JPH03287777A - 無電解めっき浴 - Google Patents
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Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は磁気ディスク等の磁気記録体に用いられる磁気
記録媒体(I性膜)を作製するための無電解めっき浴に
関するものである。
記録媒体(I性膜)を作製するための無電解めっき浴に
関するものである。
[従来の技術]
近年、高密度磁気記録体として磁性膜がめつき法により
製作されためつき磁気ディスクが用いられ始めている。
製作されためつき磁気ディスクが用いられ始めている。
磁気記録体の磁性膜に要求される基本的特性は、保磁力
(HC)、残留磁束密度(Br)、角形性(S )等
の磁気特性、および膜厚(1)である。
(HC)、残留磁束密度(Br)、角形性(S )等
の磁気特性、および膜厚(1)である。
これらの値は、磁気記録体が用いられる磁気記録装置の
種類により決まり、記録密度および出力との間にはおよ
そ次のような関係がある。
種類により決まり、記録密度および出力との間にはおよ
そ次のような関係がある。
(記録密度>CC(Hc/ (B r −t ))””
−(1)(出力)CC(Br−t−Hc)”2 ・
(2)また、(1) 、 (2)式はS*の値により
変化し、例えばS が1に近くなるに従って記録密度お
よび出力は増大する。
−(1)(出力)CC(Br−t−Hc)”2 ・
(2)また、(1) 、 (2)式はS*の値により
変化し、例えばS が1に近くなるに従って記録密度お
よび出力は増大する。
記録密度および出力を増大させて磁性膜の高性能化を図
る手段としては、S*の増大の他に、HCを増大させ、
磁性膜の減磁を減少させる方法もある。
る手段としては、S*の増大の他に、HCを増大させ、
磁性膜の減磁を減少させる方法もある。
また、めっき磁気ディスクの磁性膜は、通常COを主成
分とする金属磁性薄膜であるため、再生出力は従来の塗
布型媒体に比べて大きいが、その−軸異方性が大きく、
また磁性配向も困難なためS/Nが低下しやすいという
難点がある。このため、磁性膜のめつき粒子を微粒子化
してノイズを低減することが求められている。
分とする金属磁性薄膜であるため、再生出力は従来の塗
布型媒体に比べて大きいが、その−軸異方性が大きく、
また磁性配向も困難なためS/Nが低下しやすいという
難点がある。このため、磁性膜のめつき粒子を微粒子化
してノイズを低減することが求められている。
磁性薄膜を製造するための無電解めつき浴種として従来
、種々のめつき浴が検討されてきた。これらは、一般に
コバルト塩、還元剤、錯化剤のほか、各種添加剤を含む
めっき液を、アンモニア水または苛性アルカリ溶液を用
いてpH調節した浴である。代表的な浴として、錯化剤
およびpH調節剤の種類により、アンモニアアルカリ性
酒石酸浴、アンモニアアルカリ性クエン酸浴、苛性アル
カリ性酒石酸浴および苛性アルカリ性クエン酸浴の4種
のCo−Pめつき浴が知られている(金属表面技術、第
23巻、第7号、406〜415頁、1972年)が、
所要の磁気特性を安定に得ることができず、実用上問題
がある。
、種々のめつき浴が検討されてきた。これらは、一般に
コバルト塩、還元剤、錯化剤のほか、各種添加剤を含む
めっき液を、アンモニア水または苛性アルカリ溶液を用
いてpH調節した浴である。代表的な浴として、錯化剤
およびpH調節剤の種類により、アンモニアアルカリ性
酒石酸浴、アンモニアアルカリ性クエン酸浴、苛性アル
カリ性酒石酸浴および苛性アルカリ性クエン酸浴の4種
のCo−Pめつき浴が知られている(金属表面技術、第
23巻、第7号、406〜415頁、1972年)が、
所要の磁気特性を安定に得ることができず、実用上問題
がある。
また、上記のような無電解めっき浴に、AR。
Cu、Fe、Mo、Re、W、Zn等の金属塩を添加し
、Go−P系合金膜の諸特性、特に磁気特性を改善する
ことが試みられている(プレイティング、131〜13
6頁、1972年:アイイーイーイー・トランザクショ
ンズ・オン・マグネチックス(I E E E Trn
s、 on Magnetics ) 、第MAG−2
巻、第4号、681〜686頁;金属表面技術、第32
巻、第12号、610〜614頁、1981年)。しか
し、磁気特性以外の特性については殆ど検討がなされて
いない。
、Go−P系合金膜の諸特性、特に磁気特性を改善する
ことが試みられている(プレイティング、131〜13
