JPH0328422B2 - - Google Patents

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JPH0328422B2
JPH0328422B2 JP57132280A JP13228082A JPH0328422B2 JP H0328422 B2 JPH0328422 B2 JP H0328422B2 JP 57132280 A JP57132280 A JP 57132280A JP 13228082 A JP13228082 A JP 13228082A JP H0328422 B2 JPH0328422 B2 JP H0328422B2
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JP
Japan
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fluoride
chloride
reaction
trichloromethylthiobenzoyl
atom
Prior art date
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JP57132280A
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English (en)
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JPS5826866A (ja
Inventor
Fuaruitsuhi Yurugen
Hamupurehito Geruharuto
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BASF SE
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BASF SE
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Publication date
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Publication of JPS5826866A publication Critical patent/JPS5826866A/ja
Publication of JPH0328422B2 publication Critical patent/JPH0328422B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、トリクロルメチルベンゾイルクロラ
イドを10〜130℃で弗化水素と反応させることに
よる、新規なフルオルメチルチオベンゾイルフル
オライドの製法に関する。
対応するトリクロル化合物から、三弗化アンチ
モン又は弗化水素によりトリフルオルメチルフエ
ニルサルフアイドを製造することは既知である。
(C.A.49、8172c、フランス特許820796号明細書
参照)。
これまでトリフルオルメチルチオ置換ベンゾイ
ルクロライドの製造は、トリフルオルメチルチオ
ニトロベンゾールから出発して、還元により製造
されたアニリン誘導体を対応するベンゾニトリル
及び安息香酸となし、次いでこれをチオニルクロ
ライドを用いて塩素化する煩雑な工程によつて行
われた(前記C.A.参照)。
酸クロライドの段階までは他の反応工程を利用
するトリフルオルメチルチオ安息香酸誘導体への
他の方法は、ヨード又はブロム置換ニトロベゾー
ル又は安息香酸エステルと水銀−もしくは銅−ト
リフルオルメチルサルフアイドとの反応を包含す
る(米国特許4020169号明細書、ジヤーナル・オ
ブ・オーガニツク・ケミストリー41巻1644頁1976
年参照)。反応に必要な水銀化合物は高価で有毒
であり、またトリクロルメチルチオスルフエニル
クロライドを経由して製造することは煩雑であ
る。銅−トリフルオルメチルサルフアイドは水銀
化合物から合成される。
西ドイツ特許出願公開2117650号明細書に記載
のフルオルメトキシベンゾイルフルオライドの製
造では、対応するトリクロルメトキシベンゾイル
クロライドを60〜130℃で加圧下に反応させるこ
とにより、モノー及びジフルオル化合物だけが得
られる。この場合約130℃でようやく少量のトリ
フルオル化合物が生成する。実施例5には、29〜
94℃でモノフルオル化合物(11.8%)、ジフルオ
ル化合物(79.6%)及びトリフルオル化合物
(5.6%)の混合物が生成することが示されてい
る。
本発明者らは、次式 (Rは後記の意味を有する)で表わされるトリ
クロルメチルチオベンゾイルクロライドを、その
1モルに対し1.2〜100モルの弗化水素と、(a)
トリフルオルメチルチオベンゾイルフルオライド
を製造する場合は40〜130℃の温度及び2〜30バ
ールの圧力で、(b)ジフルオルモノクロルメチ
ルチオベンゾイルフルオライドを製造する場合は
10〜40℃の温度及び1〜10バールの圧力で反応さ
せるとき、次式 (Xは塩素原子又は弗素原子、Rは水素原子、
ハロゲン原子又は脂肪族基を意味する)で表わさ
れるフルオルメチルチオベンゾイルフルオライド
が有利に得られることを見出した。
次式 (Xは塩素原子又は弗素原子、Rは水素原子、
