JPH0328730A - 感温センサ - Google Patents
感温センサInfo
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- JPH0328730A JPH0328730A JP1164793A JP16479389A JPH0328730A JP H0328730 A JPH0328730 A JP H0328730A JP 1164793 A JP1164793 A JP 1164793A JP 16479389 A JP16479389 A JP 16479389A JP H0328730 A JPH0328730 A JP H0328730A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 18
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 235000006693 Cassia laevigata Nutrition 0.000 description 1
- 241000735631 Senna pendula Species 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940124513 senna glycoside Drugs 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003856 thermoforming Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は感温センサ、特に急激な温度変化の検知に適
した感温セン刃に関する。
した感温セン刃に関する。
火災や生産機械の異常時における急激な温度上昇(急激
な温度変化)を検出し警報を発する装置がある。このよ
うな装置には、急激な温度1二昇を捉えるための感温セ
ンサが使われている。
な温度変化)を検出し警報を発する装置がある。このよ
うな装置には、急激な温度1二昇を捉えるための感温セ
ンサが使われている。
従来、この種の公知の感温センサとして、熱時定数の異
なる2つのザーミスタを用いた差動式の温度センサがあ
るが、発明者らは、より小型化が可能で使い易い差動式
の感温センナとして、第4図に示す感温センサを開発検
削した。
なる2つのザーミスタを用いた差動式の温度センサがあ
るが、発明者らは、より小型化が可能で使い易い差動式
の感温センナとして、第4図に示す感温センサを開発検
削した。
この感温センサは、基板1の厚みの薄い部分Aと厚みの
厚い部分A′にそれぞれ感温部s,s’を設けるように
したセンサ本体部が、ヒートシンク2に取り付けられた
構造となっており、それぞれの感温部s,s’が白金の
測温用薄膜抵抗体3、3有している。
厚い部分A′にそれぞれ感温部s,s’を設けるように
したセンサ本体部が、ヒートシンク2に取り付けられた
構造となっており、それぞれの感温部s,s’が白金の
測温用薄膜抵抗体3、3有している。
−L記感温センサでは、熱応答性をよくしたり小型化す
るためにセンサ本体部の厚みを薄くすることが好ましい
。しかしながら、センナ本体部の厚みを薄くするほど、
温度変化を的確に捉えられなくなる。そこで、検討して
みたところ、ヒートシンク2表面から数ml以下の範囲
は、感温センナの測温雰囲気の温度変化に直らに連動し
ては温度変化が起きないことが原因であることが分かっ
た。
るためにセンサ本体部の厚みを薄くすることが好ましい
。しかしながら、センナ本体部の厚みを薄くするほど、
温度変化を的確に捉えられなくなる。そこで、検討して
みたところ、ヒートシンク2表面から数ml以下の範囲
は、感温センナの測温雰囲気の温度変化に直らに連動し
ては温度変化が起きないことが原因であることが分かっ
た。
例えば、雰囲気が急激に温度上昇しても、ヒートシンク
で大きな熱吸収が平行して起こり、上記範囲では温度が
中々上がらないため、センサ本体部の厚みが薄い場合、
