(ヒドロキ
シメチル)−11、反応混合物の縮合により得られ、遊
離ヒドロキシル基含有率約10.5〜12重量%を有す
るポリエーテルポリオール、トリメチロールプロパン、
■、6−ヘキサンジオール、アジピン酸および0および
i−フタル酸に基づき、OHラジカル含有率3〜5重量
%を有する弱分技ポリエステルポリオール、トリメチロ
ールヘキサンジオール、アジピン酸ならびにoおよびi
−フタル酸に基づき、OH基含有率約8〜12重量%を
有する三官能価ラクトンポリエステルポリオールの中か
ら選ばれる。
現場でのトリマー化反応触媒は別として、本発明により
有利に用いられる反応混合物は、現場で形成されるトリ
イソシアネートおよびポリオール成分間の縮合によるポ
リウレタンの形成反応に特定な2番目の触媒を含む、こ
の触媒は、例えば有機金属化合物、特にジブチル錫ジラ
ウレートの如きオルガノ錫である。
有利に用いられる反応混合物は、現場で形成されるトリ
イソシアネートおよびポリオール成分間の縮合によるポ
リウレタンの形成反応に特定な2番目の触媒を含む、こ
の触媒は、例えば有機金属化合物、特にジブチル錫ジラ
ウレートの如きオルガノ錫である。
ポリオールとの反応の前にジイソシアネートのトリマー
化を確実にするために、一般に、ポリウレタン形成反応
において用いられるものより大量の特定のトリマー化触
媒が用いられる。従って、特定なトリマー化触媒の量は
、有利には、重合反応のための触媒量の10倍よりも大
きくあり得る。
化を確実にするために、一般に、ポリウレタン形成反応
において用いられるものより大量の特定のトリマー化触
媒が用いられる。従って、特定なトリマー化触媒の量は
、有利には、重合反応のための触媒量の10倍よりも大
きくあり得る。
反応混合物中の一方ではジイソシアネートのおよび他方
ではポリオールの量は、好ましくは、最終NC010H
比0.7〜1.2を有するように計算される。
ではポリオールの量は、好ましくは、最終NC010H
比0.7〜1.2を有するように計算される。
本発明による方法の他の利益は、トリマー化反応が、2
を越える官能価を有する成分の反応混合物の反応性流し
込みによるポリウレタン層の公知の製造に用いられる温
度条件を用いるということである。従って、反応混合物
は、それ自体80″Cより下の温度に上げられている基
材上に一般に80°Cより下の温度で流し込まれ、流し
込み基材上に形成される層は、次に重合のために100
〜150″Cの温度に上げられる。
を越える官能価を有する成分の反応混合物の反応性流し
込みによるポリウレタン層の公知の製造に用いられる温
度条件を用いるということである。従って、反応混合物
は、それ自体80″Cより下の温度に上げられている基
材上に一般に80°Cより下の温度で流し込まれ、流し
込み基材上に形成される層は、次に重合のために100
〜150″Cの温度に上げられる。
本発明により流し込まれ噴霧される低粘度の反応混合物
の結果として、前記方法は、わずか数ダ会番横ポリウレ
タン層に帰着し得る。
の結果として、前記方法は、わずか数ダ会番横ポリウレ
タン層に帰着し得る。
重合と同時にもしく↓ま直前のいずれかにトリマー化を
実施される層形成基材は、有利には、例えば、仏国特許
第2383000号に記述されているように、あらかじ
め必要があれば分離もしくは離型剤でコートされ負、連
続ガラス基材、連続金属バンドまたはεP−A−003
8760およびEP−A−0131483に記述されて
いるような延伸軟質リボンである。
実施される層形成基材は、有利には、例えば、仏国特許
第2383000号に記述されているように、あらかじ
め必要があれば分離もしくは離型剤でコートされ負、連
続ガラス基材、連続金属バンドまたはεP−A−003
8760およびEP−A−0131483に記述されて
いるような延伸軟質リボンである。
本発明の他の特徴および利益を、以下の実施例から集め
得る。
得る。
■土
離型剤でコートされ、例えば仏国特許第2383000
号に記述されているものであり得る連続移動ガラス基材
、すなわち改質エチレンオキシド付加生成物上に、以下
の成分の均質な混合物を流し込む:分子量約450を有
し、1,2−プロピレンオキシドの2,2−ビス−(ヒ
ドロキシメチル)−11、反応混合物の縮合により得ら
