JPH03279349A - 不飽和ジエステルの製造方法 - Google Patents
不飽和ジエステルの製造方法Info
- Publication number
- JPH03279349A JPH03279349A JP2077213A JP7721390A JPH03279349A JP H03279349 A JPH03279349 A JP H03279349A JP 2077213 A JP2077213 A JP 2077213A JP 7721390 A JP7721390 A JP 7721390A JP H03279349 A JPH03279349 A JP H03279349A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- reaction
- palladium
- acid
- carboxylic acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 title claims abstract description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 78
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 74
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 36
- -1 alkali metal carboxylate Chemical class 0.000 claims abstract description 35
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 19
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 125000001309 chloro group Chemical class Cl* 0.000 claims abstract description 5
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Natural products C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 35
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 19
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 16
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 abstract description 16
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 16
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 16
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 abstract description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 5
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 65
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 13
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 11
- MWWXARALRVYLAE-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxybut-3-enyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC(C=C)OC(C)=O MWWXARALRVYLAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 238000006137 acetoxylation reaction Methods 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- ZOAIGCHJWKDIPJ-UHFFFAOYSA-M caesium acetate Chemical compound [Cs+].CC([O-])=O ZOAIGCHJWKDIPJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M caesium chloride Chemical compound [Cl-].[Cs+] AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 4
- 150000001804 chlorine Chemical class 0.000 description 4
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 4
- JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N dichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)Cl JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 description 3
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 3
