JPH03290237A

JPH03290237A - 透明導電性積層体

Info

Publication number: JPH03290237A
Application number: JP2092256A
Authority: JP
Inventors: Hitoshi Mikoshiba; 均御子柴; Kazuhito Morisada; 森貞　和仁; Kenji Nakatani; 健二中谷; Masao Suzuki; 鈴木　将夫
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1990-04-09
Filing date: 1990-04-09
Publication date: 1991-12-19
Anticipated expiration: 2011-09-18
Also published as: JP2535641B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、透明導電性積層体に関し、特にエレクトロル
ミネッセンスデイスプレー用途に適した透明導電性積層
体に関する。

〔従来の技術〕

透明な有機高分子成形物表面に、金属酸化物の薄膜から
なる透明導電層を形成して、透明性があり、かつ導電性
のある積層体としたものが種々の分野で利用されている
。かかる利用分野のなかで、エレクトロルミネッセンス
デイスプレー（ＥＬＤ）のアルミニウム電極に対向する
透明電極としての利用が試みられているが、Ｅ　Ｌ　Ｄ
を高温高湿の条件で連続点灯させると、透明導電層が劣
化することによりＥＬＤの輝度が急激に低下することが
あった。

透明導電層の劣化を防止する手段として、透明導電層上
に厚さ２０〜２００人のパラジウム膜を形成する方法が
提案されている（特開昭６２１８２５４号公報参照）。

しかしこの方法では、透明導電性積層体の透明性が低下
する問題がある。

また、透明導電層上に、ルテニウム、ロジウム、パラジ
ウムおよびこれらの酸化物の不連続層（平均膜厚１〜３
０人）を形成する方法が提案されているが（特開平１−
１９４２０７号公報参照）、透明導電層と発光層である
シアノエチルレジン層との密着性は不充分である。

〔発明が解決しようとする課題］本発明は、ＥＬＤの透明電極として用いたときに透明導
電層の劣化がなく、また発光層との密着性に優れ、かつ
透明性のよい透明導電性積層体を提供することを目的と
する。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、有機高分子成形物（Ａ）上に、金属酸化物よ
りなる透明導電層（Ｂ）、引き続いてパラジウム、白金
、ルテニウム、オスミウム、イリジウム、ロジウム、金
、コバルト、銀、ニッケル、タングステン、鉄および錫
からなる群から選ばれた少な（とも１種の金属の薄膜層
（Ｃ）、さらに下記一般式（１）％式％（１）〔式中、Ｒ１は水素原子、フェニル基、炭素原子数１〜
４のアルキル基またはＲ６（ＣＨｚ）Ｘ−吉−Ｒ６で表される基を、Ｒ２は水素原
子または炭素原子数１〜４のアルキル基を、Ｒ３および
Ｒ４はそれぞれ独立に炭素原子数１〜４のアルキル基を
、ｙは１〜１２の整数を、ＷはＯまたは１の整数を、Ｚ
は２または３の整数をそれぞれ表し、ｗ＋ｚ＝３であり
、ここでＸは１〜１２の整数を、Ｒｓ、Ｒｂはそれぞれ
独立に水素原子、または炭素原子数１〜４のアルキル基
からなる群から選ばれる基を示す〕で表される有機ケイ素化合物の加水分解により生成され
た重合体層（Ｄ）が順次形成され、かつ該重合体層（Ｄ
）に金属または金属化合物の微粒子が含まれていること
を特徴とする透明導電性積層体である。

以下、本発明の詳細な説明に到った経過とともに説明す
る。

本発明者らは、劣化したＩＴＯ（Ｉｎｄ　ｉｕｍＴｉｎ
　　０ｘｉｄｅ）膜よりなる透明導電層の分析を行い、
ＩＴＯ膜が還元されることにより黒色化していることを
突き止めた。高温高湿下のＥＬＤの連続点灯時には、通
常、ＩＴＯ膜とアルミニウム電極間に１００■、４００
Ｈｚのごとき交流が印加される。ＩＴＯ膜上に水分がな
い時には何ら電極反応は起きないはずであるが、高温高
湿下においては、防湿フィルムを通して水分が浸透する
ためＩＴＯ膜と発光層界面にはわずかな水分が存在する
。そこで、ＩＴＯ膜上では交流電圧の印加により、陽極
反応と陰極反応が交互に起こることになるが、陰極反応
では、酸化インジウムの還元反応が水素イオンの還元反
応よりも起こりやすく、また陽極反応では水酸イオンの
酸化反応の方が酸化インジウムの酸化反応よりも起こり
やすいため、酸化インジウムは次第に還元されて黒色化
していくものと推定される。