れ、遊離ヒドロキシル基含有率約10.5〜12%を有
し、0.5重量パーセントの安定剤、ジイソシアネート
のトリマー化のための触媒として用いられる0、75重
量%の第四アンモニウム塩、ポリウレタンの重合反応の
ための0.025重量パーセントの触媒、すなわちジブ
チル錫ジラウレートおよび0.05重量パーセントのコ
ーチング剤を含む1000 gのポリエーテル、880
gの1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート。
号に記述されているものであり得る連続移動ガラス基材
、すなわち改質エチレンオキシド付加生成物上に、以下
の成分の均質な混合物を流し込む:分子量約450を有
し、1,2−プロピレンオキシドの2,2−ビス−(ヒ
ドロキシメチル)−11、反応混合物の縮合により得ら
れ、遊離ヒドロキシル基含有率約10.5〜12%を有
し、0.5重量パーセントの安定剤、ジイソシアネート
のトリマー化のための触媒として用いられる0、75重
量%の第四アンモニウム塩、ポリウレタンの重合反応の
ための0.025重量パーセントの触媒、すなわちジブ
チル錫ジラウレートおよび0.05重量パーセントのコ
ーチング剤を含む1000 gのポリエーテル、880
gの1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート。
最終理論NGO10H比は、0.8である。
混合物を、仏国特許第2347170号に記述されてい
るような流し込みヘッドにより供給する。0.1調厚さ
の−様な層を、流し込み点で約40°Cの温度である流
し込み基材上に形成する0層の温度を次に、イソシアネ
ート成分のトリマー化を実施するために約80°Cに約
5分間上げ、次に、さらに温度を、ポリウレタン層の重
合のために約120℃に約15分間上げる。熱処理を、
全部で約20分続ける。得られた層は、透明であり、良
好な光学的特性を有する。この層は、例えば、三官能価
成分の混合物の流し込みによる仏国特許第225160
8号に記述された方法で製造された層のものに匹敵する
、引掻きおよび磨耗耐性、ならびに引掻きおよび破断点
伸び耐性の如き機械耐性を有する。
るような流し込みヘッドにより供給する。0.1調厚さ
の−様な層を、流し込み点で約40°Cの温度である流
し込み基材上に形成する0層の温度を次に、イソシアネ
ート成分のトリマー化を実施するために約80°Cに約
5分間上げ、次に、さらに温度を、ポリウレタン層の重
合のために約120℃に約15分間上げる。熱処理を、
全部で約20分続ける。得られた層は、透明であり、良
好な光学的特性を有する。この層は、例えば、三官能価
成分の混合物の流し込みによる仏国特許第225160
8号に記述された方法で製造された層のものに匹敵する
、引掻きおよび磨耗耐性、ならびに引掻きおよび破断点
伸び耐性の如き機械耐性を有する。
、LL
例1の手順を、次の成分の均質な混合物の流し込みに続
ける: 遊離基含有率9.3重量%を有し、0.5重量パーセン
トの安定剤、トリマー化触媒として用いられる0、75
重量パーセントの第四アンモニウム塩、重合反応のため
の0.025重量%の触媒、すなわちジブチル錫ジラウ
レートおよび0.05重重量のコーチング剤を含む、ト
リメチロールプロパンおよびi−フタル酸に基づ< 9
42gの三官能価ポリカプロラクトン、 1000 gの1,6−ヘキサメチレンジイソシアネー
ト。
ける: 遊離基含有率9.3重量%を有し、0.5重量パーセン
トの安定剤、トリマー化触媒として用いられる0、75
重量パーセントの第四アンモニウム塩、重合反応のため
の0.025重量%の触媒、すなわちジブチル錫ジラウ
レートおよび0.05重重量のコーチング剤を含む、ト
リメチロールプロパンおよびi−フタル酸に基づ< 9
42gの三官能価ポリカプロラクトン、 1000 gの1,6−ヘキサメチレンジイソシアネー
ト。
最終理論NC010H比は1である。
0.1−厚さの層を形成し、120°Cの温度に20分
間上げる。
間上げる。
得られた層は、後記に示されるように、安全ガラス板に
おける被覆層としての用途に適当であるような、良好な
光学的および機械的性質を有する。
おける被覆層としての用途に適当であるような、良好な
光学的および機械的性質を有する。