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001463 antimony compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O azanium;oxido(dioxo)vanadium Chemical compound [NH4+].[O-][V](=O)=O UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960005215 dichloroacetic acid Drugs 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N fluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)CF QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 2
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000004045 organic chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 2
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003682 vanadium compounds Chemical class 0.000 description 2
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical group C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- GAWAYYRQGQZKCR-REOHCLBHSA-N (S)-2-chloropropanoic acid Chemical compound C[C@H](Cl)C(O)=O GAWAYYRQGQZKCR-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N Caprylic acid Natural products CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910001514 alkali metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N benzyl(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- ZMVAWNCSXGFEDX-UHFFFAOYSA-N methane hydrobromide Chemical compound Br.C[H] ZMVAWNCSXGFEDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKAUVIXBZJUYRV-UHFFFAOYSA-N methane;hydroiodide Chemical compound C.I PKAUVIXBZJUYRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N n-hexanoic acid Natural products CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 description 1
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) nitrate Chemical compound [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、不飽和ジエステルの製造方法に関し、詳しく
は、共役ジエンのカルボン酸による酸化的アシルオキシ
化反応による不飽和ジエステル(不飽和ジオールのカル
ボン醜ジエステル)の製造方法に関する。
は、共役ジエンのカルボン酸による酸化的アシルオキシ
化反応による不飽和ジエステル(不飽和ジオールのカル
ボン醜ジエステル)の製造方法に関する。
[従来の技術と発明か解決しようとする課題]従来から
、エチレン、プロピレン等のオレフィンや、ブタジェン
等の共役ジエンと酢酸(一般にはカルボン酸)と酸素と
を、バナジウムおよび助触媒成分を含有する触媒を用い
て酸化的にアセトキシ化(一般式にはアシルオキシ化)
し、不飽和エステルや不飽和ジエステルを合成する方法
か知られている。
、エチレン、プロピレン等のオレフィンや、ブタジェン
等の共役ジエンと酢酸(一般にはカルボン酸)と酸素と
を、バナジウムおよび助触媒成分を含有する触媒を用い
て酸化的にアセトキシ化(一般式にはアシルオキシ化)
し、不飽和エステルや不飽和ジエステルを合成する方法
か知られている。
このうち、エチレン、プロピレンの酸化的アセトキシ化
反応は、パラジウムを含有する固定床触媒下の気相反応
方式にて工業的に実施されている。これに関連した技術
として、たとえば、特公昭60−15609号公報に記
載されているところの、パラジウム、カドミウム、マン
ガンおよびカリウムそれぞれの酢酸塩を含有する固定床
触媒の存在下て、エチレン、酢酸および酸素の気相反応
により酢酸ビニルを製造する方法や特開昭60−327
47号公報に記載されているところの、パラジウムを含
有する固定床触媒(5m mφ)の存在下で、プロピレ
ン、酢酸および酸素の反応により酢酸アリルを製造する
方法などがある。
反応は、パラジウムを含有する固定床触媒下の気相反応
方式にて工業的に実施されている。これに関連した技術
として、たとえば、特公昭60−15609号公報に記
載されているところの、パラジウム、カドミウム、マン
ガンおよびカリウムそれぞれの酢酸塩を含有する固定床
触媒の存在下て、エチレン、酢酸および酸素の気相反応
により酢酸ビニルを製造する方法や特開昭60−327
47号公報に記載されているところの、パラジウムを含
有する固定床触媒(5m mφ)の存在下で、プロピレ
ン、酢酸および酸素の反応により酢酸アリルを製造する
方法などがある。
一方、ブタジェンの酸化的アセトキシ化反応によるジア
セトキシブテンの製造は、パラジウムを含有する触媒の
存在下の液相反応方式にて工業的に実施されてはいるか
、気相反応方式では未だ工業的実施に至っていない。
セトキシブテンの製造は、パラジウムを含有する触媒の
存在下の液相反応方式にて工業的に実施されてはいるか
、気相反応方式では未だ工業的実施に至っていない。
これは、気相下てのブタジェンからのジアセトキシブテ
ンの生成反応においては、ハルツ状物質の生成か激しく
て、触媒活性が著しく低下するという深刻な問題かあり
