JPH03292388A - 光学活性1―メチルペンチル基を有する液晶化合物 - Google Patents

光学活性1―メチルペンチル基を有する液晶化合物

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JPH03292388A
JPH03292388A JP9405390A JP9405390A JPH03292388A JP H03292388 A JPH03292388 A JP H03292388A JP 9405390 A JP9405390 A JP 9405390A JP 9405390 A JP9405390 A JP 9405390A JP H03292388 A JPH03292388 A JP H03292388A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は反強誘電相を有する新規な液晶化合物に関する
ものである。
〔従来の技術〕
液晶表示素子は、低電圧作動性、低消費電力性、薄型表
示が可能である事等により、現在までに、各種の小型表
示素子に利用されてきた。
しかし、昨今の情報、OA関連機器分野、あるいは、テ
レビ分野への液晶表示素子の応用、用途拡大に伴って、
これまでのCRT表示素子を上回る、表示容量、表示品
質を持つ高性能大型液晶表示素子の要求が、急速に高ま
ってきた。
しかしながら、現在のネマチック液晶を使用する限りに
おいては、液晶テレビ用に採用されているアクティブマ
トリックス駆動液晶表示素子でも、製造プロセスの複雑
さと歩留りの低さにより、その大型化、低コスト化は容
易ではない。又、単純マ) IJフックス動のSTN型
液晶表示素子にしても、大容量駆動は必ずしも容易では
なく、応答時間にも限界がある。従って、現状において
は、ネマチック液晶表示素子は、上記の高性能大型液晶
表示素子への要求を満足するものとはいい難いのが実状
である。
〔発明が解決しようとする問題点〕
このような状況のなかで、高速液晶表示素子として注目
されているのが、強誘電性液晶化合物を用いた液晶表示
素子である。クラークとラガバールにより発表された表
面安定化型強誘電性液晶(SSFLC)素子は、その従
来にない速い応答速度と広い視野角を有する事が注目さ
れ、そのスイッチング特性に関しては詳細に検討されて
おり、種々の物性定数を最適化するため多くの強誘電性
液晶化合物が製造されている。
これとは別に、5SFLCと異なるスイッチング機構の
素子の開発も同時に進められている。
反強誘電相を有する液晶化合物(以下、反強誘電性液晶
化合物と呼ぶ)の三安定状態間のスイッチングも、これ
らの新しいスイッチング機構の1つである。
反強誘電性液晶素子(反強誘電性液晶化合物を用いた素
子)の光学応答履歴を測定した場合の、印加電圧と透過
光量の関係を第1図に示す。
この光学応答履歴には、3つの安定な状態が存在するこ
とが示されているが、 D −C−EとI−H−Jの領
域は、それぞれカイラルスメクチックC相の2つのユニ
ホーム状態(UR%UL)に相当し、G−A−Hの領域
は、Chandani  ラによって報告された第三状
態(Japanese Jour −nal of A
pplied Physics 、VOI 、27.T
)T)、L729゜1988)に相当する。
ここで透過光量の変化を第1図によって説明すると、例
えば、正の電圧を徐々に印加していった場合、透過光量
はA −B −C−Dと変化する。透過光量は、0(V
)からVl  (V)までは殆ど変化しないため、反強
誘電性液晶素子は印加電圧に対して、明確なしきい値を
有するということができる。次にこの状態から、電圧を
徐々に下げていった場合、透過光はD −E −F−A
と変化する。この場合も電圧V2(V)  までは、透
過光は殆ど変化せず、電圧に対して明確なしきい値を有
するということができる。更に、電圧を上げる過程での
しきい値v1α)と電圧を下げる過程でのしきい値■2
α)とが異なることより、反強誘電性液晶素子にはメモ
リー性があることがわかる。同様に負の電圧を印加した
場合でも、負の電圧を徐々に増加させていくと、透過光
量はA −G −H−I と変化し、次にその状態から
負の電圧を徐々に減少させていくと、I −J−に−A
と変化する。この過程でも、それぞれ明確なしきい値v
3、V4(V)が存在しメモリー性があることがわかる
以上のように、反強誘電性液晶化合物を用いた素子の特
徴としては、三安定状態間のスイッチングを行うこと、
明確なしきい値特性を有すること、良好なメモリー性を
有すること等があげられる。又、もう一つの大きな特徴
として層構造が電界により容易にスイッチングすること
があげられる。このことにより欠陥の極めて少ない液晶
表示素子の製作が可能となる。
反強誘電相の特徴や主な性質に関しては、前記報文の他
に、Japanese Journal of App
 −1ied  Physics 、Vol 、28.