感温部でも温度変化が起こらず、的確に塩度上昇を感知
できないのである。
で大きな熱吸収が平行して起こり、上記範囲では温度が
中々上がらないため、センサ本体部の厚みが薄い場合、
感温部でも温度変化が起こらず、的確に塩度上昇を感知
できないのである。
この発明は、上記事情に鑑み、ヒートシンクが的確な温
度変化感知の障害とならない感温センサを提供すること
を課題とする。
度変化感知の障害とならない感温センサを提供すること
を課題とする。
前記課題を解決するため、この発明にかかる感温センサ
は、感温特性の異なる複数の感温部を備えるセンサ本体
部がヒートシンクに取り付けられてなる感温センサであ
って、前記センサ本体部周辺のヒートシンク表面を熱絶
縁性膜で覆うようにしている。
は、感温特性の異なる複数の感温部を備えるセンサ本体
部がヒートシンクに取り付けられてなる感温センサであ
って、前記センサ本体部周辺のヒートシンク表面を熱絶
縁性膜で覆うようにしている。
熱絶縁性膜は、石綿、あるいは、ナイロン等の樹脂材料
やこれよりも低い塾伝導率をもつ材料で形威されている
。もちろん、熱絶縁性膜が、これらの材料のものに限ら
ないことはいうまでもない〔作 用〕 この発明にかかる感温センサにおいては、センサ本体部
周辺のヒートシンク表面が熱絶縁性膜で覆われている。
やこれよりも低い塾伝導率をもつ材料で形威されている
。もちろん、熱絶縁性膜が、これらの材料のものに限ら
ないことはいうまでもない〔作 用〕 この発明にかかる感温センサにおいては、センサ本体部
周辺のヒートシンク表面が熱絶縁性膜で覆われている。
そのため、センサ本体部周辺ではヒートシンクと雰囲気
の間で感知の障害を引き起こす熱の遣り取り(熱吸収や
熱放出)が抑えられる。したがって、感温センサが急激
な温度変化を受けた場合、ヒートシンク表面に近い部分
でも直ちに温度変化が現れ、センサ本体部が薄くても的
確に温度変化が捉えられるようになる。
の間で感知の障害を引き起こす熱の遣り取り(熱吸収や
熱放出)が抑えられる。したがって、感温センサが急激
な温度変化を受けた場合、ヒートシンク表面に近い部分
でも直ちに温度変化が現れ、センサ本体部が薄くても的
確に温度変化が捉えられるようになる。
以下、この発明の一実施例を図面を参照しながら詳しく
説明する。
説明する。
第1図は、この発明にかかる感温センサの1実施例の要
部構底を断面した状態であらわし、第2図は、この感温
センサを上方からみた状態をあらわす。
部構底を断面した状態であらわし、第2図は、この感温
センサを上方からみた状態をあらわす。
この感温センサは、感温特性の異なる感温部S、S′を
有する基板1 (センサ本体部)がヒートシンク2に取
り付けられてなる。基板1にはダイヤフラム様の厚みの
薄い部分Aと、同部分Aを囲んでいる厚い部分A′があ
って、薄い部分Aに感温部Sが、厚い部分A′に感温部
S′がそれぞれ設けられている。
有する基板1 (センサ本体部)がヒートシンク2に取
り付けられてなる。基板1にはダイヤフラム様の厚みの
薄い部分Aと、同部分Aを囲んでいる厚い部分A′があ
って、薄い部分Aに感温部Sが、厚い部分A′に感温部
S′がそれぞれ設けられている。
ヒートシンク(吸熱体)2は、例えば、銀、銅やアル宝
ニウム等の低熱伝導率金属体である。
ニウム等の低熱伝導率金属体である。
基板1は厚みの厚い半導体層1bに絶縁層1aが積層さ
れてなる構戒であり、前記絶縁層1aは、例えば、酸化
物や窒化物のうちの少なくともひとつで形威されていて
、厚みの薄い部分Aが絶縁層1aのみからなる。
れてなる構戒であり、前記絶縁層1aは、例えば、酸化
物や窒化物のうちの少なくともひとつで形威されていて
、厚みの薄い部分Aが絶縁層1aのみからなる。
絶縁層1aの具体的態様としては、1〜複数の酸化物層
の構戒、1〜複数の窒化物層の構成、1〜複数の酸化物
層と1〜複数の窒化物層を適宜に積層してなる構戒等が
ある。また、酸化物としては、シリコン酸化物等が例示
され、窒化物としては、シリコン窒化物等が例示される