、エチレンやプロピレンの酸化的アセトキシ化反応に比
べてはるかに困難を伴うかうである。
ンの生成反応においては、ハルツ状物質の生成か激しく
て、触媒活性が著しく低下するという深刻な問題かあり
、エチレンやプロピレンの酸化的アセトキシ化反応に比
べてはるかに困難を伴うかうである。
このブタジェンの酸化的アセトキシ化反応に関する技術
としては、パラジウム、アンチモン、バナジウム、アル
カリ金属のカルボン酸塩およびアルカリ金属のハロゲン
化物を含有する固定床触媒(4〜6 m mφ)の存在
下で、ブタジェンと酢酸と酸素との気相反応によりジア
セトキシブテンを生成する方法(特公昭53−1549
0号公報)かある。
としては、パラジウム、アンチモン、バナジウム、アル
カリ金属のカルボン酸塩およびアルカリ金属のハロゲン
化物を含有する固定床触媒(4〜6 m mφ)の存在
下で、ブタジェンと酢酸と酸素との気相反応によりジア
セトキシブテンを生成する方法(特公昭53−1549
0号公報)かある。
この従来技術ては、担体上に主触媒成分のパラジウムと
助触媒成分のアンチモンおよびバナジウムとを担持し、
さらに活性促進成分としてアルカリ金属のカルボン酸塩
とアルカリ金属のハロゲン化物とを担持しているのて、
それなりに触媒寿命か改善されてはおり、また、目的と
するジアセトキシブテンの選択率も向上してはいる。
助触媒成分のアンチモンおよびバナジウムとを担持し、
さらに活性促進成分としてアルカリ金属のカルボン酸塩
とアルカリ金属のハロゲン化物とを担持しているのて、
それなりに触媒寿命か改善されてはおり、また、目的と
するジアセトキシブテンの選択率も向上してはいる。
しかしながら、この従来の触媒組成の調製によって寿命
や選択性等を改善した触媒においても、長時間の反応を
行うと触媒活性か加速的に低下するという問題かあり、
これが工業化の上で重大な障害となっていた。
や選択性等を改善した触媒においても、長時間の反応を
行うと触媒活性か加速的に低下するという問題かあり、
これが工業化の上で重大な障害となっていた。
そこで、本発明者らは、この活性低下の原因について種
々検討を試み、その−環として、前記従来の触媒が比較
的高活性を保持するのは、添加したアルカリ金属のハロ
ゲン化物、特に塩素成分等のハロゲン成分か寄与してい
るためと推定し、長時間の反応におけるアルカリ金属の
ハロゲン化物の挙動と活性低下の関係について詳細に調
べた。
々検討を試み、その−環として、前記従来の触媒が比較
的高活性を保持するのは、添加したアルカリ金属のハロ
ゲン化物、特に塩素成分等のハロゲン成分か寄与してい
るためと推定し、長時間の反応におけるアルカリ金属の
ハロゲン化物の挙動と活性低下の関係について詳細に調
べた。
その結果、担持した触媒中のアルカリ金属のハロゲン化
物は、反応雰囲気中において酢酸(一般にはカルボン酸
)の蒸気に長時間さらされることにより、そのハロゲン
イオンか次第に酢酸イオン(一般にはカルボン酸イオン
)に置換され、ハロゲンイオンか触媒から消失すること
か判明した。
物は、反応雰囲気中において酢酸(一般にはカルボン酸
)の蒸気に長時間さらされることにより、そのハロゲン
イオンか次第に酢酸イオン(一般にはカルボン酸イオン
)に置換され、ハロゲンイオンか触媒から消失すること
か判明した。
たとえば、触媒に担持した塩化セシウムは、ブタジェン
の酸化的アセトキシ化反応における400時間の反応に
よって、その75%か酢酸セシウムに転化することか分
かった。また、これによる塩素イオン等のハロゲンイオ
ンの触媒からの消失に従うて、ジアセトキシブテン等の
不飽和ジエステルの空時収率の低下か加速され、同時に
その選択率も低下するという重要な事実を見出した。
の酸化的アセトキシ化反応における400時間の反応に
よって、その75%か酢酸セシウムに転化することか分
かった。また、これによる塩素イオン等のハロゲンイオ
ンの触媒からの消失に従うて、ジアセトキシブテン等の
不飽和ジエステルの空時収率の低下か加速され、同時に
その選択率も低下するという重要な事実を見出した。
このことは、塩素イオン等のハロゲンイオンか触媒活性
および選択性の保持に重要な役割を演していることを示
唆する。したかって、反応中に触媒系から消失する塩素
成分等のハロゲン成分を何らかの方法によって補うこと
かてきれば、高い触媒活性および選択性を安定に保ち、
より一層長期間の連続運転か可能になるものと予想され
る。
および選択性の保持に重要な役割を演していることを示
唆する。したかって、反応中に触媒系から消失する塩素
成分等のハロゲン成分を何らかの方法によって補うこと
かてきれば、高い触媒活性および選択性を安定に保ち、
より一層長期間の連続運転か可能になるものと予想され
る。
このハロゲンの補給手段として反応中にハロゲン化合物
を添加する方法か考えられる。
を添加する方法か考えられる。
ところて、これに関連した技術として、特公昭60−1
5609号公報には、オレフィンの酢酸による酸化的ア
セトキシ化反応において、クロロ酢酸、四塩化炭素とい
った有機塩素化合物を酢酸に対して1〜100重量pp
mの割合で添加して反応を行うことにより、オレフィン
の燃焼率を低下させ、触媒系の寿命を延長することので
きることか記載されている。
5609号公報には、オレフィンの酢酸による酸化的ア
セトキシ化反応において、クロロ酢酸、四塩化炭素とい
った有機塩素化合物を酢酸に対して1〜100重量pp
mの割合で添加して反応を行うことにより、オレフィン
の燃焼率を低下させ、触媒系の寿命を延長することので
きることか記載されている。
そこて、本発明者らは、パラジウム、バナジウム、アン
チモン、アルカリ金属の酢酸塩およびアルカリ金属の塩
化物を含有する担持型パラジウム系触媒の存在下て、ブ
タジェン、酢酸および酸素を気相流通法にて反応させて
ジアセトキシブテンを製造するに際し、触媒性能の向上
と触媒寿命の延長を目標に、原料酢酸にクロロ酢酸、四
塩化炭素等の有機ハロゲン化合物を添加して前記反応な
行った。ところか、この有機ハロゲン化合物を添加した
反応を粒子径3 m mφの触媒を充填した固定床反応
方式にて行った場合には、前記予想に反して触媒活性の
低下速度は速く、所期の目標を達成することがてきなか
った。
チモン、アルカリ金属の酢酸塩およびアルカリ金属の塩
化物を含有する担持型パラジウム系触媒の存在下て、ブ