6頁、1972年:アイイーイーイー・トランザクショ
ンズ・オン・マグネチックス(I E E E Trn
s、 on Magnetics ) 、第MAG−2
巻、第4号、681〜686頁;金属表面技術、第32
巻、第12号、610〜614頁、1981年)。しか
し、磁気特性以外の特性については殆ど検討がなされて
いない。
角形性の良好な磁性薄膜を安定に作製しうる実用的な媒
体めっき浴として、コバルト塩またはコバルト塩および
ニッケル塩を含有するアミン酢酸クエン酸浴が開発され
ている〈特開昭62−070580号公報)が、保磁力
は500〜8300e程度の値でしかない。
体めっき浴として、コバルト塩またはコバルト塩および
ニッケル塩を含有するアミン酢酸クエン酸浴が開発され
ている〈特開昭62−070580号公報)が、保磁力
は500〜8300e程度の値でしかない。
媒体S/Nを向上させる試みとしては、コバルト塩およ
びニッケル塩を含有するアンモニアアルカリ性のマロン
酸リンゴ酸コハク酸浴において、亜鉛イオンを添加する
ことによりめっき粒子を微粒子化することが知られてい
る(1989年電子情報通信学会秋季全国大会予稿集、
5〜164頁、1989年9月)。
びニッケル塩を含有するアンモニアアルカリ性のマロン
酸リンゴ酸コハク酸浴において、亜鉛イオンを添加する
ことによりめっき粒子を微粒子化することが知られてい
る(1989年電子情報通信学会秋季全国大会予稿集、
5〜164頁、1989年9月)。
[発明が解決しようとする課題]
アンモニア浴の場合、昇温しで操業中にアンモニアが蒸
発しやすく、pHの制御が困難で浴管理上問題があった
。一方、苛性浴の場合は、浴pHの変動が少ないためp
H!1ltiilが容易である。アミノ酢酸クエン酸浴
(特開昭62−070580号公報)は苛性アルカリ性
のめっき浴とした時最も効果的であり、角形性の良好な
磁性薄膜を安定に作製することができる。
発しやすく、pHの制御が困難で浴管理上問題があった
。一方、苛性浴の場合は、浴pHの変動が少ないためp
H!1ltiilが容易である。アミノ酢酸クエン酸浴
(特開昭62−070580号公報)は苛性アルカリ性
のめっき浴とした時最も効果的であり、角形性の良好な
磁性薄膜を安定に作製することができる。
しかし、アミノ酢酸クエン酸浴を用いて得られる“媒体
の保磁力は500〜83008程度の値でしかなく、近
年の高密度化に対応した10000e以上の保磁力を得
ることができない。また、特開昭62−070580号
公報には記録再生特性に関してはなんらの記載もないが
、苛性アルカリ性のアミン酢酸クエン酸浴から作製した
媒体の記録再生特性評価を実際に行ったところ、媒体S
/Nが低いという問題があった。
の保磁力は500〜83008程度の値でしかなく、近
年の高密度化に対応した10000e以上の保磁力を得
ることができない。また、特開昭62−070580号
公報には記録再生特性に関してはなんらの記載もないが
、苛性アルカリ性のアミン酢酸クエン酸浴から作製した
媒体の記録再生特性評価を実際に行ったところ、媒体S
/Nが低いという問題があった。
本発明の目的は、上記のような従来の問題点を改善して
、高保磁力で角形性に優れた高S/Nの磁性膜を安定に
再坦性よく作製し得る無電解めっき浴を提供することに
ある。
、高保磁力で角形性に優れた高S/Nの磁性膜を安定に
再坦性よく作製し得る無電解めっき浴を提供することに
ある。
[課題を解決するための手段]
本発明は、金属イオンとしてコバルトイオンまたはコバ
ルトイオンおよびニッケルイオンと、前記金属イオンの
還元剤と、前記金属イオンの錯化剤としてクエンI!基
およびアミン酢酸基とを少なくとも含むpH8,8〜9
.8の範囲の苛性アルカリ性の水溶液で、かつ亜鉛イオ
ンを含むことを特徴とする無電解めっき浴である。
ルトイオンおよびニッケルイオンと、前記金属イオンの
還元剤と、前記金属イオンの錯化剤としてクエンI!基
およびアミン酢酸基とを少なくとも含むpH8,8〜9
.8の範囲の苛性アルカリ性の水溶液で、かつ亜鉛イオ
ンを含むことを特徴とする無電解めっき浴である。
本発明による無電解めっき浴の主要成分としては、金属
イオンとして少なくともコバルトイオン、またはコバル
トイオンおよびニッケルイオン、還元剤、錯化剤として
クエン酸基およびアミノ酢酸基、ざらに亜鉛イオンとを
含むが、本発明の目的、効果を損なわない範囲において
、pH緩衝剤、pH調節剤、光沢剤、平滑剤、励起剤、
ピンホル防止剤、界面活性剤等の添加剤が用いられるこ
とがある。