。一方、半導体層としては、シリコン単結晶層等が例示
される各感温部s,s’における絶縁層1a表面には白
金の測温用薄膜抵抗体3、3がそれぞれ形威されている
。そのため、温度変化に対し直線性に優れる測温信号を
得ることができるので、両感温部s,s’の差信号をそ
のまま使うことができ、信号処理が容易で回路構威が簡
単になるという利点がある。なお、薄膜抵抗体は、金等
の他の金属材料で形成されていてもよい。
の構戒、1〜複数の窒化物層の構成、1〜複数の酸化物
層と1〜複数の窒化物層を適宜に積層してなる構戒等が
ある。また、酸化物としては、シリコン酸化物等が例示
され、窒化物としては、シリコン窒化物等が例示される
。一方、半導体層としては、シリコン単結晶層等が例示
される各感温部s,s’における絶縁層1a表面には白
金の測温用薄膜抵抗体3、3がそれぞれ形威されている
。そのため、温度変化に対し直線性に優れる測温信号を
得ることができるので、両感温部s,s’の差信号をそ
のまま使うことができ、信号処理が容易で回路構威が簡
単になるという利点がある。なお、薄膜抵抗体は、金等
の他の金属材料で形成されていてもよい。
そして、基板1周辺のヒートシンク表面2aには熱絶縁
性膜4が形威されており、前述したような働きをする。
性膜4が形威されており、前述したような働きをする。
続いて、この実施例の感温センサの動作・利点等を説明
する。
する。
実施例の感温センサでは、急激な温度上昇があった際、
厚みの薄い部分Aは、厚みの厚い部分A′よりも速く温
度が上昇する。薄い部分Aは厚い部分A′よりも熱容量
が極めて小さくて昇温速度が速い。したがって、急激な
温度上昇のあった場合、厚みの薄い部分八と厚みの厚い
部分A′の間に大きな温度差が生ずる。そのため、感温
部Sからの信号と、感温部S′からの信号の間には大き
な信号差が出来る。この大きな信号差を捉えれば、急激
な温度変化(急激な温度上昇あるいは急激な温度低下)
のあった場合のみを、確実に検知することができる。
厚みの薄い部分Aは、厚みの厚い部分A′よりも速く温
度が上昇する。薄い部分Aは厚い部分A′よりも熱容量
が極めて小さくて昇温速度が速い。したがって、急激な
温度上昇のあった場合、厚みの薄い部分八と厚みの厚い
部分A′の間に大きな温度差が生ずる。そのため、感温
部Sからの信号と、感温部S′からの信号の間には大き
な信号差が出来る。この大きな信号差を捉えれば、急激
な温度変化(急激な温度上昇あるいは急激な温度低下)
のあった場合のみを、確実に検知することができる。
ヒートシンク2は、全体の熱容量がセンサ本体部全体の
熱容量に比べ大きく、急激な温度変化を受けた際に直ち
に昇温することなく、急激な温度上昇のあった際、厚み
の薄い部分八と厚みの厚い部分A′の間により効果的に
大きな温度差がつくように働く。
熱容量に比べ大きく、急激な温度変化を受けた際に直ち
に昇温することなく、急激な温度上昇のあった際、厚み
の薄い部分八と厚みの厚い部分A′の間により効果的に
大きな温度差がつくように働く。
具体的な熱の流れを第3図に示す。感温部S′に与えら
れた熱は矢印■の経路で巴トーシンク2に達し、感温部
Sに与えられた熱は、基板1の厚みの薄い部分から厚み
の厚い部分を通る矢印IIの経路と、掘り込みICif
fiる矢印Iの経路でヒートシンク2に達する。熱伝導
率の大きな空気が通路に介在する矢印Iの経路や狭い通
路のある矢印Hの経路は矢印■の経路に比べて熱が伝わ
り難い。
れた熱は矢印■の経路で巴トーシンク2に達し、感温部
Sに与えられた熱は、基板1の厚みの薄い部分から厚み
の厚い部分を通る矢印IIの経路と、掘り込みICif
fiる矢印Iの経路でヒートシンク2に達する。熱伝導
率の大きな空気が通路に介在する矢印Iの経路や狭い通
路のある矢印Hの経路は矢印■の経路に比べて熱が伝わ
り難い。
このようにヒートシンク2により熱の流れに差をつけ、
より効果的に感温部s,s’の間に温度差が生ずるよう
にするのである。
より効果的に感温部s,s’の間に温度差が生ずるよう
にするのである。