タジェン、酢酸および酸素を気相流通法にて反応させて
ジアセトキシブテンを製造するに際し、触媒性能の向上
と触媒寿命の延長を目標に、原料酢酸にクロロ酢酸、四
塩化炭素等の有機ハロゲン化合物を添加して前記反応な
行った。ところか、この有機ハロゲン化合物を添加した
反応を粒子径3 m mφの触媒を充填した固定床反応
方式にて行った場合には、前記予想に反して触媒活性の
低下速度は速く、所期の目標を達成することがてきなか
った。
この結果は、少なくともブタジェンの酸化的アセトオキ
シ化反応においては、相持型パラジウム系触媒の寿命を
十分に延長するには、有機ハロゲン化合物の添加量が不
十分であるか、あるいは単に有機ハロゲン化合物を反応
系に添加するというたけでは不十分であることを示すも
のである。
シ化反応においては、相持型パラジウム系触媒の寿命を
十分に延長するには、有機ハロゲン化合物の添加量が不
十分であるか、あるいは単に有機ハロゲン化合物を反応
系に添加するというたけでは不十分であることを示すも
のである。
本発明は、前記事情に鑑みてなされたものである。
本発明の目的は、前記問題点を解決し、共役ジエンとカ
ルボン酸と酸素とを含有する混合ガスを、担持型パラジ
ウム系触媒の存在下て気相反応法にて反応させて不飽和
ジエステルを製造するにあたり、触媒寿命を十分に延長
し、触媒性能(活性および選択性)を安定に保持して長
期間の連続運転により生産性よく不飽和ジエステルを製
造することを容易に実現することかてきる改善された不
飽和ジエステルの製造方法を提供することにある。
ルボン酸と酸素とを含有する混合ガスを、担持型パラジ
ウム系触媒の存在下て気相反応法にて反応させて不飽和
ジエステルを製造するにあたり、触媒寿命を十分に延長
し、触媒性能(活性および選択性)を安定に保持して長
期間の連続運転により生産性よく不飽和ジエステルを製
造することを容易に実現することかてきる改善された不
飽和ジエステルの製造方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた
結果、前記したように、ブタジェン等の共役ジエンの酸
化的アシルオキシ化反応に3いては、担持型パラジウム
系触媒の寿命を十分に延長するには、単に有機ハロゲン
化合物を反応系に添加するというたけては不十分てあり
、添加した有機ハロゲン化合物を触媒系に対して有効に
作用させるための何らかの工夫を要するという考えに至
った。
結果、前記したように、ブタジェン等の共役ジエンの酸
化的アシルオキシ化反応に3いては、担持型パラジウム
系触媒の寿命を十分に延長するには、単に有機ハロゲン
化合物を反応系に添加するというたけては不十分てあり
、添加した有機ハロゲン化合物を触媒系に対して有効に
作用させるための何らかの工夫を要するという考えに至
った。
この考えに基づき、本発明者らは、主として触媒の粒子
径を考慮した反応方式、反応系に添加する有機ハロゲン
化合物の種類や添加量等の触媒性能に及ぼす影響につい
て種々検討を行なった。
径を考慮した反応方式、反応系に添加する有機ハロゲン
化合物の種類や添加量等の触媒性能に及ぼす影響につい
て種々検討を行なった。
その結果、特定の相持型パラジウム系触媒を粉末状とし
て用い、これを反応ガスて流動化させる流動床反応方式
により、特定量の有機ハロゲン化合−を反応系に添加し
つつ共役ジエンとカルボン酸と酸素との反応を行って不
飽和ジエステルを合成するという特定の方法を用いるこ
とにより、不飽和ジエステルの生成を長期に亙って高く
維持することかてきることを見出し、この知見に基づい
て本発明を完成するに至った。
て用い、これを反応ガスて流動化させる流動床反応方式
により、特定量の有機ハロゲン化合−を反応系に添加し
つつ共役ジエンとカルボン酸と酸素との反応を行って不
飽和ジエステルを合成するという特定の方法を用いるこ
とにより、不飽和ジエステルの生成を長期に亙って高く
維持することかてきることを見出し、この知見に基づい
て本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、パラジウム、アンチモン、バナジ
ウム、アルカリ金属のカルボン酸塩およびアルカリ金属
のハロゲン化物を含有する触媒を保有する流動床にて、
共役ジエン、カルボン酸、酸素および前記カルボン酸に
対して100〜700重量ppm量の有機ハロゲン化合
物を含有する混合ガスを反応させることを特徴とする不
飽和ジエステルの製造方法である。
ウム、アルカリ金属のカルボン酸塩およびアルカリ金属
のハロゲン化物を含有する触媒を保有する流動床にて、
共役ジエン、カルボン酸、酸素および前記カルボン酸に
対して100〜700重量ppm量の有機ハロゲン化合
物を含有する混合ガスを反応させることを特徴とする不
飽和ジエステルの製造方法である。
本発明において使用する前記触媒は、前記特定の成分す
なわち、パラジウム、アンチモン、バナジウム、アルカ
リ金属のカルボン酸塩およびアルカリ金属のハロゲン化
物を含有するものてあり、流動床に適用することのてき
るものであれば、公知の各種の触媒を適宜に使用するこ
とかてきる。
なわち、パラジウム、アンチモン、バナジウム、アルカ
リ金属のカルボン酸塩およびアルカリ金属のハロゲン化
物を含有するものてあり、流動床に適用することのてき
るものであれば、公知の各種の触媒を適宜に使用するこ
とかてきる。
本発明においては、通常、前記所定の成分を適当な担体
に担持した担持型パラジウム系触媒か使用される。
に担持した担持型パラジウム系触媒か使用される。
使用する触媒の粒子径としては、流動床反応方式に適用
可能てあれば特に制限かなく、好ましくは20〜500
gm、さらに好ましくは30〜200uLm程度の範囲
内に調整される。
可能てあれば特に制限かなく、好ましくは20〜500
gm、さらに好ましくは30〜200uLm程度の範囲
内に調整される。
本発明の方法において使用する前記相持型パラジウム系
触媒の担体としては、通常、触媒の担体もしくはその前
駆体として使用されるのてあればどのようなものても使
用可能である。たとえば、シリカ、アルミナ、シリカア
ルミナ、チタニア、ジルコニア、マグネシア、ゼオライ
ト等の酸化物系担体、活性炭などが代表的な例として挙
げられる。中ても、特にシリカなどが好ましい。
触媒の担体としては、通常、触媒の担体もしくはその前
駆体として使用されるのてあればどのようなものても使