イオンとして少なくともコバルトイオン、またはコバル
トイオンおよびニッケルイオン、還元剤、錯化剤として
クエン酸基およびアミノ酢酸基、ざらに亜鉛イオンとを
含むが、本発明の目的、効果を損なわない範囲において
、pH緩衝剤、pH調節剤、光沢剤、平滑剤、励起剤、
ピンホル防止剤、界面活性剤等の添加剤が用いられるこ
とがある。
コバルトイオンは、コバルトのfill塩、塩化塩、酢
酸塩などの可溶性塩を無電解めっき浴中に溶解すること
によって供給される。コバルトイオンの濃度は、0.0
01〜1 mol/J!の範囲が用いられるが、好ま
しくは0.005〜0.15 m01/ 1の範囲であ
る。ニッケルイオンは、ニッケルの硫酸塩、塩化塩、酢
酸塩などの可溶性塩を無電解めっき浴中に溶解すること
によって供給される。ニッケルイオンの濃度は、0.0
005〜0.3mol/j!の範囲が用いられるが、好
ましくは0.001〜0.1 mol#!の範囲である
。亜鉛イオンは、亜鉛の′fiA酸塩、塩化塩。
酸塩などの可溶性塩を無電解めっき浴中に溶解すること
によって供給される。コバルトイオンの濃度は、0.0
01〜1 mol/J!の範囲が用いられるが、好ま
しくは0.005〜0.15 m01/ 1の範囲であ
る。ニッケルイオンは、ニッケルの硫酸塩、塩化塩、酢
酸塩などの可溶性塩を無電解めっき浴中に溶解すること
によって供給される。ニッケルイオンの濃度は、0.0
005〜0.3mol/j!の範囲が用いられるが、好
ましくは0.001〜0.1 mol#!の範囲である
。亜鉛イオンは、亜鉛の′fiA酸塩、塩化塩。
酢酸塩などの可溶性塩を無電解めっき浴中に溶解するこ
とによって供給される。亜鉛イオンの濃度は、0.00
15〜0.3 mol/!の範囲が用いられるが、好ま
しくは0.002〜0.1 !!lol/j!の範囲で
ある。
とによって供給される。亜鉛イオンの濃度は、0.00
15〜0.3 mol/!の範囲が用いられるが、好ま
しくは0.002〜0.1 !!lol/j!の範囲で
ある。
本発明において用いられる金属イオンとしては、CO,
Ni、 Znを主成分とするが、その他の成分として、
Re、MO,Mn、W、L l 、Be。
Ni、 Znを主成分とするが、その他の成分として、
Re、MO,Mn、W、L l 、Be。
Mq、Aj 、 Ru、s r、 Fe、sr、Y、z
r。
r。
Nb、Cd、I n、Sb、Ta、Ir、HQ。
Tj!、Ti、V、Cr、Cu、Ga、Ge、Tc。
Rb、Ra、f−(f、Rh、Pd、AQ、Au。
pt、Sn、Te、Ba、Cs、Os、Sc。
5e、pb、13 iおよび3m、Qd、 Tbなどの
ランタン系列希土類元素等の元素が本発明の効果に影響
を与えない範囲で含まれていてもよく、これらのイオン
はそれぞれの可溶性塩によって供給される。
ランタン系列希土類元素等の元素が本発明の効果に影響
を与えない範囲で含まれていてもよく、これらのイオン
はそれぞれの可溶性塩によって供給される。
還元剤としては、次亜リン酸塩、水素化はう素化合物、
ヒドラジン、アミノボラン、ジメチルボラン、ジエチル
アミノボラン、ジメチルアミノボランおよびこれらの誘
導体の1種または2種以上が、0.001〜1.0 m
ol/ It 、好ましくは0.05〜0.4 mol
/fの範囲で用いられる。
ヒドラジン、アミノボラン、ジメチルボラン、ジエチル
アミノボラン、ジメチルアミノボランおよびこれらの誘
導体の1種または2種以上が、0.001〜1.0 m
ol/ It 、好ましくは0.05〜0.4 mol
/fの範囲で用いられる。
錯化剤としては、少なくともクエン酸基およびアミノ酢
酸基が使用される。クエン酸基は、クエン酸またはクエ
ン酸の可溶性塩が0.0001〜1.51101/i’
の範囲で用いられるが、0.005〜0.8mol/j
!の範囲が好ましい。アミノ酢酸基は、アミノ酢酸また
はアミノ酢酸の可溶性塩が0.0002〜2mol/j
!の範囲で用いられるが、0.005〜0.9mol/
1の範囲が好ましい。
酸基が使用される。クエン酸基は、クエン酸またはクエ
ン酸の可溶性塩が0.0001〜1.51101/i’
の範囲で用いられるが、0.005〜0.8mol/j
!の範囲が好ましい。アミノ酢酸基は、アミノ酢酸また
はアミノ酢酸の可溶性塩が0.0002〜2mol/j
!の範囲で用いられるが、0.005〜0.9mol/
1の範囲が好ましい。
また錯化剤としては、上記のほかに、ギ酸、酢酸、プロ
ピオン酸、酪酸、イソWfi酸、吉草酸、イソ吉草酸、
シュウ酸、マロン酸、リンゴ酸、酒石酸、コハク酸、グ