なお、緩やかな温度変化に対し”(は、jvみの薄い部
分Aと厚みの厚い部分A′の間に大きな温度がつかない
ため、ふたつの感温部S..s′からの信号間の差は極
く僅かでしかない。
分Aと厚みの厚い部分A′の間に大きな温度がつかない
ため、ふたつの感温部S..s′からの信号間の差は極
く僅かでしかない。
したがって、この感温センサは、急激な温度変化を選択
的に確実に検知するセンサとして使うことができるので
ある。
的に確実に検知するセンサとして使うことができるので
ある。
また、複数の感温部s,s’を有する基板1からなるセ
ンサ本体部がヒートシンクに取り付けられてなる構造は
、十分に信頼性があり、小型化に適する。例えば、前記
のような測温用薄膜抵抗体を使う場合、極めて小型にす
ることができる。これは、薄膜抵抗体は微細なパターン
ニングが可能だからである。
ンサ本体部がヒートシンクに取り付けられてなる構造は
、十分に信頼性があり、小型化に適する。例えば、前記
のような測温用薄膜抵抗体を使う場合、極めて小型にす
ることができる。これは、薄膜抵抗体は微細なパターン
ニングが可能だからである。
また、基板材料としてシリコン板を用いる場合、シリコ
ン板に異方性エソチングにより掘り込み1cを設けるこ
とにより簡単に厚みの薄い部分Aを作ることができるし
、感温部の後の信号処理回路用のトランジスタ等の半導
体素子を併設ずることも可能である。しかも、シリコン
は比較的熱伝導性がよいため、ヒトーシンク2への熱伝
達が円滑になされる。
ン板に異方性エソチングにより掘り込み1cを設けるこ
とにより簡単に厚みの薄い部分Aを作ることができるし
、感温部の後の信号処理回路用のトランジスタ等の半導
体素子を併設ずることも可能である。しかも、シリコン
は比較的熱伝導性がよいため、ヒトーシンク2への熱伝
達が円滑になされる。
続いて、上記実施例の感温センサの製造について説明す
る。
る。
まず、(1 1 0)面もしくは(1 1 1)面のシ
リコン半導体基板の表面に、絶縁Nla用として、シリ
コン窒化膜、シリコン酸化膜、あるいは、これらの窒化
膜と酸化膜の積層膜を、熱酸化、CVD等の方法により
形戒する。
リコン半導体基板の表面に、絶縁Nla用として、シリ
コン窒化膜、シリコン酸化膜、あるいは、これらの窒化
膜と酸化膜の積層膜を、熱酸化、CVD等の方法により
形戒する。
基Fj.1を得た後、スパッタリング、あるいは、真空
蒸着等の方法でプラチナあるいは金等の薄股抵抗体材料
膜を絶縁層1aの上に形威ずる。ついで、レジストマス
クを形威してから、湿式エソチングやイオン主リング等
のドライエソチングなどの方法でパターンニングするこ
とにより、¥Ii細な渕温用薄膜抵抗体3、3を基板1
にそれぞれ形成する。
蒸着等の方法でプラチナあるいは金等の薄股抵抗体材料
膜を絶縁層1aの上に形威ずる。ついで、レジストマス
クを形威してから、湿式エソチングやイオン主リング等
のドライエソチングなどの方法でパターンニングするこ
とにより、¥Ii細な渕温用薄膜抵抗体3、3を基板1
にそれぞれ形成する。
ついで、一方の薄膜抵抗体3の下部分を、裏面から異方
性エッチングで絶縁層1cに達するところまで掘り込ん
で、掘り込みICを形威してダイ十フラム様の薄い部分
Aを作り、センサ本体部を得る。
性エッチングで絶縁層1cに達するところまで掘り込ん
で、掘り込みICを形威してダイ十フラム様の薄い部分
Aを作り、センサ本体部を得る。
なお、通常、この後、リード線(図示省略)を接続部3
′に固着したり、結露の影響を受けないようにするため
の絶縁膜を薄膜抵抗体形戒面全面に積層したりする。続
いて、アル曳ニウム、銅などのヒートシンク2表面に基
板1裏面を熱伝導性に優れる接着剤(例えば、銀ペース
ト)でもって接着した後、最後に、ナイロン等の樹脂材
料の熱絶縁性膜4をヒートシンク表面2aに設けて、感
温センサを完成する。
′に固着したり、結露の影響を受けないようにするため
の絶縁膜を薄膜抵抗体形戒面全面に積層したりする。続
いて、アル曳ニウム、銅などのヒートシンク2表面に基