pp 、L1261.1989 。
及びJapanese J ournal  of  
Appl ied Physi Cs 。
vOl、28.pp、L1265,1989ニ記載サレ
テイル。
反強誘電性液晶化合物としては、4−(1−メチルへブ
チロキシカルボニル)フェニル−4′−〇−オクチロキ
シビフェニルー4−カルボキンレートが知られているが
、その構造式及び相転移温度は以下の通りである。
H3 ここで、SA%So*、SoA*、S1A*はそれぞれ
スメクチックA相、カイラルスメクチックC相、反強誘
電性カイラルスメクチックC相、反強誘電性カイラルス
メクチックI相を表す。反強誘電性液晶化合物としては
、特開平1−213390、特開平1−316339、
特開平1−316367、特開平1−316372、特
開平2−28128、及びLi quid Cryst
al s 。
Vol 、6.pp、167.1989  に記載のも
のが知られているが、反強誘電性液晶化合物に関する研
究は始まったばかりで、現在までに知られている反強誘
電性液晶化合物の数は少ない。
本発明の目的は、この反強誘電相を有する新規な液晶化
合物を提供する点にある。液晶化合物が反強誘電相を存
するか否かは、液晶化合物の構造に大きく依存する。特
開平1−316372に開示されている化合物を例にと
ると、化合物(A)は強誘電相(80本)、および反強
誘電相(Sc式本)を有するが、化合物(B)は強誘電
相のみを有している。このように例えコア構造が同一で
あっても、アルキル鎖部や光学活性部のわずかな炭素数
の違いにより、液晶化合物が反強誘電相を有するか否か
が異なってくる。
また、化合物(A)および(B)いずれも強誘電相(S
c)を有することより、反強誘電相の出現が強誘電相(
S♂)の出現以上に大きく液晶化合物の構造に依存して
いることが理解できる。
化合物−A 化合物−B 以上述べたことより明らかなように、液晶化合物が反強
誘電相を有するか否かを、化学構造から類推することは
現状では不可能である。個々の液晶化合物の物性の測定
から、初めて反強誘電相を有するか否かが明らかとなる
本発明の目的は、この反強誘電相を有する新規な液晶化
合物を提供する点にあり本発明の反強誘電性液晶化合物
はその特徴である三安定状態間のスイッチング、明確な
しきい優待性、良好なメモリー性を利用した液晶表示素
子に使用することができる。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、一般式 で表される、光学活性1−メチルペンチル基を含む、反
強誘電相を有する液晶化合物である。
ここで、mか6以下、あるいは15以上の物質は、反強
誘電相を有さない。本発明の目的化合物の製造法の1例
を示すと次の通りである。
〔発明の効果〕
本発明は、反強誘電相を有する、新規な液晶化合物を提
供することができるものである。そして、本発明により
提供された新規な液晶化合物は、その特徴である三安定
状態間のスイッチング、明確なしきい優待性、良好なメ
モリー性を利用した液晶表示素子に用いることができる
〔実施例〕
次に実施例及び比較例を掲げて本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はもちろんこれに限定されるものでは
ない。
反応終了後、濃塩酸を加えて酸性としてから、溶媒を5
0〇−留去して室温まで冷却し、白色固体を得た。これ
を充分水洗してから、クロロホルムより再結晶し、目的
物を白色結晶として12.59得た。
2)4−アセトキシ−1−(1−メチルベンチロキシカ
ルボニル)ベンゼン+21の製造実施例 1 1)  4− (4’−n−ヘプチロキシ)ビフェニル
カルボン酸(1)の製造 4−(4’−ハイドロキシ)ビフェニルカルボン酸 1
0.5g、n−ヘプチルブロマイド 13.0&、水酸
化カリウム 6.45gを、エタノール 1500gs
t、水20〇−の混合液に加え、還流下で10時間反応
させた。更に水500−を加え、3時間攪拌した。
4−アセトキシ安息香酸 6.29を塩化チオニル 1
5一番こ加え、還流下で10時間反応させた。次に、過
剰の塩化チオニルを留去してから、ピリジン 15−、
トルエン90−を加えて、そこへ光学活性S−T+)−
2−へキサノール 2.09を滴下した。滴下後4時間
加熱還流してから放冷し、クロロホルム 500−で希
釈して、有機層を希塩酸、IN炭酸ナトリウム水溶液、
水の順で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。更に、
