JPH0330938A - フレキシブル銅張積層板 - Google Patents
フレキシブル銅張積層板Info
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- JPH0330938A JPH0330938A JP16724289A JP16724289A JPH0330938A JP H0330938 A JPH0330938 A JP H0330938A JP 16724289 A JP16724289 A JP 16724289A JP 16724289 A JP16724289 A JP 16724289A JP H0330938 A JPH0330938 A JP H0330938A
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、フレキシブル印刷配線板の製造に用いられる
フレキシブル銅張積層板の改良に関する。
フレキシブル銅張積層板の改良に関する。
(従来の技術)
周知のように、フレキシブルプリント基板(Flexi
ble Pr1nted C1rcuit s :
FPCと略す)は、高分子絶縁フィルムと導体回路と
なる金属箔を有機接着剤を用いて貼合せて製造されたフ
レキシブル銅張積層板(Metal C1ad F
ilm:MCFと略す)を加工したものであり、柔軟性
を有するという最大の特長によって電子機器内のスペー
スを有効に活用することができ、近年における電子機器
の軽薄短小化を有効に達成する手段として多用されてい
る。
ble Pr1nted C1rcuit s :
FPCと略す)は、高分子絶縁フィルムと導体回路と
なる金属箔を有機接着剤を用いて貼合せて製造されたフ
レキシブル銅張積層板(Metal C1ad F
ilm:MCFと略す)を加工したものであり、柔軟性
を有するという最大の特長によって電子機器内のスペー
スを有効に活用することができ、近年における電子機器
の軽薄短小化を有効に達成する手段として多用されてい
る。
しかして、電子機器の一層の高性能化に伴ってこれらF
PCについても、耐熱性、屈曲性1寸法安定性などのよ
り一層の向上か求められてきているが、MCFにおける
耐熱性などの性能は用いられる接着剤により支配され、
かつ接着剤としてはエポキシ樹脂系(ゴム成分十エポキ
シ成分)のものが主でありその性能の大幅な改善は望め
ない。
PCについても、耐熱性、屈曲性1寸法安定性などのよ
り一層の向上か求められてきているが、MCFにおける
耐熱性などの性能は用いられる接着剤により支配され、
かつ接着剤としてはエポキシ樹脂系(ゴム成分十エポキ
シ成分)のものが主でありその性能の大幅な改善は望め
ない。
このため、導体となる金属箔と絶縁フィルムとを直接接
合させてその性能向上を図る、いわゆる箔上にポリアミ
ド酸ワニスを直接塗布し硬化させて製造される2層タイ
プのMCFを提案している。
合させてその性能向上を図る、いわゆる箔上にポリアミ
ド酸ワニスを直接塗布し硬化させて製造される2層タイ
プのMCFを提案している。
このMCFにおいて用いられるポリアミド酸ワニスとし
ては、熱により硬化させてポリイミドフィルムとした際
に金属箔との熱膨張係数がほぼ同一となるように設計さ
れており、これにより熱膨張係数の異なる物質同士を貼
合わせた際に生じるカール現象を抑えるようにしている
。
ては、熱により硬化させてポリイミドフィルムとした際
に金属箔との熱膨張係数がほぼ同一となるように設計さ
れており、これにより熱膨張係数の異なる物質同士を貼
合わせた際に生じるカール現象を抑えるようにしている
。
すなわち、ポリイミドフィルム層(以下、単にフィルム
層という)と金属箔の熱膨張係数値の差を1.5X10
−5℃−1以下とすることで、MCFとしてのカールを
抑制している。
層という)と金属箔の熱膨張係数値の差を1.5X10
−5℃−1以下とすることで、MCFとしてのカールを
抑制している。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、上記のようなMCFは、エツチング処理
により金属層を除去すると、フィルム層の金属箔接着面
の近傍に残存する応力により、フィルム層は金属層側に
カールしてしまう。
により金属層を除去すると、フィルム層の金属箔接着面
の近傍に残存する応力により、フィルム層は金属層側に
カールしてしまう。
ただし、この応力は非常に小さいため端部に金属箔を額
縁状に残すことで抑えることができるが、このような方
式は、MCFの処理を枚葉で処理する場合には可能であ
るが、コイル状で連続処理をする場合には困難であるば
かりでなく、単位当りの取り数も少なくなるなどの問題
があった。
縁状に残すことで抑えることができるが、このような方
式は、MCFの処理を枚葉で処理する場合には可能であ
るが、コイル状で連続処理をする場合には困難であるば
かりでなく、単位当りの取り数も少なくなるなどの問題
があった。
本発明は、上記のような事情に鑑みてなされたものであ
り、その目的とするところは、フィルム層のカールが少
ない2層タイプのMCFを安価に提供するものである。