本発明者らは、鋭意研究した結果、金属酸化物よりなる
透明導電層（Ｂ）上に、金属薄膜層（Ｃ）、さらに重合
体層（Ｄ）を形成することにより透明導電層（Ｂ）の劣
化が防止できることを見出し、本発明に到達した。

透明導電層（Ｂ）上に、金属の薄膜層（Ｃ）または重合
体層（Ｄ）のどちらか一方を形成したのみでは、透明導
電層（Ｂ）の劣化防止効果は不充分である。本発明の透
明導電層（Ｂ）の劣化防止効果は、金属の薄膜層（Ｃ）
と重合体層（Ｄ）の相乗効果によるものである。すなわ
ち、重合体層（Ｄ）により透明導電層（Ｂ）上への水分
の拡散が抑制され、また透明導電層ＣＢ）上に形成され
た金属の薄膜層（Ｃ）上では水素イオンの還元反応が起
こるため、透明導電層ＣＢ）自身の還元反応が抑制され
るものと考えられる。

本発明者らは、水素イオンの還元反応が起こりやすい（
水素過電圧が小さい）金属、例えば白金、パラジウム、
ロジウムなどで透明導電層（Ｂ）の劣化防止効果が大き
く、一方水素イオンの還元反応が起きにくい（水素過電
圧が大きい）金属、例えば亜鉛、銅、アルミニウム、イ
ンジウムなどでは透明導電層（Ｂ）の劣化防止効果がな
いことを確認した。また、金属の薄膜層（Ｃ）は、透明
導電層（Ｂ）上に島状に存在していても透明導電層（Ｂ
）の劣化防止効果が現れることも確認した。

金属の薄膜層（Ｃ）の方が金属酸化物よりなる透明導電
層（Ｂ）よりも導電性が高く、金属の薄膜層（Ｃ）上の
方が透明導電層（Ｂ）上よりも電極反応が起きやすいた
めと考えられる。

本発明における有機高分子成形物（Ａ）を構成する有機
高分子化合物としては、耐熱性を有する透明な有機高分
子化合物であれば特に限定されない。

通常、耐熱性としては、１００°Ｃ以上が好ましい。耐
熱性が１００°Ｃ未満では、発光層や捕水フィルムと貼
り合わせる際に変形が著しくなり、透明導電層の抵抗値
が増大したり外観不良となるため好ましくない。

これらの有機高分子化合物としては、例えばポリイミド
；ポリエーテルスルホン；ポリスルホン；ポリパラバン
酸；ポリヒダントイン；ボリアリレートをはじめとして
、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２６−
ナフタレンジカルボキシレート、ポリジアリルフタレー
ト、ポリカーボネートなどのポリエステル系樹脂；芳香
族ポリアミドおよびセルローストリアセテートなどが挙
げられる。もちろん、これらはホモポリマー、コポリマ
ーとして、また単独またはブレンドとしても使用しうる
。

かかる有機高分子化合物の成形物の形状は特に限定され
るものではないが、通常、シート状、フィルム状のもの
が好ましく、なかでもフィルム状のものは巻取り可能で
あり、また連続生産が可能であるため、特に好ましい。

さらに、フィルム状のものが使用される場合においては
、フィルムの厚さは、６〜５００μｍが好ましく、１２
〜２００μｍが特に好ましい。

これらのフィルムまたはシートは、透明性を損なわない
程度において顔料を添加したり、また表面加工、例えば
サンドマット加工などを施してもよい。

また、これらのフィルムまたはシートは、単独でもラミ
ネートして用いてもよい。

本発明の透明導電層（Ｂ）は、金属酸化物より構成され
る。例えば、錫および／またはフッ素含有インジウム、
ＣＴＯ（Ｃａｄｍｉｕｍ　　Ｔｉｎ０ｘｉｄｅ）、アン
チモン含有酸化錫、酸化チタンなどを挙げることができ
る。なかでもＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　　Ｔｉｎ　　０ｘ
ｉｄｅ）膜は、透明性、導電性が特に優れており、さら
に電極のパターン化が容易（エツチング特性が優れてい
る）などの特徴を有し特に好ましい。