ルタル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、イタ
コン酸、トリカルバリル酸、グリコール酸、チオグリコ
ール酸、乳酸、β−ヒドロキシプロピオン酸、イソクエ
ン酸、アロイソクエン酸、ピルビン酸、オキサル酢酸、
ジグリコール酸、チオジグリコール酸、メルカプトコハ
ク酸、ジメルカプトコハク酸、安息香酸、マンデル酸、
フタル酸、サリチル酸、タルトロン酸。
ピオン酸、酪酸、イソWfi酸、吉草酸、イソ吉草酸、
シュウ酸、マロン酸、リンゴ酸、酒石酸、コハク酸、グ
ルタル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、イタ
コン酸、トリカルバリル酸、グリコール酸、チオグリコ
ール酸、乳酸、β−ヒドロキシプロピオン酸、イソクエ
ン酸、アロイソクエン酸、ピルビン酸、オキサル酢酸、
ジグリコール酸、チオジグリコール酸、メルカプトコハ
ク酸、ジメルカプトコハク酸、安息香酸、マンデル酸、
フタル酸、サリチル酸、タルトロン酸。
アスコルビン酸、スルホサリチル酸、トロボロン。
3−メチルトロボロン、タイロン等のカルボン酸、エチ
レンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテ
トラアミン、ピリジン等のアミンおよびその誘導体、イ
ミノジ酢酸、イミノジプロピオン酸、ニトリロトリ酢酸
、ニトリロトリプロピオン酸、エチレンジアミンジ酢酸
、エチレンジアミンテトラ酢酸、エチレンジアミンテト
ラプロピオン酸、ジエチレントリアミンペンタ酢l!等
のアミノポリカルボン酸、アラニン、ザルコシン、バリ
ン、ノルロイシン、チロシン、システィン、グルタミン
酸、グリシン、アスパラギン酸、アスパラギン、ヒスチ
ジン等のアミノ酸、グルコン酸2アロン酸、イドン酸、
ガラクトン酸、グロン酸、タロン酸、マンノン酸等のヘ
キソン酸、ピロリン酸などの弱酸またはそれらの可溶性
塩の1種または2種以上の組み合わせが用いられること
がある。
レンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテ
トラアミン、ピリジン等のアミンおよびその誘導体、イ
ミノジ酢酸、イミノジプロピオン酸、ニトリロトリ酢酸
、ニトリロトリプロピオン酸、エチレンジアミンジ酢酸
、エチレンジアミンテトラ酢酸、エチレンジアミンテト
ラプロピオン酸、ジエチレントリアミンペンタ酢l!等
のアミノポリカルボン酸、アラニン、ザルコシン、バリ
ン、ノルロイシン、チロシン、システィン、グルタミン
酸、グリシン、アスパラギン酸、アスパラギン、ヒスチ
ジン等のアミノ酸、グルコン酸2アロン酸、イドン酸、
ガラクトン酸、グロン酸、タロン酸、マンノン酸等のヘ
キソン酸、ピロリン酸などの弱酸またはそれらの可溶性
塩の1種または2種以上の組み合わせが用いられること
がある。
これらの錯化剤の濃度は、0.0001〜2.0 mo
l/乏の範囲が用いられ、0.001〜1 mol/
j!の範囲が好ましい。
l/乏の範囲が用いられ、0.001〜1 mol/
j!の範囲が好ましい。
pH緩衝剤としては、アンモニウム塩、炭酸塩。
有機酸塩などが使用され、1iA酸アンモニウム、塩化
アンモニウム、ホウ酸等を用いることが好ましい。濃度
範囲は0.001〜2.5 mol/ It 、好まし
くは0.03〜1 mol/iが用いられる。
アンモニウム、ホウ酸等を用いることが好ましい。濃度
範囲は0.001〜2.5 mol/ It 、好まし
くは0.03〜1 mol/iが用いられる。
9811節剤としては、苛性アルカリとするため、Na
OH,L iOH,KOH,RbOH。
OH,L iOH,KOH,RbOH。
CsOH,FrOH,3e (OH)2 、MO(
O)()2 、Ca (OH)2 、sr (OH)2
。
O)()2 、Ca (OH)2 、sr (OH)2
。
Ba (OH)2 、Ra (OH)2等の金属の水酸
化物の1種または2種以上の組み合わせが用いられる。
化物の1種または2種以上の組み合わせが用いられる。
通常、pH調節剤を加えない建浴前のめつき液は、はぼ
中性ないし酸性領域にあり、前記水酸化物を加えてアル
カリ性にpH調節される。所要のpHを上回った場合、
pH降下には塩酸、硫酸。
中性ないし酸性領域にあり、前記水酸化物を加えてアル
カリ性にpH調節される。所要のpHを上回った場合、
pH降下には塩酸、硫酸。
硝酸等の酸が用いられる。pHは8,8〜9.8の範囲
で用いられる。
で用いられる。
磁性膜厚は0.005〜1tJIrIの範囲が用いられ