貫主
例2の手順を、0.3 am厚さの層を形成する以外は
、追った6重合後、層は良好な光学的特性を有する。
、追った6重合後、層は良好な光学的特性を有する。
2Z」」世−ど桝
反応混合物を、遊離NCO基含有率21.5重量%を有
する1、6−ヘキサメチレンジイソシアネートに基づく
イソシアヌレートから形成された1000gの三官能価
ポリイソシアネートを、遊離OH基含有率9゜3重量%
を有する942gの三官能価ポリカプロラクトンと混合
することにより製造する。
する1、6−ヘキサメチレンジイソシアネートに基づく
イソシアヌレートから形成された1000gの三官能価
ポリイソシアネートを、遊離OH基含有率9゜3重量%
を有する942gの三官能価ポリカプロラクトンと混合
することにより製造する。
従って、NC010H比は、■である。ポリカプロラク
トンに、触媒として、ポリカプロラクトン重量に基づい
てあらかじめ0.015重量%のジブチル錫ジラウレー
トを添加する。
トンに、触媒として、ポリカプロラクトン重量に基づい
てあらかじめ0.015重量%のジブチル錫ジラウレー
トを添加する。
反応混合物を、0.1mm厚さの層を形成するために、
例1におけるような流し込み基材上に付着させる。温度
を、ポリウレタン層を重合させるために、120℃に1
5分間上げる。得られた層は、前の例のものに対して劣
った光学的特性を有する。たてすしが観察される(層が
より厚いときにはないケースである)。磨耗試験は、そ
れで重要ではない。
例1におけるような流し込み基材上に付着させる。温度
を、ポリウレタン層を重合させるために、120℃に1
5分間上げる。得られた層は、前の例のものに対して劣
った光学的特性を有する。たてすしが観察される(層が
より厚いときにはないケースである)。磨耗試験は、そ
れで重要ではない。
前記の被覆層の重合の次に、およびそれらを形酸基材か
ら除去した後、それらの機械的av’t。
ら除去した後、それらの機械的av’t。
5tandard DIN 53455による引張強さ
および引張伸びをシートについて測定することにより測
定する。
および引張伸びをシートについて測定することにより測
定する。
加えて、磨耗耐性をEuropean 5tandar
d ECE R−43により、および引掻き耐性をEr
1chsen法により、ガラス基材への付着ポリウレタ
ン層について測定する。Er1chsen法による引掻
耐性の測定の間、用いられた円錐引掻きダイアモンドが
円錐角度50゜および円錐の頂点での曲率半径15mを
有するという以外は、DIN 5tandard 53
799に記述されているような実験取決めを用いる。引
掻き耐性の測定については、表面上にまったく永久可視
損傷が識別され得ない最高応力重量の引掻きダイアモン
ドを必要とする。
d ECE R−43により、および引掻き耐性をEr
1chsen法により、ガラス基材への付着ポリウレタ
ン層について測定する。Er1chsen法による引掻
耐性の測定の間、用いられた円錐引掻きダイアモンドが
円錐角度50゜および円錐の頂点での曲率半径15mを
有するという以外は、DIN 5tandard 53
799に記述されているような実験取決めを用いる。引
掻き耐性の測定については、表面上にまったく永久可視
損傷が識別され得ない最高応力重量の引掻きダイアモン
ドを必要とする。
ポリウレタン層の表面状態を、目視評価する。
機械的測定の結果を表1に示しである。後者は、また、
異なる機械的性質について、測定された値がセルフヒー
リング特性を有し安全ガラス板における使用条件を満足
するようなポリウレタン層について順序正しく現れねば
ならない範囲を示す。
異なる機械的性質について、測定された値がセルフヒー
リング特性を有し安全ガラス板における使用条件を満足
するようなポリウレタン層について順序正しく現れねば
ならない範囲を示す。
本発明による方法により得られた被覆層は、単独で、ま
たは例えば欧州特許筒132198号および第1330
90号に記述された方法で2層シートを形成するための
エネルギー吸収特性を有するポリウレタン層と一緒に、
安全ガラス板で用いられ得る。
たは例えば欧州特許筒132198号および第1330
90号に記述された方法で2層シートを形成するための