透明導電層（Ｂ）の膜厚は、充分な導電性を得るために
は、５０Å以上であることが好ましい。

また、充分に透明度の高い被膜を得るためには、０透明導電層（Ｂ）の膜厚は５００Å以下であることが好
ましく、４００Å以下がより好ましい。

透明導電層（Ｂ）を形成する方法としては、真空蒸着法
、スパッタリング法、イオンブレーティング法などの物
理的製膜法；導電性微粒子を含有する被覆液を用いる被
覆法；化学メツキ法などがあるが、透明導電層の均一性
、透明性の点で物理的製膜法が好ましい。

さらに、透明導電層（Ｂ）と有機高分子成形物（Ａ）と
の密着性を向上させるため、透明導電層形成前に有機高
分子成形物上に中間層を形成してもよい。

中間層としては、例えば有機ケイ素化合物、チタンアル
キルエステル、ジルコニウムアルキルエステルなどの有
機金属化合物の加水分解により生成された層が好ましく
用いられる。この中間層は、多層構成としてもよい。

中間層は、有機高分子成形物表面に有機金属化合物を含
む被覆液を被覆後、被覆液中および／または処理雰囲気
中の微量の水分の存在下に、加熱；イオンボンバードあ
るいは紫外線；β線、γ線などの放射線の作用により有
機化合物を加水分解し硬化させることにより得られる。

また、中間層の被覆には、透明有機高分子成形物や被覆
液の形状、性質に応じてドクターナイフ、バーコーター
、グラビアロールコータ−、カーテンコーター、ナイフ
コーターなどの公知の塗工機械を用いる塗工法、スプレ
ー法、浸漬法などを用いることができる。

中間層の厚さとしては、１００〜１０００人が好ましく
、特に２００〜９００人が好ましい。

中間層の厚さが１００人未満の場合には、連続層を形成
しないため密着性などの向上効果がなく、一方１，００
０人を超えると、クラックや剥離を生じたりして好まし
くない。

本発明における透明導電性積層体は、有機高分子成形物
の両面に必要に応じて中間層を介して透明導電層を積層
した構成にしてもよく、かかる場合には、透明導電層（
Ｂ）の少なくとも一面に本発明の金属の薄膜層（Ｃ）、
さらに重合体Ｊｉ　（Ｄ）１２が形成される。

本発明に用いられる金属の薄膜層（ｃ）は、白金、パラ
ジウム、ルテニウム、オスミウム、イリジウム、ロジウ
ム、金、コバルト、≦艮、ニッケル、タングステン、鉄
および錫からなる群がら選ばれた少なくとも１種の金属
の薄膜層である。

特に好ましくは、白金、パラジウム、ルテニウム、オス
ミウム、イリジウム、ロジウムからなる群から選ばれた
少なくとも１種の金属の薄膜である。

これらの金属は、単独で用いても混合物として用いても
、２種以上の金属の合金、例えば白金・ロジウム合金、
白金・パラジウム合金として用いてもよい。また、これ
らの金属または合金の薄膜層が積層された構成であって
もよい。

金属の薄膜層（Ｃ）の膜厚は、０．５Å以上２０人未満
が好ましい。０．５人未満では、透明導電層の劣化防止
効果がない。一方、２０Å以上では透明性が低下して好
ましくない。

金属の薄膜の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンブレーティング法などの物理的製膜法
が好ましく用いられる。

本発明の重合体層（Ｄ）に用いられる有機ケイ素化合物
は、前記一般式（Ｉ）で表される化合物である。

一般式（１）中、Ｒ１は水素原子、フェニル基、炭素数
原子１〜４のアルキル基、または８この炭素原子数１〜４のアルキル基としては、例えばメ
チル基、エチル基が挙げられる。

また、式中、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に水素原
子、またはメチル基、エチル基などの炭素原子数１〜４
のアルキル基を示す。