るが、高密度記録用には0.2.cm以下が好ましい。
るが、高密度記録用には0.2.cm以下が好ましい。
磁性膜を形成する基板としては通常金属基板が用いられ
るが、適当な活性化処理により非金属基板にも適用でき
る。
るが、適当な活性化処理により非金属基板にも適用でき
る。
[作用]
アンモニアアルカリ性のマロン酸リンゴ酸コハク酸浴に
おいては亜鉛イオンの添加が高S/N化に有効であった
( 1989年電子情報通信学会秋季全国大会予稿集、
5〜164頁、1989年9月)が、苛性アルカリ性の
アミノ酢酸クエン酸浴に亜鉛イオンを添加すると、角形
性の良好な磁性薄膜を安定に作製し得るというこの浴の
特徴が損なわれる。
おいては亜鉛イオンの添加が高S/N化に有効であった
( 1989年電子情報通信学会秋季全国大会予稿集、
5〜164頁、1989年9月)が、苛性アルカリ性の
アミノ酢酸クエン酸浴に亜鉛イオンを添加すると、角形
性の良好な磁性薄膜を安定に作製し得るというこの浴の
特徴が損なわれる。
亜鉛イオンを少量添加するとM−Hループの角形性がく
ずれ、磁気特性の再現性が著しく低下したり、高S/N
化の効果が得られない。また亜鉛イオンの添加量を増力
口しないと高保磁力化を図ることもできない。
ずれ、磁気特性の再現性が著しく低下したり、高S/N
化の効果が得られない。また亜鉛イオンの添加量を増力
口しないと高保磁力化を図ることもできない。
発明者等は広範囲に亜鉛イオンの添加条件の検討を行っ
た結果、極めて限られたpH範囲において本発明の目的
とする高保磁力で角形性に優れた高S/Nの磁性膜が得
られることを見い出した。
た結果、極めて限られたpH範囲において本発明の目的
とする高保磁力で角形性に優れた高S/Nの磁性膜が得
られることを見い出した。
めっき浴のpHが9.8を超え、特に10以上になると
、亜鉛イオン添加による角形性の低下は顕著となる。p
Hの低下とともに添加できる亜鉛イオンの量は増加する
。しかし、亜鉛イオン無添加の場合の浴から得られる磁
性膜の保磁力が著しく低下し、亜鉛イオンを添加しても
保磁力が殆ど増加しなくなる。この傾向はpHが8.8
を下回ると顕著となる。
、亜鉛イオン添加による角形性の低下は顕著となる。p
Hの低下とともに添加できる亜鉛イオンの量は増加する
。しかし、亜鉛イオン無添加の場合の浴から得られる磁
性膜の保磁力が著しく低下し、亜鉛イオンを添加しても
保磁力が殆ど増加しなくなる。この傾向はpHが8.8
を下回ると顕著となる。
苛性アルカリ性のアミノ酢酸クエン酸浴において、亜鉛
イオンの添加が諸特性に敏感である理由は坦在のところ
理論的に明らかになっていないが、苛性アルカリ性にお
いて亜鉛イオンは水酸化亜鉛を形成しやすく、適切に溶
存してめっき析出の微細化に作用するためにはめつき浴
のpHの影響が極めて大きいものと考えられる。詳細な
検討によって亜鉛イオン添加による高保磁力化と高S/
N化に有効であるのは、pH8,8〜9.8の範囲であ
ることが明らかとなった。本発明は、このような新規な
知見を得たことによりもたらされたものである。
イオンの添加が諸特性に敏感である理由は坦在のところ
理論的に明らかになっていないが、苛性アルカリ性にお
いて亜鉛イオンは水酸化亜鉛を形成しやすく、適切に溶
存してめっき析出の微細化に作用するためにはめつき浴
のpHの影響が極めて大きいものと考えられる。詳細な
検討によって亜鉛イオン添加による高保磁力化と高S/
N化に有効であるのは、pH8,8〜9.8の範囲であ
ることが明らかとなった。本発明は、このような新規な
知見を得たことによりもたらされたものである。
[実施例]
次に具体的に実施例および比較例により本発明を説明す
る。
る。
実施例1
5・174インチ径アルミ合金ディスク基板上に、非磁
性NiP層をめっきし、表面を鏡面研磨した後、その上
に下記のめつき浴(1)を用いて膜厚0、05卯のC0
Zr1PIi性薄膜を形成した。
性NiP層をめっきし、表面を鏡面研磨した後、その上
に下記のめつき浴(1)を用いて膜厚0、05卯のC0
Zr1PIi性薄膜を形成した。
めっき浴(1〉
外1隻斑里見
硫酸コバルト 0.035 mol/ 1次亜
リン酸ナトリウム 0.15 mol/1クエン酸ナ
トリウム 0.25 mol/flアミノ酢酸
0.25 mol/IlホウM
O,2mol/ It硫酸亜鉛
Q 〜0.06 mol/fめっき条件 浴温80°C めっき浴゛のpH9,5 (室温にてNaOHてpH調節) 次にこの上に珪酸上ツマ−を回転塗布し、190℃で数
時間焼成して膜厚0.05柳の珪酸重合体を主成分とす