用可能である。たとえば、シリカ、アルミナ、シリカア
ルミナ、チタニア、ジルコニア、マグネシア、ゼオライ
ト等の酸化物系担体、活性炭などが代表的な例として挙
げられる。中ても、特にシリカなどが好ましい。
なお、これらの担体は、一種単独で用いてもよいし、必
要に応じて二種以上を混合物または複合物等として併用
してもよい。
要に応じて二種以上を混合物または複合物等として併用
してもよい。
前記触媒(通常、相持型パラジウム系触媒)におけるパ
ラジウムの含有濃度(担持率)としては、反応ガスの組
成や反応条件あるいはプロセス等の種々の条件や目的に
応して広範囲に変化させることかできるか、一般には、
担体100重量部に対して、パラジウム成分か0.1〜
10重量部、好ましくは0.5〜5重量部の範囲に設定
するのか好ましい。
ラジウムの含有濃度(担持率)としては、反応ガスの組
成や反応条件あるいはプロセス等の種々の条件や目的に
応して広範囲に変化させることかできるか、一般には、
担体100重量部に対して、パラジウム成分か0.1〜
10重量部、好ましくは0.5〜5重量部の範囲に設定
するのか好ましい。
このパラジウムの相持率か、上記の計算方法によって0
.1重量部未満では、反応は進行するか、本発明のプロ
セスにおいて、触媒あたりの活性か十分に得られないこ
とがあり、一方、10重量部を越えるとパラジウムの分
散度か低下し、使用されるパラジウムか触媒活性に有効
に反映されにくくなり、触媒コストか増加することある
。
.1重量部未満では、反応は進行するか、本発明のプロ
セスにおいて、触媒あたりの活性か十分に得られないこ
とがあり、一方、10重量部を越えるとパラジウムの分
散度か低下し、使用されるパラジウムか触媒活性に有効
に反映されにくくなり、触媒コストか増加することある
。
前記触媒に含有させるアンチモン成分およびバナジウム
成分の含有率は、原子比[(Sb/Pd)および(V/
Pd) ]で表して、それぞれ、好ましくは0.01〜
20、さらに好ましくは0.1〜10の範囲にするのが
適当である。
成分の含有率は、原子比[(Sb/Pd)および(V/
Pd) ]で表して、それぞれ、好ましくは0.01〜
20、さらに好ましくは0.1〜10の範囲にするのが
適当である。
前記触媒中に含有されるアルカリ金属のカルボン酸塩お
よびアルカリ金属のハロゲン化物の含有濃度としては、
使用する担体1gに対して、それぞれ0.1〜J m
m o文、好ましくは0.5〜2m m o nの範囲
にするのか適当である。
よびアルカリ金属のハロゲン化物の含有濃度としては、
使用する担体1gに対して、それぞれ0.1〜J m
m o文、好ましくは0.5〜2m m o nの範囲
にするのか適当である。
前記触媒は、その調製方法としては特に制限はなく、公
知の方法など各種の方法によって調製可能である。たと
えば、前記所定の粒径のシリカ等の担体に、適当なパラ
ジウム化合物、アンチモン化合物およびバナジウム化合
物等を所定量含有する塩酸等のハロゲン化水素水溶液、
硝酸水溶液、有機溶剤あるいは酒石酸等の有機酸水溶液
等の溶液含浸法等の湿式担持法によって担持し、適宜に
乾燥し、焼成し、還元した後、前記アルカリ金属のカル
ボン酸塩およびアルカリ金属のハロゲン化物を水溶液か
らの含浸法等により担持する方法などが挙げられる。ま
た、特に好ましい調製方法として、たとえば、所定量の
適当なパラジウム化合物、アンチモン化合物およびバナ
ジウム化合物あるいはこれらと所望に応じて用いる他の
触媒成分である金属化合物からなる金属成分を、0.1
〜J0重量%のハロゲン化水素を含む酒石酸水溶液で溶
解し、その溶液に所定の担体を浸漬した後、溶媒を蒸発
により除き、該パラジウム等の金属成分を該担体に担持
し、次いて必要に応じて乾燥し、焼成し、しかる後に水
素等の還元性ガスもしくは十分な還元力を有する有機化
合物の気流中て還元するか、あるいはヒドラジン、ホル
ムアルデヒド等の還元剤を用いるなどして還元処理を施
し、その後、所定量のアルカリ金属のカルボン酸塩およ
びアルカリ金属のハロゲン化物の添加成分な担持する方
法などを挙げることかてきる。
知の方法など各種の方法によって調製可能である。たと
えば、前記所定の粒径のシリカ等の担体に、適当なパラ
ジウム化合物、アンチモン化合物およびバナジウム化合
物等を所定量含有する塩酸等のハロゲン化水素水溶液、
硝酸水溶液、有機溶剤あるいは酒石酸等の有機酸水溶液
等の溶液含浸法等の湿式担持法によって担持し、適宜に
乾燥し、焼成し、還元した後、前記アルカリ金属のカル
ボン酸塩およびアルカリ金属のハロゲン化物を水溶液か
らの含浸法等により担持する方法などが挙げられる。ま
た、特に好ましい調製方法として、たとえば、所定量の
適当なパラジウム化合物、アンチモン化合物およびバナ
ジウム化合物あるいはこれらと所望に応じて用いる他の
触媒成分である金属化合物からなる金属成分を、0.1
〜J0重量%のハロゲン化水素を含む酒石酸水溶液で溶
解し、その溶液に所定の担体を浸漬した後、溶媒を蒸発
により除き、該パラジウム等の金属成分を該担体に担持
し、次いて必要に応じて乾燥し、焼成し、しかる後に水
素等の還元性ガスもしくは十分な還元力を有する有機化
合物の気流中て還元するか、あるいはヒドラジン、ホル
ムアルデヒド等の還元剤を用いるなどして還元処理を施
し、その後、所定量のアルカリ金属のカルボン酸塩およ
びアルカリ金属のハロゲン化物の添加成分な担持する方
法などを挙げることかてきる。
上記の方法による調製法は、通常、好適に利用される方
法の例てあり、勿論、種々の変形か可能である。
法の例てあり、勿論、種々の変形か可能である。
前記触媒の調製のために使用されるパラジウム化合物と
しては、特に限定されるものてはないか、たとえば、塩
化パラジウム、塩化パラジウム酸あるいはそれらの塩等
のハロゲン化パラジウム類、硝酸パラジウム、硫酸パラ
ジウム、有機酸パラジウム、各種のパラジウム錯体など
を一種単独て用いてもよいし、二種以上を混合物等とし
て併用してもよい。
しては、特に限定されるものてはないか、たとえば、塩
化パラジウム、塩化パラジウム酸あるいはそれらの塩等
のハロゲン化パラジウム類、硝酸パラジウム、硫酸パラ
ジウム、有機酸パラジウム、各種のパラジウム錯体など
を一種単独て用いてもよいし、二種以上を混合物等とし
て併用してもよい。
また、前記アンチモンおよびバナジウムは、各種の化合
物、たとえば、ハロゲン化物、無機酸塩、有機酸塩、酸