さらに、式中、Ｒ２は水素原子、または炭素原子数１〜
４のアルキル基を示す。この炭素原子１〜４のアルキル
基としては、例えばメチル基、エチル基が挙げられる。

さらに、式中、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に炭素
原子数１〜４のアルキル基を示す。

３４この炭素原子数１〜４のアルキル基としては、例えばメ
チル基、エチル基が挙げられる。

ここでＸは１〜１２の整数を、ｙは１〜１２の整数を、
ＷはＯまたは１の整数を、２は２または３の整数をそれ
ぞれ表し、ｗ＋ｚ＝３である。

前記一般式で表される有機ケイ素化合物は、加水分解に
よりＳｔと０の結合を網状に形成し、−３ｔ−０−の繰
り返し単位を主鎖として有する重合体となる。

すなわち、下記構造の繰り返し単位を有するものが推定
される。

占３などである。ここで、Ｓｉの一部は０を介して、透明導
電層である金属酸化物表面および／または重合体層中に
含まれる金属または金属化合物の微粒子表面と化学的に
結合しうる。

これらの化合物中、本発明の透明導電性積層体として優
れた密着性を示すものとしては、前記−般式（Ｉ）中、
Ｒ１およびＲ２またはＲｚ、ＲｓおよびＲ６が水素原子
である化合物、すなわち官能基としてアミノ基（−ＮＨ
２）を含むものが好ましく、例えばＮＨ２（ＣＨ２）３　　Ｓ　ｉ　　（ＯＣＨ３）３、Ｎ
Ｈ２（ＣＨ２）ｚ　　Ｓ　ｉ　　（ＯＣＺ　Ｒ５）３、
ＮＨｚ　　　（ＣＨ２）２　　ＮＨ’（ＣＨ２）３Ｓ　
ｉ　　（ＯＣＨ３）３　、ＮＨ２（ＣＨ２）ｚＮＨ（Ｃ
Ｈ２）３　　Ｓｔ　　（ＯＣＺ　Ｒ５）！、ＮＨｚ　　
　（ＣＨｚ　）ｚ　　ＮＨ（ＣＨｚ　）３−３ｉ　（Ｃ
Ｈ３）　　　（ＯＣＨ３）２、ＮＨ２（ＣＨ２）２　　
ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓ　ｉ　　（ＣＨ３）　　　（ＯＣＺ
　Ｒ５）ｚで表される化合物を挙げることができる。

本発明の有機ケイ素化合物としては、前記一般式（１）
で表される化合物のほか、これらの化合物の加水分解に
より生成したオリゴマー（例えば会合度１０以下のオリ
ゴマー）も使用でき、またこれらの２種以上を使用する
こともできる。

５６また、本発明の効果を妨げない範囲で、一般式（１）で
表される有機ケイ素化合物に、他の有機ケイ素化合物、
アルキルチタネートおよび／またはアルキルジルコネー
トを添加して使用してもよい。

本発明の有機ケイ素化合物は、必要に応じて硬化触媒、
接着促進剤、ぬれ性改良剤、可塑剤、各種安定剤、難燃
剤、酸化防止剤などの各種添加剤と混合して用いること
もできる。

次に、本発明の重合体１ｉ　（Ｄ）に含有される金属粒
子または金属化合物微粒子は、−次粒子径が数十〜数百
人であることが好ましい。

本発明で用いられる金属微粒子としては、ルテニウム、
ロジウム、パラジウムなどの微粒子が挙げられ、金属化
合物微粒子としては、アンチモン含有酸化スズ、酸化ス
ズ、スズ含有酸化インジウム、酸化インジウム、酸化ケ
イ素、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、イツトリウム含有
酸化ジルコニウム、酸化ジルコニウム、酸化セリうム、
酸化チタンなどの金属酸化物、フッ化マグネシウムなど
の金属フッ化物、チタン酸バリウム、チタン酸鉛、チタ
ン酸ジルコン酸鉛、チタン酸ジルコン酸ランタン鉛、チ
タン酸アルミニウムなどが挙げられる。

これらのうち、特に酸化ケイ素微粒子の各粒子の表面が
疎水化あるいは改質されており、トルエンのような疎水
性溶剤にも一次粒子のままコロイド次元で透明に分散で
きるものが好ましい。