エネルギー吸収特性を有するポリウレタン層と一緒に、
安全ガラス板で用いられ得る。
l−土
破断耐性 引張伸び 磨耗 引掻耐性
N/IIIflIt % % (g)必要な
範囲の 5−40 >60 <4
>10限界
範囲の 5−40 >60 <4
>10限界
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、イソシアネート成分が、熱作用によるポリウレタン
層の重合と一緒に、トリマー化反応が基材上で実施され
、およびトリマー化触媒を含む反応混合物が層形成前記
基材上への流し込みもしくは噴霧により付着させられる
、特定の触媒の存在下でのトリマー化反応によりイソシ
アネートトリマーを形成することができる、本質的にモ
ノマーの形のジイソシアネートもしくはジイソシアネー
ト混合物であることを特徴とする、形成前記基材上への
、官能価少くとも2を有するポリオール成分およびイソ
シアネート成分の反応混合物の反応性流し込みもしくは
反応性噴霧による、セルフヒーリング(self−he
aling)特性を有する熱硬化性ポリウレタン被覆層
の製造方法。 2、トリマー化が、層の重合反応と同時にもしくは直前
に実施されることを特徴とする請求項1記載の方法。 3、モノマーイソシアネートが、1,6−ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、3−イソシアナトメチル−3,5
,5−トリメチルシクロヘキシルジイソシアネート、m
−テトラメチルキシリレンジイソシアネートおよび2,
2,4−トリメチル−6−ヘキサンジイソシアネートの
中から選ばれることを特徴とする請求項1もしくは2の
いずれかに記載の方法。 4、トリマー化触媒が、トリイソシアヌレートを得る触
媒であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記
載の方法。 5、トリマー化触媒が、イソシアネートビウレットを得
る触媒であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか
に記載の方法。 6、モノマーイソシアネートが、1,6−ヘキサメチレ
ンジイソシアネートであることを特徴とする請求項1〜
5のいずれかに記載の方法。 7、トリマー化触媒が、有機金属触媒、第四アンモニウ
ムの有機酸塩および強塩基の中から選ばれることを特徴
とする請求項4記載の方法。 8、トリマー化触媒が、有機第四アンモニウム酸塩であ
ることを特徴とする請求項7記載の方法。 9、ポリオール成分が、本質的に、2よりも高い官能価
、好ましくは3官能価を有するポリオールから形成され
ることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の方
法。 10、反応混合物が、また、ポリウレタン重合反応に特
定な触媒を含むことを特徴とする請求項1〜9のいずれ
かに記載の方法。 11、反応混合物のトリマー化触媒の重量濃度が、重合
触媒のそれの少くとも10倍であることを特徴とする請
求項10記載の方法。 12、ポリオール成分が、1,2−プロピレンオキシド
の2,2−ビス−(ヒドロキシメチル)−1−ブタノー
ルとの縮合により得られるポリエーテル、トリメチロー
ルプロパン、ヘキサンジオール、アジピン酸ならびにo
およびi−フタル酸に基づくポリエステルポリオール、
トリメチロールプロパンもしくはグリセロールおよびε
−カプロラクトンに基づく3官能価ラクトンポリエステ
ルポリオールの中から選ばれることを特徴とする請求項
1〜11のいずれかに記載の方法。 13、被覆層が、反応性流し込みにより得られるエネル
ギー吸収特性を有するポリウレタン層に関連することを
特徴とする請求項1〜12のいずれかに記載の方法。 14、請求項1〜13のいづれかに記載の方法により得
られるポリウレタン被覆層。 15、請求項14記載の被覆層を含むことを特徴とする
、高い光学的特性を有するプラスチック材料シート。 16、請求項1〜15のいずれかに記載の被覆層を用い
ることを特徴とする、一体式のもしくは積層ガラスもし
くはプラスチック材料基材を含むガラス板。
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