る保護膜を形成し、ざらにこの上にパーフルオロアルキ
ルポリエーテルからなる■滑層を形成し、磁気ディスク
を作製した。
リン酸ナトリウム 0.15 mol/1クエン酸ナ
トリウム 0.25 mol/flアミノ酢酸
0.25 mol/IlホウM
O,2mol/ It硫酸亜鉛
Q 〜0.06 mol/fめっき条件 浴温80°C めっき浴゛のpH9,5 (室温にてNaOHてpH調節) 次にこの上に珪酸上ツマ−を回転塗布し、190℃で数
時間焼成して膜厚0.05柳の珪酸重合体を主成分とす
る保護膜を形成し、ざらにこの上にパーフルオロアルキ
ルポリエーテルからなる■滑層を形成し、磁気ディスク
を作製した。
こうして得られた磁気ディスクを下記の条件で記録再生
特性の測定を行った。
特性の測定を行った。
測定条件
ディスク回転数: 3600 rpm使用トラック:
半径5011G11 使用ヘツドの種類:センダストMIG トラック幅:20t11n ギヤツブ長二〇、51Ij11 コイル巻数:30 ヘッド浮上量: 0.25迦 記録電流:30mA 記録密度: 30000F RP 1また、VSMに
て磁気特性の測定を行った。
半径5011G11 使用ヘツドの種類:センダストMIG トラック幅:20t11n ギヤツブ長二〇、51Ij11 コイル巻数:30 ヘッド浮上量: 0.25迦 記録電流:30mA 記録密度: 30000F RP 1また、VSMに
て磁気特性の測定を行った。
表−1に硫酸亜鉛濃度と保磁力、角形性およびS/への
関係を示す。硫酸亜鉛濃度Onof/j!では、角形性
は0,86と良好であるが、保磁力、S/へは各々71
00e 、 26.5 dBと低い値である。
関係を示す。硫酸亜鉛濃度Onof/j!では、角形性
は0,86と良好であるが、保磁力、S/へは各々71
00e 、 26.5 dBと低い値である。
硫酸亜鉛I!度の増加とともに保磁力およびS/へは増
加し、0.02 mol/j!で保磁力は10000e
を超え、S/へは30 dBを超える値となる。ざらに
、硫酸亜鉛1度0.05 mol / flまで保磁力
およびS/へが増加し、角形性も0.85以上の良好な
値を維持しているが、より高濃度になると保磁力、角形
性およびS/へが低下した。本実施例の浴では、高保磁
力で角形性に優れた高S/Nの磁性膜を得ることができ
、また安定性と再現性にも優れていた。
加し、0.02 mol/j!で保磁力は10000e
を超え、S/へは30 dBを超える値となる。ざらに
、硫酸亜鉛1度0.05 mol / flまで保磁力
およびS/へが増加し、角形性も0.85以上の良好な
値を維持しているが、より高濃度になると保磁力、角形
性およびS/へが低下した。本実施例の浴では、高保磁
力で角形性に優れた高S/Nの磁性膜を得ることができ
、また安定性と再現性にも優れていた。
(以下余白)
表−1
実施例2
実施例]と同様の手順で磁気記録体の作製を行ったが、
本実施例では下記のめつき浴を用いて膜厚0.0457
a+(7)Co N i Z n P磁性薄膜を形成し
た。
本実施例では下記のめつき浴を用いて膜厚0.0457
a+(7)Co N i Z n P磁性薄膜を形成し
た。
めっき浴(2)
めっき浴組成
硫酸D/uL/ト 0.045 mol/ f
l硫酸ニッケル 0.005 mol/ 1次
亜リン酸ナトリウム 0.21 mol/fクエン酸
ナトリウム 0.27 、mol、1アミノ酢酸
0.27 nof/!ホウ!1
0.25 mol/R硫酸亜鉛
0−0.065 mol/Jめっき条件 浴温85°C めっき浴のpHc+、。
l硫酸ニッケル 0.005 mol/ 1次
亜リン酸ナトリウム 0.21 mol/fクエン酸
ナトリウム 0.27 、mol、1アミノ酢酸
0.27 nof/!ホウ!1
0.25 mol/R硫酸亜鉛
0−0.065 mol/Jめっき条件 浴温85°C めっき浴のpHc+、。
(室温にてKOHでIf調節)
こうして得られた磁気ディスクの記録再生特性を実施例
1と同条件で測定を行った。また、■SMにて磁気特性
の測定を行った。
1と同条件で測定を行った。また、■SMにて磁気特性
の測定を行った。
表−2に@酸亜鉛濃度と保磁力、角形性およびS/への
関係を示す。硫酸亜鉛濃度Qw+ol、lでは、角形性
は0.85と良好であるが、保磁力、S/へは各々13
050e、26.8 dBと低い値である。硫酸亜鉛濃
度の増加とともに保磁力およびS/へは増加し、0.0
15 mol/iで保磁力は1ooo oeを超え、S
/へは30 dBを超える値となる。さらに、tL!!