り、その目的とするところは、フィルム層のカールが少
ない2層タイプのMCFを安価に提供するものである。
(課題を解決するための手段)
上記のような目的を達成するために、本発明者は、フィ
ルム層の応力がフィルム層の表層を1〜2μm除去する
ことでなくなることから、その応力が接着面のごく近傍
に残存することに着目し、種々の銅箔特にフィルム層の
カール量と銅箔の接着面との関係について鋭意検討した
結果、銅箔の粗度とフィルム層のカール量との間に強い
相関のあること、すなわち銅箔の粗度が大きいほどカー
ル量も大きく粗度が小さい銅箔はどカール傷も小さいと
いう相関関係あることを知見し、粗度の小さな鋼箔を用
いることがカール量を下げるにあたり有効であることを
知見した。
ルム層の応力がフィルム層の表層を1〜2μm除去する
ことでなくなることから、その応力が接着面のごく近傍
に残存することに着目し、種々の銅箔特にフィルム層の
カール量と銅箔の接着面との関係について鋭意検討した
結果、銅箔の粗度とフィルム層のカール量との間に強い
相関のあること、すなわち銅箔の粗度が大きいほどカー
ル量も大きく粗度が小さい銅箔はどカール傷も小さいと
いう相関関係あることを知見し、粗度の小さな鋼箔を用
いることがカール量を下げるにあたり有効であることを
知見した。
銅箔については、現在市販されているものの中で接着面
の粗度の小さいものとしては圧延銅箔があるが、圧延銅
箔は高価な上に製造した際に必ずクルミを生ずるため、
MCFの製造時にこのタルミが問題を生じるとともに、
1m以上の幅広の箔の入手ができないために生産性も悪
く、しかも20μm未満の薄い箔が人手が困難なために
FPCが微細化している現状にそぐわないなどの欠点が
ある。
の粗度の小さいものとしては圧延銅箔があるが、圧延銅
箔は高価な上に製造した際に必ずクルミを生ずるため、
MCFの製造時にこのタルミが問題を生じるとともに、
1m以上の幅広の箔の入手ができないために生産性も悪
く、しかも20μm未満の薄い箔が人手が困難なために
FPCが微細化している現状にそぐわないなどの欠点が
ある。
これに対して電解銅箔は、安価であるとともにクルミf
fiも少な(、また幅広品や薄箔のものも入手し易く、
しかも生産性に優れるなどの長所を有するが、接着面の
粗度は通常平均粗さで1. 0μm以上であり、このた
め、2層タイプのMCFを作成した場合にはフィルム層
のカール量が大きいという欠点を生ずる。
fiも少な(、また幅広品や薄箔のものも入手し易く、
しかも生産性に優れるなどの長所を有するが、接着面の
粗度は通常平均粗さで1. 0μm以上であり、このた
め、2層タイプのMCFを作成した場合にはフィルム層
のカール量が大きいという欠点を生ずる。
よって、本発明は銅箔上に直接ワニスを塗布して製造す
る2層タイプのMCFにおいて、表面粗度の小さな電解
銅箔すなわちその表面粗度が0゜3〜0.8μm程度の
ものを用いることにより、フィルム層のカール量を極め
て小さく抑え、作業上、使用上において支障のないMC
Fを得るものである。
る2層タイプのMCFにおいて、表面粗度の小さな電解
銅箔すなわちその表面粗度が0゜3〜0.8μm程度の
ものを用いることにより、フィルム層のカール量を極め
て小さく抑え、作業上、使用上において支障のないMC
Fを得るものである。
しかも、銅箔におけるワニス塗布面の粗度を小さくする
ことにより、エツチング加工により得られる銅回路に対
してすそ引きが少な(シャープであり、かつ微細加工に
適したMCFを得ることができる。
ことにより、エツチング加工により得られる銅回路に対
してすそ引きが少な(シャープであり、かつ微細加工に
適したMCFを得ることができる。
(実施例)
以下に実施例をもとに本発明を説明する。
粗度の小さな銅箔は、1mm厚さの5US304の板上
に電気メツキにより厚さが約35μm程度になるように
析出させた。
に電気メツキにより厚さが約35μm程度になるように
析出させた。
用いたメツキ浴及び光沢剤は、下記の如き組成による。
(ただし、メツキの条件は液温か23℃とした。)
メツキ浴組成
硫酸銅(5水和物) 75g/Jz。
硫酸 180g/、e塩素イオン
50mg/、gキューパスM−R5観/
i!。
50mg/、gキューパスM−R5観/
i!。
(日本エレクトロプレイティング・エンジニャース(株
)製品名)陰極電流密度3.OA/dm’で析出させた
後、SUS板より剥離した。
)製品名)陰極電流密度3.OA/dm’で析出させた
後、SUS板より剥離した。
得られた銅箔の平均表面粗度は、SUS板側が0.2μ
m2反対側が0.3μmであった。
m2反対側が0.3μmであった。
粗度の測定は表面形状測定器;MODELSE−3FS
((株)小板研究所製)で行った。
((株)小板研究所製)で行った。
次に、銅箔にポリアミド酸ワニスを硬化後で25μmの
厚さになるように塗布した。
厚さになるように塗布した。
用いたワニスは、本出願人が先に出願した特願昭59−
11843号明細書中にも詳記されているように、N−
メチル、2−ピロリドンを溶媒とし、パラフェニレンジ
アミン/4.4”−ジアミノジフェニルエーテル/3.