板1裏面を熱伝導性に優れる接着剤(例えば、銀ペース
ト)でもって接着した後、最後に、ナイロン等の樹脂材
料の熱絶縁性膜4をヒートシンク表面2aに設けて、感
温センサを完成する。
この発明の感温センサは上記実施例のものに限らない。
例えば、センサ本体部が基板1の厚みが一定で一部分を
熱伝導率の違う材料にし、異なる材料表面部分にそれぞ
れ感温部を設けたものとしてもよい。
熱伝導率の違う材料にし、異なる材料表面部分にそれぞ
れ感温部を設けたものとしてもよい。
(発明の効果〕
この発明の感温センサは、以上述べたように、センサ本
体部周辺のヒートシンク表面が熱絶縁性膜で覆われてい
るため、急激な温度変化を的確に捉えることができる。
体部周辺のヒートシンク表面が熱絶縁性膜で覆われてい
るため、急激な温度変化を的確に捉えることができる。
9
l0
第1図は、この発明にかかる感温センサの一例の要部断
面図、第2図は、この感温センサの平面図、第3図は、
上記感温センサにおける熱の流れをあらわす説明図、第
4図は、感温センサの参考例の要部断面図である。 1・・・基板(センサ本体部) 2・・・ヒートシ
ンク 3・・・測温用薄膜抵抗体 4・・・熱砲縁
性膜s,s’・・・感温部
面図、第2図は、この感温センサの平面図、第3図は、
上記感温センサにおける熱の流れをあらわす説明図、第
4図は、感温センサの参考例の要部断面図である。 1・・・基板(センサ本体部) 2・・・ヒートシ
ンク 3・・・測温用薄膜抵抗体 4・・・熱砲縁
性膜s,s’・・・感温部
Claims (1)
- 1 感温特性の異なる複数の感温部を備えるセンサ本体
部がヒートシンクに取り付けられてなる感温センサであ
って、前記センサ本体部周辺のヒートシンク表面が熱絶
縁性膜で覆われてなることを特徴とする感温センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1164793A JPH0328730A (ja) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | 感温センサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1164793A JPH0328730A (ja) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | 感温センサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0328730A true JPH0328730A (ja) | 1991-02-06 |
Family
ID=15800048
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1164793A Pending JPH0328730A (ja) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | 感温センサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0328730A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008309526A (ja) * | 2007-06-12 | 2008-12-25 | Nippon Soken Inc | 温度センサ素子及び温度センサ |
-
1989
- 1989-06-27 JP JP1164793A patent/JPH0328730A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008309526A (ja) * | 2007-06-12 | 2008-12-25 | Nippon Soken Inc | 温度センサ素子及び温度センサ |
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