溶媒を留去して粗製の目的物 2.2gを得た。
3)  4−ハイドロキシ−1−(1−メチルベンチロ
キシカルボニル)ベンゼン+31の製造上記化合物(2
)の粗製物 2.0gを、エタノール 50−に溶解さ
せて、ベンジルアミン 4.!9を滴下した。更に室温
下で4時間攪拌したのち、クロロホルム 500−で希
釈して、希塩酸、水の順で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒を留去してから、シリカゲルクロマトグ
ラフィーで単離精製し、目的物 1.69を得た。
4)4−(1−メチルベンチロキシカルボニルフェニル
)−4’−n−へブチロキシビフェニル−4−カルボキ
シレート(4)の製造H3 上記化合物+111.2.9に、塩化チオニル10/を
加え、10時間加熱還流した。過剰の塩化チオニルを留
去した後、ピリジン 10−、トルエン 60@lを加
えてから、上記化合物+310.59のトルエン溶液 
20−を滴下し、室温で10時間反応させた。反応終了
後、クロロホルム 500−で希釈し、希塩酸、IN炭
酸ナトリウム水溶液、水の順で洗浄して、有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥した。次に、溶媒を留去してから、
シリカゲルクロマトグラフィーで単離した。ついでエタ
ノールより再結晶して、目的物 0.82を得た。目的
物の赤外線吸収スペクトル(KBr  )を、第5図に
示す。相の同定は、テクスチャー観察、及びDSC(示
差走査熱量計)により行った。
本発明の化合物の相系列は、次の通りであった。
90℃ 5)反強誘電相の同定は次の方法によって行った。
ラビング処理したポリイミド薄膜を有する、ITOlを
極付の液晶セル(セル厚3m)に、上記化合物(4)を
等吉相の状態で充填した。このセルを、毎分 1.0℃
で徐冷して、S人相で液晶を配向させた。これに、±4
0V、0゜2H2の三角波電圧を印加して、その光学応
答を、フォトマルチプライヤ−を接続した偏光顕微値で
観察したところ、108℃から90℃の温度領域で、反
強誘電相に特をなダブルヒステリシスの応答履歴が認め
られた。92℃での光学応答履歴を第2図に示す。
実施例 2 1)  4− (4’−n−オクチロキシ)ビフェニル
カルボン酸(5)の製造 C、H170℃胚ン00H(51 n−ヘプチルブロマイド 13.09を、n−オクチル
ブロマイド 14.09に代えた以外は、実施例1の1
)と全く同様の方法で、目的物(5)を12.5ソ得た
2)4−(1−メチルペンチロキシカルボニル7 ! 
二h ) −4’  −n−オクチロキシビフェニル−
4−カルボキシレート(6)の製造H3 実施例1に於ける化合物(11の1.2gを、上記化合
物(5)の1.3gに代える以外は、実施例1の4)と
全(同様の方法で、目的物(6)1.1g、を得7:”
、、  目的物の赤外線吸収スペクトル(KBr)を第
6図に示す。相の同定は、テクスチャー観察、及びDS
Cにより行った。
本発明の化合物の相系列は、次の通りであ3)実施例1
の5)と全く同様の方法で化合物(6)の反強誘電相の
同定を行ったところ、126℃から55℃の温度領域で
、反強誘電相に特有なダブルヒステリシスの応答履歴が
認められた。90℃での光学応答履歴を第3図に示す。
実施例 3 1)4−(4’−n−ドデヵノキシ)ビフェニルカルボ
ン酸(7)の製造 Hs 実施例1に於ける化合物(1)の1.29を、上記化合
物(7)の1.3gに代える以外は、実施例1の4)と
全く同様の方法で、目的物(8)069gを得た。目的
物の赤外線吸収スペクトル(KBr)を第7図に示す。
相の同定は、テクスチャー観察、及びDSCにより行っ
た。
本発明の化合物の相系列は、次の通りであった。
n−ヘプチルブロマイド 13.09を、n−ドデシル
ブロマイド 18.1g1(代えた以外は、実施例1の
1)と全く同様の方法で1.目的物(7)を9.2g得
た。
2)4−(1−メチルベンチロキシカルボニル7エ=ル
) −4’  −n−ドデカンキシビフェニル−4−カ
ルボキシレート+81の製造55℃ 3)実施例1の5)と全(同様の方法で化合物(8)の
反強誘電相の同定を行ったところ、115℃から55℃
の温度領域で、反強誘電相に特有なダブルヒステリシス
の応答履歴が認められた。90℃での光学応答履歴を第
4図に示す。
実施例 4 1)4−(4’−n−テトラゾカッキシ)とフェニルカ
ルボン酸(9)の製造 0.9gを得た。目的物の赤外線吸収スペクトル(KB
r)を第8図に示す。相の同定は、テクスチャー観察、
及びDSCにより行った。