’I、4.4−−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
を重量割合0゜410.110.5で配合し、固形分が
15%になるように調整したものである。
11843号明細書中にも詳記されているように、N−
メチル、2−ピロリドンを溶媒とし、パラフェニレンジ
アミン/4.4”−ジアミノジフェニルエーテル/3.
’I、4.4−−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
を重量割合0゜410.110.5で配合し、固形分が
15%になるように調整したものである。
乾燥及び硬化条件は、塗布後150℃で30分オーブン
中で乾燥した後、400℃の窒素気流中で硬化した。
中で乾燥した後、400℃の窒素気流中で硬化した。
上記方法により製造したMCFは、従来銅箔(接着面平
均粗度2.0〜2.2μm)を用いたMCFに比べ、フ
ィルム層のカールを曲率半径で表すと約6倍となり、非
常に小さなカールに押さえることができた。
均粗度2.0〜2.2μm)を用いたMCFに比べ、フ
ィルム層のカールを曲率半径で表すと約6倍となり、非
常に小さなカールに押さえることができた。
このような2層タイプのMCFにおいて、エツチング加
工後におけるフィルム層のカール量低減化の理由につい
ては、以下のように推測される。
工後におけるフィルム層のカール量低減化の理由につい
ては、以下のように推測される。
通常、ワニスを銅箔上に塗布、硬化した際に生じる応力
は、接着面近傍の1〜2μmの部分に残っており、この
ため銅箔の粗度とは無関係に残留応力によりカールが発
生するが、カール量は応力とフィルム層の弾力性のバラ
ンスによって決定される。
は、接着面近傍の1〜2μmの部分に残っており、この
ため銅箔の粗度とは無関係に残留応力によりカールが発
生するが、カール量は応力とフィルム層の弾力性のバラ
ンスによって決定される。
しかして、粗度が大きいと表面積が大きくなり、トータ
ルの残留応力の量が大となるが、それに比べ粗度の小さ
いものは残留応力の竜が小さくなるため、そのカール量
は小さくなるものと思われる。
ルの残留応力の量が大となるが、それに比べ粗度の小さ
いものは残留応力の竜が小さくなるため、そのカール量
は小さくなるものと思われる。
このような理由により、銅箔の粗度は小さければ小さい
ほど有利であるが、実際には0. 8μ[n以下に銅箔
表面の粗度を押さえればほぼ同じようなカール量となる
。
ほど有利であるが、実際には0. 8μ[n以下に銅箔
表面の粗度を押さえればほぼ同じようなカール量となる
。
また、このような低粗度の銅箔を用いることにより、エ
ツチングにより導体回路を形成した際に下部のエツジ部
分がシャープになり微細加工に適するという利点も生ず
る。
ツチングにより導体回路を形成した際に下部のエツジ部
分がシャープになり微細加工に適するという利点も生ず
る。
(発明の効果)
以」二説明したように、本発明に係わる2層タイプのフ
レキシブル銅張積層板は、ワニス接着面における銅箔の
粗度が小さいために、エツチング後のポリイミドフィル
ム層のカール量を小さくすることができるとともに、微
細加工に適したものとすることができ、かつ電解銅箔を
用いるためにコストの低減化等を図ることができる。
レキシブル銅張積層板は、ワニス接着面における銅箔の
粗度が小さいために、エツチング後のポリイミドフィル
ム層のカール量を小さくすることができるとともに、微
細加工に適したものとすることができ、かつ電解銅箔を
用いるためにコストの低減化等を図ることができる。
第1図は本発明に係わる2層タイプのフレキシブル銅張
積層板を示す要部拡大断面図、第2図は従来の2層タイ
プのフレキシブル銅張積層板を示す要部拡大断面図であ
る。 1・・・低粗度電解銅箔 2・・・ポリイミドフィルム層
積層板を示す要部拡大断面図、第2図は従来の2層タイ
プのフレキシブル銅張積層板を示す要部拡大断面図であ
る。 1・・・低粗度電解銅箔 2・・・ポリイミドフィルム層
Claims (1)
- 1.ポリアミド酸ワニスを銅箔上に直接塗布しイミド化
させる2層タイプのフレキシブル銅張積層板において、 上記銅箔におけるワニス塗布面の平均粗度が0.3〜0
.8μmの低粗度電解銅箔であることを特徴とするフレ
キシブル銅張積層板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16724289A JPH0330938A (ja) | 1989-06-28 | 1989-06-28 | フレキシブル銅張積層板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16724289A JPH0330938A (ja) | 1989-06-28 | 1989-06-28 | フレキシブル銅張積層板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0330938A true JPH0330938A (ja) | 1991-02-08 |
Family
ID=15846097
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16724289A Pending JPH0330938A (ja) | 1989-06-28 | 1989-06-28 | フレキシブル銅張積層板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0330938A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4771552B2 (ja) * | 2005-10-05 | 2011-09-14 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 2層フレキシブル基板 |
-
1989
- 1989-06-28 JP JP16724289A patent/JPH0330938A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4771552B2 (ja) * | 2005-10-05 | 2011-09-14 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 2層フレキシブル基板 |
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