化物、水酸化物など、あるいはこれらの混合物もしくは
複合化合物等として担持可能であるか、アンチモンにつ
いては、通常、三酸化アンチモンか、バナジウムについ
ては、通常、メタバナジン酸アンモニウムか特に好適に
使用される。
物、たとえば、ハロゲン化物、無機酸塩、有機酸塩、酸
化物、水酸化物など、あるいはこれらの混合物もしくは
複合化合物等として担持可能であるか、アンチモンにつ
いては、通常、三酸化アンチモンか、バナジウムについ
ては、通常、メタバナジン酸アンモニウムか特に好適に
使用される。
なお、本発明の方法において使用する前記触媒には、パ
ラジウム、アンチモンおよびバナジウムのほかに、必要
に応じてさらに他の助触媒成分等の任意成分を含有させ
ることもできる。
ラジウム、アンチモンおよびバナジウムのほかに、必要
に応じてさらに他の助触媒成分等の任意成分を含有させ
ることもできる。
前記アルカリ金属のカルボン酸塩としては、アルカリ金
属(リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウムまた
はセシウム)のカルボン酸塩(脂肪族カルボン酸塩、芳
香族カルボン酸塩、脂環式カルボン酸塩等)てあれば特
に制限はないが、通常は、酢酸セシウム等の前記各種の
アルカリ土属の酢酸塩か好適に使用される。
属(リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウムまた
はセシウム)のカルボン酸塩(脂肪族カルボン酸塩、芳
香族カルボン酸塩、脂環式カルボン酸塩等)てあれば特
に制限はないが、通常は、酢酸セシウム等の前記各種の
アルカリ土属の酢酸塩か好適に使用される。
なお、これらは一種単独て使用してもよく、二種以上を
併用してもよい。
併用してもよい。
前記アルカリ金属のハロゲン化物としては、リチウム、
ナトリウム、カリウム、ルビジウムまたはセシウムのフ
ッ化物、塩化物、臭化物またはヨウ化物を挙げることか
てきる。これらの中でも、通常は、塩化セシウム等の前
記各種アルカリ金属の塩化物か好適に使用することがて
きる。
ナトリウム、カリウム、ルビジウムまたはセシウムのフ
ッ化物、塩化物、臭化物またはヨウ化物を挙げることか
てきる。これらの中でも、通常は、塩化セシウム等の前
記各種アルカリ金属の塩化物か好適に使用することがて
きる。
なお、これらは、所望に応じて、一種単独で用いてもよ
いし、二種以上を併用してもよい。
いし、二種以上を併用してもよい。
本発明の方法において使用する前記触媒の調製には前記
したように種々の方法によることがてきるか、好ましい
調製方法の例をより具体的に示すと以下のとおりである
。
したように種々の方法によることがてきるか、好ましい
調製方法の例をより具体的に示すと以下のとおりである
。
すなわち、たとえば、塩化パラジウム、酸化アンチモン
およびメタバナジン酸アンモニウムを酒石酸と塩化水素
との混合水溶液に溶解し、この混合水溶液に球状のシリ
カ粉末を加えて、該溶液を該担体に含浸させ、溶媒を蒸
発させて固液混合物を乾固することによって、パラジウ
ム、アンチモンおよびバナジウム各化合物な担体上に担
持させる。この担持物を、適宜に乾燥した後、空気等の
酸素含有ガス中て適宜に焼成し、次いて水素含有ガス中
て還元処理して、担持成分を金属パラジウム、酸化アン
チモンおよび酸化バナジウムに転化することにより金属
成分担持シリカを得る。さらに、所定量の酢酸セシウム
と塩化セシウムとを含有する混合水溶液にこの金属成分
担持シリカを加えて、これらのセシウム化合物を含浸し
た後に、水分を蒸発乾固することにより目的とする触媒
(担持型パラジウム系触媒)か得られる。
およびメタバナジン酸アンモニウムを酒石酸と塩化水素
との混合水溶液に溶解し、この混合水溶液に球状のシリ
カ粉末を加えて、該溶液を該担体に含浸させ、溶媒を蒸
発させて固液混合物を乾固することによって、パラジウ
ム、アンチモンおよびバナジウム各化合物な担体上に担
持させる。この担持物を、適宜に乾燥した後、空気等の
酸素含有ガス中て適宜に焼成し、次いて水素含有ガス中
て還元処理して、担持成分を金属パラジウム、酸化アン
チモンおよび酸化バナジウムに転化することにより金属
成分担持シリカを得る。さらに、所定量の酢酸セシウム
と塩化セシウムとを含有する混合水溶液にこの金属成分
担持シリカを加えて、これらのセシウム化合物を含浸し
た後に、水分を蒸発乾固することにより目的とする触媒
(担持型パラジウム系触媒)か得られる。
なお、好ましい触媒組成の一例として、パラジウム、ア
ンチモン、バナジウム、酢酸セシウムおよび塩化セシウ
ムの含有率か、触媒IJ1当たり、それぞれ、20.4
6.10.60および60gであるものを挙げることか
てきる。
ンチモン、バナジウム、酢酸セシウムおよび塩化セシウ
ムの含有率か、触媒IJ1当たり、それぞれ、20.4
6.10.60および60gであるものを挙げることか
てきる。
本発明の方法において、反応原料として使用する前記共
役ジエンとしては、各種の化合物か使用可能であり、通
常は、炭素数6以下の共役ジエン、たとえば、ツタジエ
ン、イソプレン、ピペリレン、2.3−ジメチルブタジ
ェン、シクロペンタジェン等か好適に使用され、特に、
ブタジェンやイソプレンか好ましい。
役ジエンとしては、各種の化合物か使用可能であり、通
常は、炭素数6以下の共役ジエン、たとえば、ツタジエ
ン、イソプレン、ピペリレン、2.3−ジメチルブタジ
ェン、シクロペンタジェン等か好適に使用され、特に、
ブタジェンやイソプレンか好ましい。
なお、これらは一種単独て使用してもよく、二種以上を
併用してもよい。
併用してもよい。
また、前記共役ジエンと反応させる前記カルボン酸とし
ては、通常この分野て使用される任意のカルボン酸を使
用することができる。具体的には、たとえば、酢酸、プ
ロピオン酸、醋酸、イソ醋酸、ペンタン酸、ヘキサン酸
等の脂肪族カルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸等の
脂環式カルボン酸、安息香酸等の芳香族カルボン酸など
を挙げることができる。これらの中ても、特に酢酸か好
ましい。
ては、通常この分野て使用される任意のカルボン酸を使
用することができる。具体的には、たとえば、酢酸、プ
ロピオン酸、醋酸、イソ醋酸、ペンタン酸、ヘキサン酸