金属または金属化合物の微粒子を含んだ有機ケイ素化合
物の加水分解により生成された重合体層（Ｄ）は、有機
ケイ素化合物の有する官能基による化学的親和性の向上
効果と、金属または金属化合物の微粒子を含むことによ
る重合体層表面の凹凸の形成に伴うアンカー効果の増大
との相乗効果により発光層との密着性を著しく向上させ
ることができる。

特に、酸化ケイ素微粒子は、有機ケイ素化合物との相性
がよいので重合体層中に均一に分散され、前記アンカー
効果が最大限に発揮されるため特に密着性向上効果に優
れる。

本発明の重合体層（Ｄ）は、前記一般式（１）で表され
る有機ケイ素化合物および／またはこれらの化合物の加
水分解により生成したオリゴマーを含む溶液と、前記金
属または金属化合物の微粒子をコロイド状に分散させた
溶液とから、有機ケイ素化合物と金属または金属化合物
の微粒子を含む被覆液を得る。

前記重合体層（Ｄ）は、有機高分子成形物（Ａ−）上に
、金属酸化物よりなる透明導電層（Ｂ）、引き続いて金
属の薄膜（Ｃ）を形成し、さらに前記被覆液で被覆する
ことにより形成される。

本発明に用いられる被覆液は、酸化ケイ素微粒子と一般
式（１）で表される有機ケイ素化合物の固形分重量比が
０．５／１〜２／１の範囲に調整されていることが好ま
しい。前記固形分重量比が０．５／１未満でも、２／１
を超えても発光層との密着性が低下して好ましくない。

他の金属または金属化合物の場合は、０．０５／１〜２
／１の範囲に調整されていることが好ましい。

なお、被覆液の被覆には、有機高分子成形物や被覆液の
形状、性質に応じてドクターナイフ、バーコーター、グ
ラビアコーター、カーテンコータ、ナイフコーターなど
の公知の塗工機械を用いる塗工法、スプレー法、浸漬法
などを用いることができる。

前記被覆液を被覆後、被覆液中および／または処理雰囲
気中の微量の水分の存在下に、加熱、イオンボンバード
、紫外線またはβ線もしくはγ線などの放射線の作用に
より有機ケイ素化合物を加水分解して硬化させ、本発明
の重合体層（Ｄ）を得ることができる。

前記重合体層（Ｄ）の面内の平均膜厚は、１００〜１，
０００人が好ましく、特に１００〜５００人が好ましい
。重合体層（Ｄ）の膜厚が１００人未満の場合には、連
続層を形成しないため密着性の向上効果がなく、一方１
，０００人を超えるとクラックや剥離を生じたりして好
ましくない。

なお、重合体層（Ｄ）と同様な重合体層を有機高分子成
形物の透明導電層を形成しない面に形成することもでき
る。

９０有機高分子成形物の透明導電層を形成しない面に重合体
層（Ｄ）と同様な重合体層を形成する場合、透明導電層
の形成前にあらかじめ該重合体層を形成しておいてもよ
く、透明導電層の形成後に該重合体層を形成してもよい
。

〔実施例〕

以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する
。

実施例１〜１４および比較例１〜５分子弐ＮＨ２（ＣＨ２）ｚ　　ＮＨ（ＣＨ２）３３１　
　　（ＯＣｚ　Ｈ５）　３で表される有機ケイ素化合物
の加水分解により生成した３量体会合物のエタノール、
ブタノール、エチルセロソルブ、トルエン混合溶液（１
）と、表面を疎水化した酸化ケイ素微粒子をトルエン中
にコロイド状に分散させた溶液（２）、およびイソプロ
パツールより、全固形分濃度が０．７重量％でかつ酸化
ケイ素微粒子と有機ケイ素化合物の固形分重量比が１．
３／１．０の被覆液を調製した。

一方、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを直流マグネトロンスパッタ装置内の基板保持台に
固定し、真空度２Ｘ１０−５Ｔｏｒｒまで真空槽を排気
した。