ハロゲン原子又は脂肪族基を意味する)で表わさ
れるフルオルメチルチオベンゾイルフルオライド
は新規物質である。
反応はm−トリクロルメチルチオベンゾイルク
ロライドを使用する場合について、次式で示され
る。
技術水準と比較して本発明方法は、簡単かつ経
済的な手段で新規にフルオルメチルチオベンゾイ
ルフルオライドを良好な収率及び純度において提
供できる。すべてのこれらの有利な結果は予想外
であつた。西ドイツ特許出願公開2117650号明細
書によれば、本発明における温度及び圧力では三
種のすべてのフルオルメチル化合物の混合物が生
成し、そして多くても少量のトリフルオル化合物
の生成が予期されたからである。
好ましい出発物質及びしたがつて好ましい目
的物質は、式中のXが塩素原子又は弗化原子を
意味し、Rが水素原子、臭素原子、塩素原子又は
1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を意味す
るものである。この基はさらに反応条件で不活性
な基、例えば、1〜4個の炭素原子を有するアル
キル基又はアルコキシ基により置換されていても
よい。
例えば出発物質としては下記のものが用いら
れる。m−トリクロルメチルチオベンゾイルクロ
ライド、ならびに臭素原子、塩素原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、イソブチル基、二級ブチル基又は三級ブ
チル基によりフエニル核のm−、o−もしくはp
−位において置換された対応するベンゾイルクロ
ライド;対応するo−及びp−トリクロルメチル
化合物。
出発化合物は相互に化学当量で、又は好ましく
は弗化水素の過剰、特に有利にはトリクロルメチ
ルチオベンゾイルクロライドの1モルに対し、
HF1.2〜100モル特に1.5〜20モルにおいて反応さ
せる。
反応は10〜130℃の温度で、トリフルオルメチ
ル化合物を製造するためには40〜130℃特に40〜
80℃、ジフルオルメチル化合物を製造するために
は10〜40℃特に10〜30℃で、加圧又は常圧におい
て連続的又は非連続的に行われる。
反応圧力は1〜30バールで、トリフルオルメチ
ル化合物を製造するためには2〜30バール、ジフ
ルオルメチル化合物を製造するためには1〜10バ
ールである。反応の際に発生するHClガスは、希
望の圧力により排出される。
反応は溶剤なしでも溶剤を用いても行われる。
溶剤としては例えば下記のものが用いられる。ハ
ロゲン化炭化水素持に臭素化及び塩素化炭化水
素、例えばテトラクロルエチレン、1,1,2,
2−又は1,1,1,2−テトラクロルエタン、
塩化アミル、塩化シクロヘキシル、1,2−ジク
ロルプロパン、塩化メチレン、ジクロルブタン、
臭化イソプロピル、臭化−n−プロピル、臭化ブ
チル、クロロホルメ、ブロモホルム、ヨー化エチ
ル、ヨー化プロピル、クロルナフタリン、ジクロ
ルナフタリン、四塩化炭素、1,1,1−又は
1,1,2−トリクロルエタン、トリクロルエチ
レン、ペンタクロルエタン、1,2−ジクロルエ
タン、1,1−ジクロルエタン、塩化−n−プロ
ピル、1,2−シス−ジクロルエチレン、塩化−
n−ブチル、2−、3−及びイソ−ブチルクロラ
イド;脂肪族又は脂環族の炭化水素、例えばペン
タン、ヘプタン、α−ピネン、ピナン、ノナン、
沸騰範囲が70〜190℃のベンジン留分、シクロヘ
キサン、メチルシクロヘキサン、デカリン、石油
エーテル、ヘキサン、リグロイン、2,2,4−
トリメチルペンタン、2,2,3−トリメチルペ
ンタン、2,3,3−トリメチルペンタン、オク
タン;これらの混合物。溶剤は出発物質に対
し、80〜10000重量%特に100〜600重量%の量で
用いることが好ましい。
反応は触媒を用い又は用いないで行われる。触
媒は例えばアンチモン、鉄、コバルト、ニツケ
ル、マンガン、チタン、アルルミニウム、ほう素
又はクロム化合物例えば弗化物である。
反応は次のように実施できる。弗化水素及びト
リクロルメチルチオベンゾイルクロライドを、場
合により溶剤及び/又は触媒との混合物として、
反応温度で0.5〜10時間撹拌し、生成する塩酸を
1〜30バールの圧力で系外除去する。過剰の弗化
水素は留去し、系に供給できる。目的物質は常法
により蒸留して精製される。生成物を水と混合し
ない溶剤と添加し又は添加しないで水を用いて洗
浄することも好ましい。
本発明方法により得られるフルオルメチルベン
ゾイルフルオライドは、植物保護剤を製造するた
めの価値ある出発物質である。例えばアントラニ
ル酸と反応させることにより、優れた除草作用を
有するベンゾオキサジノンが得られる。
下記実施例中の部は重量部を意味する。
実施例 1 V4A鋼製オートクレーブ中で、m−トリクロ
ルメチルチオベンゾイルクロライド1540部及び弗
化水素1900部を、70℃で6時間撹拌する。その間
に生成する塩酸の脱ガスにより圧力を10バールに
保つ。次いで、装置を放圧し、過剰の弗化水素酸
を留去し、液状の反応生成物を蒸留する。n25 D
1.4777、沸点60℃(5mバール)のm−トリフル
オルメチルチオベンゾイルフルオライドが891部
(理論値の75%)が得られる。
実施例 2 還流冷却器を備えたテフロン製フラスコ中で、
p−トリクロルメチルチオベンゾイルクロライド
650部及び弗化水素500部を、常圧で還流(20℃)