亜鉛濃度0.055 mol/j!まで保磁力およびS
/へが増加し、角形性も0.85以上の良好な値を保っ
ているが、より高1度になると保磁力、角形性およびS
/へが低下した。本実施例の浴では、高保磁力で角形性
に優れた高S/Nの磁性膜を得ることができ、また安定
性と再現性にも優れていた。
関係を示す。硫酸亜鉛濃度Qw+ol、lでは、角形性
は0.85と良好であるが、保磁力、S/へは各々13
050e、26.8 dBと低い値である。硫酸亜鉛濃
度の増加とともに保磁力およびS/へは増加し、0.0
15 mol/iで保磁力は1ooo oeを超え、S
/へは30 dBを超える値となる。さらに、tL!!
亜鉛濃度0.055 mol/j!まで保磁力およびS
/へが増加し、角形性も0.85以上の良好な値を保っ
ているが、より高1度になると保磁力、角形性およびS
/へが低下した。本実施例の浴では、高保磁力で角形性
に優れた高S/Nの磁性膜を得ることができ、また安定
性と再現性にも優れていた。
(以下余白)
表−2
実施例3
実施例1と同様の手順で磁気記録体の作製を行ったが、
本実施例では下記のめつき浴を用いて膜厚0.055μ
sのCoZnP磁性薄膜を形成した。
本実施例では下記のめつき浴を用いて膜厚0.055μ
sのCoZnP磁性薄膜を形成した。
めっき浴(3)
めっき浴組成
硫酸コバルト 0.05 mol#!次亜
リン酸ナトリウム 0.23 mol/I!クエン酸
ナトリウム 0.31 mol/j!アミノ酢酸
0.32 mol/JホウI!lO,28
mol/j 塩化亜鉛 0〜0.03 mol/j!
めっき条件 浴温75℃ めっき浴のpi−19,8 (室温にてKOHでpH調節) こうして得られた磁気ディスクの記録再生特性を実施例
1と同条件で測定を行った。また、■SMにて磁気特性
の測定を行った。
リン酸ナトリウム 0.23 mol/I!クエン酸
ナトリウム 0.31 mol/j!アミノ酢酸
0.32 mol/JホウI!lO,28
mol/j 塩化亜鉛 0〜0.03 mol/j!
めっき条件 浴温75℃ めっき浴のpi−19,8 (室温にてKOHでpH調節) こうして得られた磁気ディスクの記録再生特性を実施例
1と同条件で測定を行った。また、■SMにて磁気特性
の測定を行った。
表−3に塩化亜鉛濃度と保磁力、角形性およびS/への
関係を示す。塩化亜鉛濃度Omol、!では、角形性は
0,87と良好であるが、保磁力、S/へは各々800
0e、 26.9 dBと低い値である。塩化亜鉛濃
度の増加とともに保磁力およびS/へは増加し、0.0
1 mol/j!で保磁力は10000eを超え、S/
へは30 dBを超える値となる。ざらに、塩化亜鉛濃
度0.02 mol /1まで保磁力およびS/へが増
加し、角形性も0.85以上の良好な値を保っているが
、より高濃度になると保磁力、角形性およびS/へが低
下した。本実施例の浴では、高保磁力で角形性に優れた
高S/Nの磁性膜を得ることができ、また安定性と再現
性にも優れていた。
関係を示す。塩化亜鉛濃度Omol、!では、角形性は
0,87と良好であるが、保磁力、S/へは各々800
0e、 26.9 dBと低い値である。塩化亜鉛濃
度の増加とともに保磁力およびS/へは増加し、0.0
1 mol/j!で保磁力は10000eを超え、S/
へは30 dBを超える値となる。ざらに、塩化亜鉛濃
度0.02 mol /1まで保磁力およびS/へが増
加し、角形性も0.85以上の良好な値を保っているが
、より高濃度になると保磁力、角形性およびS/へが低
下した。本実施例の浴では、高保磁力で角形性に優れた
高S/Nの磁性膜を得ることができ、また安定性と再現
性にも優れていた。
(以下余白)
表−3
比較例1
実施例3と同様の手順で磁気記録体の作製を行ったが、
本比較例ではめつき浴(3)におけるめっき浴のf)H
を10.0としてco z n pfIi性薄膜金薄膜
した。
本比較例ではめつき浴(3)におけるめっき浴のf)H
を10.0としてco z n pfIi性薄膜金薄膜
した。
こうして得られた磁気ディスクの記録再生特性を実施例
1と同条件で測定を行った。また、vSMにて磁気特性
の測定を行った。
1と同条件で測定を行った。また、vSMにて磁気特性
の測定を行った。
表−4に塩化亜鉛濃度と保磁力、角形性およびS/間の
関係を示す。塩化亜鉛濃度Omol/J!では、角形性
は0.86と良好であるが、保磁力、S/間は各々79
00e 、 26.0 dBと低い値である。
関係を示す。塩化亜鉛濃度Omol/J!では、角形性
は0.86と良好であるが、保磁力、S/間は各々79
00e 、 26.0 dBと低い値である。
塩化亜鉛濃度の増加とともにS/間は増加するが、増加
度合いは少なく、S/間は30 dBを超えない。