その後、Ａ　ｒ　／　Ｏ□混合ガス（０□−２５％）を
槽内に導入し、真空度を４Ｘ１０−３Ｔｏｒｒに保った
のち、Ｉ　ｎ　／　Ｓ　ｎ合金（Ｓｎ＝５重量％）より
なるターゲットを用いた反応性スパッタリング法により
膜厚が約２５０人のインジウム・スズ酸化物膜よりなる
透明導電層付フィルムを作成した。

透明導電層付フィルムの透過率（５５０ｎｍ）は８３％
、抵抗は２６０Ω／口であった。

次に、槽内にＡｒガスを導入し、真空度を４×１０−’
Ｔｏｒｒに保ったのち各種の金属または合金のターゲッ
トを用いてスパッタリング法により、膜厚が約２人の実
施例または比較例の金属の薄膜層を透明導電層上に形成
した。

しかるのち、透明導電層、引き続いて金属の薄膜層を形
成した面に、前記被覆液をバーコーターで塗布後、１４
０°Ｃで１分間乾燥することにより１２重合体層を形成し、実施例および比較例の透明導電性積
層体を得た。

透明導電性積層体の透過率（５５０ｎｍ）、抵抗ともに
金属の薄膜層および重合体層形成前と変化がなかった。

一方、これとは別に、厚さ２００μｍのアルミニウムシ
ート上にチタン酸バリウム粉末をシアノエチルプルラン
中に分散した塗工液を塗布後乾燥し、厚さ数μｍの絶縁
層を形成した。さらに、その上に硫化亜鉛を主成分とす
る蛍光体粉末をシアノエチルプルラン中に分散させた塗
工液を塗工後乾燥し、厚さ数十μｍの発光層を形成する
ことにより、試験用シートを作成した。

透明導電性積層体の透明導電層を形成した面と試験用シ
ートの発光層とを向かい合わせたのち、ローラ温度１７
０°Ｃ１線圧１５ｋｇ／ｃｍに調整したラミネータによ
り接着して一体化し、劣化試験用サンプルを作成した。

なお、この時透明導電性積層体の透明導電層を形成した
面には、あらかじめ銀ペースト電極が印刷されており、
銀ペースト電極にはさらに外部電力印加用の端子として
厚さ１５μｍのステンレス箔が接続された形で透明導電
性積層体と試験用シート間にはさみこまれている。

つぎに、アルミニウム面にも外部電力印加用の端子を接
続した。両端子間に、１００Ｖ、４００Ｈｚ（７）電力
を印加し、６０°Ｃ１９ｏ％ＲＨの雰囲気中で１５時間
連続点灯させた。しかる後、透明導電層の劣化状態（変
色状態）を調べた。判定結果（三段階評価）を第１表に
示す。

なお、三段階評価は、Ａ：変色なし、Ｂ：わずかに変色
、Ｃ：かなり変色、とした。

（以下余白）３４第１表第１表（続き）本発明の透明導電性積層体は、透明導電層の劣化防止効
果が優れていることが分かる。

実施例１５および比較例６〜８実施例１と同様な方法で、透明導電層付フィルムを作成
した。引き続いて実施例１と同様な方法で透明導電層上
に膜厚が２人のパラジウム薄膜を形成したのち、さらに
実施例１と同様な方法で被覆液で被覆することにより重
合体層を形成し、実施例１５の透明導電性積層体を得た
。

比較例として、透明導電層上にパラジウム薄膜を形成せ
ずに実施例１と同様な方法で被覆液で被覆したもの（比
較例６）、透明導電層上にパラジウム薄膜を形成したの
みで、被覆液で被覆しなか５６ったもの（比較例７）およびパラジウム薄膜の形成も被
覆液の被覆も行わなかったもの（比較例８）を用意した
。

次に、実施例１と同様な方法で実施例１５および比較例
６〜８の透明導電性積層体の透明導電層を形成した面と
試験用シートの発光層とを接着して一体化した。

実施例１と同様に、外部電力印加用端子がはさみこんで
ある。

しかるのち、アルミニウム面にも外部電力印加用端子を
接続した後に前記一体止したサンプルの両面に捕水フィ
ルム［ダイセル■製、ＺＥ−１３５〕を、ローラ温度１
２０°Ｃ１線圧８　ｋｇ　／　ｃｍに調整したラミネー
タにより接着して一体化した。