下に7時間加熱する。弗化水素酸を留去したのち
仕上げ処理すると、沸点106〜108℃(16mバー
ル)、n25 D=1.5144のp−クロルジフルオルメチル
チオベンゾイルフルオライドが441部(理論値の
83%)得られる。13 C−NMR(CDCl3)δ(ppm)(内部標準
TMS): C1 127.22(D) C4 135.11(S) C7 156.61(D) C2 132.25(S) C5 136.04(S) C8 130.05(T) C3 136.04(S) C6 132.25(S) 実施例 3 還流冷却器を備えたテフロン製フラスコ中で、
m−トリクロルメチルチオベンゾイルクロライド
2600部及び弗化水素2000部を、還流(20℃)下に
1バールで7時間撹拌する。弗化水素酸を留去し
たのち、沸点47〜50℃(0.2mバール)、n25 D
1.5089のm−クロルジフルオルメチルチオベンゾ
イルフルオライドが1965部(理論値の82%)得ら
れる。
実施例 4 オートクレーブ中で、3−トリクロルメチルチ
オ−4−クロルベンゾイルクロライド270部及び
無水弗化水素酸500部を、70℃及び20バールで8
時間撹拌する。反応混合物を氷水に注入し、塩化
メチレンで抽出し、水洗する。沸点41℃(0.1m
バール)の3−トリフルオルメチルチオー4′−ク
ロルベンゾイルフルオライドが130部(理論値の
62%)得られる。13 C−NMR(CDCl3)δ(ppm)(内部標準
TMS): C1125.1(D) C4 147.9(S) C7 115.7(D) C2 140.8(S) C5 131.9(S) C8 129.2(Q) C3 126.5(S) C6 134.7(S) 実施例 5 実施例1と同様に操作し、ただしp−トリクロ
ルメチルチオベンゾイルクロライド1540部及び弗
化水素酸1900部を使用する。沸点85〜89℃(16m
バール)、n25 D=1.4829のp−トリフルオルメチル
チオベンゾイルフルオライドが、理論値の70%の
収率で得られる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 次式 (Rは後記の意味を有する)で表わされるトリ
    クロルメチルチオベンゾイルクロライドを、その
    1モルに対し1.2〜100モルの弗化水素と、(a)
    トリフルオルメチルチオベンゾイルフルオライド
    を製造する場合は40〜130℃の温度及び2〜30バ
    ールの圧力で、(b)ジフルオルモノクロルメチ
    ルチオベンゾイルフルオライドを製造する場合は
    10〜40℃の温度及び1〜10バールの圧力で反応さ
    せることを特徴とする、次式 (Xは塩素原子又は弗素原子、Rは水素原子、
    ハロゲン原子又は脂肪族基を意味する)で表わさ
    れるフルオルメチルチオベンゾイルフルオライド
    の製法。
JP57132280A 1981-08-01 1982-07-30 フルオルメチルチオベンゾイルフルオライドの製法 Granted JPS5826866A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3130436.2 1981-08-01
DE19813130436 DE3130436A1 (de) 1981-08-01 1981-08-01 Neue fluormethylthiobenzoylfluoride und verfahren zu ihrer herstellung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5826866A JPS5826866A (ja) 1983-02-17
JPH0328422B2 true JPH0328422B2 (ja) 1991-04-19

Family

ID=6138308

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57132280A Granted JPS5826866A (ja) 1981-08-01 1982-07-30 フルオルメチルチオベンゾイルフルオライドの製法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4590016A (ja)
EP (1) EP0071790B1 (ja)
JP (1) JPS5826866A (ja)
DE (2) DE3130436A1 (ja)

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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Also Published As

Publication number Publication date
JPS5826866A (ja) 1983-02-17
US4590016A (en) 1986-05-20
DE3130436A1 (de) 1983-02-17
EP0071790B1 (de) 1985-04-24
EP0071790A1 (de) 1983-02-16
DE3263262D1 (en) 1985-05-30

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