度合いは少なく、S/間は30 dBを超えない。
保磁力は、塩化亜鉛濃度が増加しても増加傾向を示さな
い。pHをio、oとした本比較例の浴では、亜鉛を添
加しても高保磁力で高S/Nの磁性膜を得ることができ
ない。
い。pHをio、oとした本比較例の浴では、亜鉛を添
加しても高保磁力で高S/Nの磁性膜を得ることができ
ない。
(以下余白)
表−4
小ざく、硫酸亜鉛濃度を増加しても増DO傾向を示さな
い。pHが8.8を下回ると保磁力が著しく減少し、亜
鉛を添加しても保磁力の増加を図ることができなかった
。
い。pHが8.8を下回ると保磁力が著しく減少し、亜
鉛を添加しても保磁力の増加を図ることができなかった
。
表−5
比較例2
実施例2と同様の手順で磁気記録体の作製を行ったが、
本比較例ではめっき浴(2)におけるめっき浴のpHを
8.7としてCON + znp磁性薄膜を形成した。
本比較例ではめっき浴(2)におけるめっき浴のpHを
8.7としてCON + znp磁性薄膜を形成した。
こうして得られた磁気ディスクの記録再生特性をVSM
にて測定した。
にて測定した。
表−5に硫酸亜鉛濃度と保磁力の関係を示す。
硫酸亜鉛濃度Om0+/fでは、保磁力は3250eと
[発明の効果] 以上、説明したように、本発明によれば、高保磁力で角
形性に優れた高S/N比の磁気記録媒体を安定に作製し
うる無電解めっき浴が得られる。
[発明の効果] 以上、説明したように、本発明によれば、高保磁力で角
形性に優れた高S/N比の磁気記録媒体を安定に作製し
うる無電解めっき浴が得られる。
Claims (1)
- (1)金属イオンとしてコバルトイオンまたはコバルト
イオンおよびニッケルイオンと、前記金属イオンの還元
剤と、前記金属イオンの錯化剤としてクエン酸基および
アミノ酢酸基とを少なくとも含むpH8.8〜9.8の
範囲の苛性アルカリ性の水溶液で、かつ亜鉛イオンを含
むことを特徴とする無電解めつき浴。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8829390A JPH03287777A (ja) | 1990-04-04 | 1990-04-04 | 無電解めっき浴 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8829390A JPH03287777A (ja) | 1990-04-04 | 1990-04-04 | 無電解めっき浴 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03287777A true JPH03287777A (ja) | 1991-12-18 |
Family
ID=13938869
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8829390A Pending JPH03287777A (ja) | 1990-04-04 | 1990-04-04 | 無電解めっき浴 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03287777A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6818313B2 (en) | 2002-07-24 | 2004-11-16 | University Of Dayton | Corrosion-inhibiting coating |
JP2008517154A (ja) * | 2004-10-18 | 2008-05-22 | エントン インコーポレイテッド | マイクロ電子機器におけるコバルトとニッケルの無電解メッキ |
-
1990
- 1990-04-04 JP JP8829390A patent/JPH03287777A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6818313B2 (en) | 2002-07-24 | 2004-11-16 | University Of Dayton | Corrosion-inhibiting coating |
US7537663B2 (en) | 2002-07-24 | 2009-05-26 | University Of Dayton | Corrosion-inhibiting coating |
JP2008517154A (ja) * | 2004-10-18 | 2008-05-22 | エントン インコーポレイテッド | マイクロ電子機器におけるコバルトとニッケルの無電解メッキ |
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