さらに、捕水フィルムの外側に防湿フィルム〔日東電気
工業■製、４Ｂ２０）を、ローラ温度１２０°Ｃ１線圧
４　ｋｇ　／　ｃｍに調整したラミネータにより接着し
て一体化することによりＥＬＤを作成した。

なお、防湿フィルムは、透明導電製積層体、試験用シー
ト、および捕水フィルムより大きいサイズのものを使用
し、ＥＬＤの周囲は防湿フィルム同士が張り合わされて
おり、透明導電性積層体、試験用シートおよび捕水フィ
ルム全体を包みこんでいる。

かくして作成したＥＬＤの両端子間に１００■、４００
Ｈｚを印加し、６０°Ｃ１９０％ＲＨの雰囲気中で連続
点灯させて輝度が初期値の１／２になるまでの時間（輝
度半減時間）を調べた。測定結末発明の透明導電性積層
体は、透明導電層の変色もほとんど認められず、輝度半
減時間も大幅に伸びることがわかる。

実施例１６および比較例９〜１０７８実施例１と同様な方法で、実施例１５、比較例７および
８の透明導電性積層体の透明導電層を形成した面と、試
験用シートの発光層とを接着して一体化した。

しかるのち、２５ｍｍ幅の測定用サンプルを切り出し、
インストロン万能材料試験機で透明導電層と発光層との
密着強度を測定した。

測定条件は、１８０度剥離、剥離速度３００胴／分とし
た。

測定結果を第３表に示す。

第３表本発明の透明導電性積層体は、透明導電層と発光層との
密着性が優れていることが分かる。

（発明の効果〕本発明により、ＥＬＤの透明電極として用いたとき透明
導電層の劣化がなく、また、発光層との密着性に優れか
つ透明性が良く、ＥＬＤ用に充分利用できる透明導電性
積層体が提供可能となる。

本発明で得られる透明導電性積層体は、ＥＬＤ用として
適しているだけでなく、例えば透明タッチパネル、゛電
子写真、帯電防止材料、面発熱体、固体デイスプレィ、
光メモリ−、光電変換素子、光通信、光情報処理、太陽
エネルギー利用材料などの広い用途に有用である。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）有機高分子成形物（Ａ）上に、金属酸化物よりな
る透明導電層（Ｂ）、引き続いてパラジウム、白金、ル
テニウム、オスミウム、イリジウム、ロジウム、金、コ
バルト、銀、ニッケル、タングステン、鉄および錫から
なる群から選ばれた少なくとも１種の金属の薄膜層（Ｃ
）、さらに下記一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ）〔式中、Ｒ＿１は水素原子、フェニル基、炭素原子数１
〜４のアルキル基または ▲数式、化学式、表等があります▼で表される基を、Ｒ
＿２は水素原子または炭素原子数１〜４のアルキル基を、Ｒ
＿３およびＲ＿４はそれぞれ独立に炭素原子数１〜４の
アルキル基を、ｙは１〜１２の整数を、ｗは０または１
の整数を、ｚは２または３の整数をそれぞれ表し、ｗ＋
ｚ＝３であり、ここでｘは１〜１２の整数を、Ｒ＿５、
Ｒ＿６はそれぞれ独立に水素原子、または炭素原子数１
〜４のアルキル基からなる群から選ばれる基を示す〕で表される有機ケイ素化合物の加水分解により生成され
た重合体層（Ｄ）が順次形成され、かつ該重合体層（Ｄ
）に金属または金属化合物の微粒子が含まれていること
を特徴とする透明導電性積層体。
（２）重合体層（Ｄ）が、一般式（ I ）において、Ｒ
＿１およびＲ＿２、またはＲ＿２、Ｒ＿５およびＲ＿６
が水素原子である有機ケイ素化合物の加水分解により生
成された層である請求項１記載の透明導電性積層体。
（３）金属または金属化合物の微粒子が、酸化ケイ素微
粒子である請求項１記載の透明導電性積層体。
（４）重合体層（Ｄ）が、酸化ケイ素微粒子と一般式（
I ）で表される有機ケイ素化合物の固形分重量比を０
．５／１〜２／１の範囲に調整した被覆液による被覆に
より形成された層である請求項１記載の透明導電性積層
体。