本発明の化合物の相系列は、次の通りであった。
n−ヘプチルブロマイド 13.09を、n−テトラデ
カニルブロマイド 2o、Hに代えた以外は、実施例1
の1)と全く同様の方法で、目的物+9118.5pを
得た。
2)4−(1−メチルベンチロキシカルボニルフェニル
) −4’ −n−テトラゾカッキシビフェニル−4−
カルボキシレート(10)の製造 H3 実施例1に於ける化合物(1)の1.2gを、上記化合
物(9)の1.39に代える以外は、実施例1の4)と
全く同様の方法で、目的物(1o)本化合物の反強誘電
相は、過冷却状態にあるため非常に不安定であり、光学
応答は観察できなかった。しかし、消光位が層法線方向
にあること、及びしきい値が存在することより、反強誘
電相が存在することは明らかである。
比較例 1 1)  4−(4’−n−へキシロキシ)ビフェニルカ
ルボン酸(11)の製造 n−へプチルブCI?イド 13.0.!ilを、n−
ヘキシルブロマイド 12.1i’に代えた以外は、実
施例1の1)と全く同様の方法で、目的物(11)  
 8.29を得た。
2)4−(1−メチルベンチロキシカルボニルフェニル
)−4’−n−へキシロキシビフェニル−4−カルボキ
シレート(12)の製造H3 実施例1に於ける化合物(1)の1.2gを、上記化合
物(11)の1.19に代える以外は、実施例1の4)
と全(同様の方法で、目的物(12)  0.89を得
た。
本化合物の相系列は、次の通りであり、反強誘電相は存
在しなかった。
104℃   165℃ 結晶□sAぐ一一−−等方相 90℃ 比較例 2 1)  4− (4’−n−ヘキサデカノキシ)とフェ
ニルカルボン酸(13)の製造 n−ヘプチルブロマイド 13.0.9を、fi−ヘキ
サデキシルブロマイ)’  22.1.9に代えた以外
は、実施例1の1)と全く同様の方法で、目的物(13
)   16.17を得た。
2)4−(1−メチルベンチロキシカルボニルフェニル
)−4’−n−ヘキサデカンキシビフェニル−4−カル
ボキシレート(14)の製造 実施例1に於ける化合物(1)の1.2gを、上記化合
物(13)の1.4Flに代える以外は、実施例1の4
)と全く同様の方法で、目的物(14)   1.09
を得た。
本化合物の相系列は、次の通りであり、反強誘電相は存
在しなかった。
【図面の簡単な説明】
第1図は、−船釣な反強誘電相における光学応答履歴を
示す図である。第2図、第3図、及び第4図は、それぞ
れ本発明の液晶化合物(4)、(6)、及び(8)の光
学応答履歴を示す図である。 第5図、第6図、第7図、及び第8図は、それぞれ本発
明の液晶化合物(4)、(6)、(8)、及び(10)
の赤外線吸収スペクトル(KBr)を示す図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 光学活性基として1−メチルペンチル基を有し、一
    般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される、反強誘電相を有する液晶化合物。 2 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ に於て、mが7〜14である請求項1記載の、反強誘電
    相を有する液晶化合物。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5716545A (en) * 1995-12-28 1998-02-10 Nippon Soken, Inc. Antiferroelectric liquid crystal composition
US5968413A (en) * 1997-01-27 1999-10-19 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Anti-ferroelectric liquid crystal compounds
US6002042A (en) * 1997-01-14 1999-12-14 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Liquid crystal compound
US6129859A (en) * 1996-07-25 2000-10-10 Nippon Soken, Inc. Antiferroelectric liquid crystal composition

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