等の脂肪族カルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸等の
脂環式カルボン酸、安息香酸等の芳香族カルボン酸など
を挙げることができる。これらの中ても、特に酢酸か好
ましい。
なお、これらは一種単独て使用してもよく、二種以上を
併用してもよい。
併用してもよい。
前記反応に供する酸素は、反応系に純酸素として供給し
てもよく、あるいは空気等の混合ガスとして供給しても
よい。
てもよく、あるいは空気等の混合ガスとして供給しても
よい。
本発明の方法において、重要な点の一つは、前記共役ジ
エンとカルボン酸と酸素との反応を行うに際して、反応
ガス中に前記特定の割合の有機ハロゲン化合物を含有さ
せて反応を行い、しかもこの反応を前記触媒の流動状態
すなわち流動床方式%式% この反応ガス中に含有させる前記有機ハロゲン化合物の
割合は、反応系に供給する前記カルボン酸に対して、1
00〜700重量ppmの範囲にするのか重要てあり、
特に、150〜400重量ppmの範囲にするのか好ま
しい。
エンとカルボン酸と酸素との反応を行うに際して、反応
ガス中に前記特定の割合の有機ハロゲン化合物を含有さ
せて反応を行い、しかもこの反応を前記触媒の流動状態
すなわち流動床方式%式% この反応ガス中に含有させる前記有機ハロゲン化合物の
割合は、反応系に供給する前記カルボン酸に対して、1
00〜700重量ppmの範囲にするのか重要てあり、
特に、150〜400重量ppmの範囲にするのか好ま
しい。
この有機ハロゲン化合物のカルボン酸に対する割合か、
100重量ppm未満では、おそらく触媒反応系におけ
るハロゲン元素か不足するという理由によって、ジアセ
トキシブテン等の不飽和ジエステル生成に対する十分な
触媒活性の持続期間か短くなり、本発明の目的を達成す
ることがてきない。一方、その割合か700重量ppm
を超えると、おそらく触媒反応系における塩素原子か過
剰になるという理由によって、やはり触媒活性の持続期
間か短くなり、本発明の目的を達成することかてきない
。
100重量ppm未満では、おそらく触媒反応系におけ
るハロゲン元素か不足するという理由によって、ジアセ
トキシブテン等の不飽和ジエステル生成に対する十分な
触媒活性の持続期間か短くなり、本発明の目的を達成す
ることがてきない。一方、その割合か700重量ppm
を超えると、おそらく触媒反応系における塩素原子か過
剰になるという理由によって、やはり触媒活性の持続期
間か短くなり、本発明の目的を達成することかてきない
。
この反応系に添加する前記有機ハロゲン化合物としては
、各種のものか使用可能であるか、フルオロ酢酸、クロ
ロ酢酸、臭化酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、ク
ロロプロピオン酸、クロロ醋酸などのカルボン酸のハロ
ゲン誘導体およびそれらのエステル類、フッ化メタン、
クロロメタン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、臭化メタン、ヨウ化メタンなどのメタンのハロゲン
誘導体などが挙げられる。
、各種のものか使用可能であるか、フルオロ酢酸、クロ
ロ酢酸、臭化酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、ク
ロロプロピオン酸、クロロ醋酸などのカルボン酸のハロ
ゲン誘導体およびそれらのエステル類、フッ化メタン、
クロロメタン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、臭化メタン、ヨウ化メタンなどのメタンのハロゲン
誘導体などが挙げられる。
このカルボン酸のハロゲン誘導体としては、モノクロロ
酢酸、ジクロロ酢酸およびトリクロロ酢酸等の塩素誘導
体が好ましい。
酢酸、ジクロロ酢酸およびトリクロロ酢酸等の塩素誘導
体が好ましい。
前記メタンのハロゲン誘導体としては、四塩化炭素等の
塩素誘導体を好適に使用することがてきる。
塩素誘導体を好適に使用することがてきる。
前記例示の有機ハロゲン化合物の中でも特に好ましいも
のとして、モノクロロ酢酸を挙げることかてきる。
のとして、モノクロロ酢酸を挙げることかてきる。
なお、これらの有機ハロゲン化合物は、一種単独て用い
てもよいし、必要に応じて二種以上を併用してもよい。
てもよいし、必要に応じて二種以上を併用してもよい。
前記反応に供する反応ガス中における前記共役ジエン、
カルボン酸および酸素のそれぞれの濃度は、特に限定さ
れるものてはないが、通常、ブタジェン等の共役ジエン
の濃度を5〜30容量%、酢酸等のカルボン酸の濃度を
5〜50容量%とし、かつ酸素の濃度を反応ガスか爆発
範囲とならない範囲てl〜50容量%の範囲に設定する
のか適当てあり、特に、ジアセトキシブテン等の不飽和
ジエステルの選択率の観点より、それぞれの濃度を、7
〜20容量%、15〜35容量%および2〜12容量%
の範囲に設定するのが好ましい。
カルボン酸および酸素のそれぞれの濃度は、特に限定さ
れるものてはないが、通常、ブタジェン等の共役ジエン
の濃度を5〜30容量%、酢酸等のカルボン酸の濃度を
5〜50容量%とし、かつ酸素の濃度を反応ガスか爆発
範囲とならない範囲てl〜50容量%の範囲に設定する
のか適当てあり、特に、ジアセトキシブテン等の不飽和
ジエステルの選択率の観点より、それぞれの濃度を、7
〜20容量%、15〜35容量%および2〜12容量%
の範囲に設定するのが好ましい。
なお、前記反応は、たとえば、窒素、アルゴン、二酸化
炭素等の反応に支障のない不活性ガス等の他の成分の存
在下で行うこともてきる。
炭素等の反応に支障のない不活性ガス等の他の成分の存
在下で行うこともてきる。
前記反応を行うに際しての反応ガスの供給速度は、触媒
組成1反応物の組成や反応条件などの他の条件や目標に
する生成物の収率等により適宜に選定すればよいのであ
るか、単位触媒1fLに対して、100〜10.000
41 / hrの範囲に設定するのか好ましく、特に5
00〜s、ooo又/hrの範囲に設定するのか好まし
い。
組成1反応物の組成や反応条件などの他の条件や目標に
する生成物の収率等により適宜に選定すればよいのであ
るか、単位触媒1fLに対して、100〜10.000
41 / hrの範囲に設定するのか好ましく、特に5
00〜s、ooo又/hrの範囲に設定するのか好まし
い。
反応温度は、特に限定されるものてはないか、通常、1
40〜210°Cの範囲にするのか好適てあり、特に、
ジアセトキシブテン等の不飽和ジエステルの選択率の点
より、175〜195°Cの範囲に設定するのが好まし
い。
40〜210°Cの範囲にするのか好適てあり、特に、
ジアセトキシブテン等の不飽和ジエステルの選択率の点
より、175〜195°Cの範囲に設定するのが好まし
い。
反応圧力も特に限定されるものではなく、前記反応は、
減圧、常圧あるいは加圧のいずれて行ってもよいが、一
般には常圧または加圧状態で行われる。
減圧、常圧あるいは加圧のいずれて行ってもよいが、一
般には常圧または加圧状態で行われる。
以上のようにして、共役ジエンのカルボン酸による酸化
的アシルオキシ化反応によって不飽和ジエステル(不飽
和グリコールのカルボン酸ジエステル)、特にブタジェ
ンの酢酸による酸化的アセトキシ化反応によって、工業
的に特に有用な1,4−ジアセトキシブテンを主にする
ジアセトキシブテンを高い収率て長期間安定に生産する
ことかてきる。
的アシルオキシ化反応によって不飽和ジエステル(不飽
和グリコールのカルボン酸ジエステル)、特にブタジェ
ンの酢酸による酸化的アセトキシ化反応によって、工業
的に特に有用な1,4−ジアセトキシブテンを主にする
ジアセトキシブテンを高い収率て長期間安定に生産する
ことかてきる。
このように、触媒寿命を十分に延長させ、ジアセトキシ
ブテン等の不飽和ジエステルの生成を高活性、高選択率
に保持して長期間の連続運転か可能となった理由は、必
ずしも明確てはないか、おそらく、触媒−反応系に独自
の好適な塩素成分濃度か存在し、これが、特定の濃度(
相対濃度)の有機塩素化合物の反応系への添加と、固定
床方式に比べて著しく粒子径の小さい触媒を用いる流動
床反応方式との組み合わせによりはしめて実現できたも
のと考えられる。
ブテン等の不飽和ジエステルの生成を高活性、高選択率
に保持して長期間の連続運転か可能となった理由は、必
ずしも明確てはないか、おそらく、触媒−反応系に独自
の好適な塩素成分濃度か存在し、これが、特定の濃度(
相対濃度)の有機塩素化合物の反応系への添加と、固定
床方式に比べて著しく粒子径の小さい触媒を用いる流動
床反応方式との組み合わせによりはしめて実現できたも
のと考えられる。
[実施例]
次に、本発明を実施例および比較例によってさらに具体
的に説明するが、本発明は、本発明の要旨を逸脱しない
限りこれらの実施例に限定されるものではない。
的に説明するが、本発明は、本発明の要旨を逸脱しない
限りこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、以下の例における生成物の定量はガスクロマトグ
ラフィーによった。
ラフィーによった。
(実施例1)
平均粒子径80μmの球状シリカゲルを担体とし、パラ
ジウム、アンチモンおよびバナジウムをそれぞれ19.
8.45.8および9.6 g/文−触媒の割合て含有
する触媒500mMを、酢酸セシウムと塩化セシウムと
を各々80g/Jl濃度で含有する混合水溶液375m
jLに加えて含浸し、水分を蒸発乾固することにより、
酢酸セシウムと塩化セシウムを各々60g/文−触媒の
割合で担持した塩担持触媒を得た。
ジウム、アンチモンおよびバナジウムをそれぞれ19.
8.45.8および9.6 g/文−触媒の割合て含有
する触媒500mMを、酢酸セシウムと塩化セシウムと
を各々80g/Jl濃度で含有する混合水溶液375m
jLに加えて含浸し、水分を蒸発乾固することにより、
酢酸セシウムと塩化セシウムを各々60g/文−触媒の
割合で担持した塩担持触媒を得た。
この塩担持触媒500mMを内径55mmのステンレス
製流動床反応器に投入し、この反応器の下部のガス分散
板より、170℃に予熱した反応原料ガス[ブタジェン
:酢酸:酸素:窒素が10:30:3:57(容量比)
て、かつ該酢酸に対してモノクロロ酢酸を200重量p
pm含有する混合ガス]を、毎時500M (0℃、1
気圧換算)の速度で供給し、反応温度185℃および大
気圧の条件で反応を行った。
製流動床反応器に投入し、この反応器の下部のガス分散
板より、170℃に予熱した反応原料ガス[ブタジェン
:酢酸:酸素:窒素が10:30:3:57(容量比)
て、かつ該酢酸に対してモノクロロ酢酸を200重量p
pm含有する混合ガス]を、毎時500M (0℃、1
気圧換算)の速度で供給し、反応温度185℃および大
気圧の条件で反応を行った。
なお、この反応条件下では、反応器に充填された前記触
媒は、分散板より吹き出される反応原料ガスにより流動
化状態に保持されており、流動床方式の反応系か実現さ
れていた。
媒は、分散板より吹き出される反応原料ガスにより流動
化状態に保持されており、流動床方式の反応系か実現さ
れていた。
反応ガスは、反応器上部のフィルターで触媒粉末と分離
された後、反応器より放出させた。
された後、反応器より放出させた。
結果を第1表に示す。
(比較例1)
平均粒子径3mmの球状シリカゲルを担体とし、パラジ
ウム、アンチモンおよびバナジウムをそれぞれ20.4
5.5および9.5g/l−触媒の割合で含有する触媒
10m lを、酢酸セシウムと塩化セシウムとを各々8
0g/u濃度で含有する混合水溶液7.5mjjに加え
て含浸し、水分を蒸発乾固することにより、酢酸セシウ
ムと塩化セシウムを各々60g/l−触媒の割合で担持
した塩担持触媒を得た。
ウム、アンチモンおよびバナジウムをそれぞれ20.4
5.5および9.5g/l−触媒の割合で含有する触媒
10m lを、酢酸セシウムと塩化セシウムとを各々8
0g/u濃度で含有する混合水溶液7.5mjjに加え
て含浸し、水分を蒸発乾固することにより、酢酸セシウ
ムと塩化セシウムを各々60g/l−触媒の割合で担持
した塩担持触媒を得た。
この塩担持触媒10m lを内径20m mのパイレッ
クス製反応管に充填し、固定床触媒層を形成し。
クス製反応管に充填し、固定床触媒層を形成し。
この触媒層に、170℃に予熱した反応原料ガス[ブタ
ジェン:酢酸;酸素:窒素=10: 30: 3 :5
7(容量比)て、かつ該酢酸に対してモノクロロ酢酸を
200重量ppm含有する混合ガス]を、毎時101(
0°C,1気圧換算)の速度で供給し、反応温度185
°C1大気圧の条件て反応を行った。
ジェン:酢酸;酸素:窒素=10: 30: 3 :5
7(容量比)て、かつ該酢酸に対してモノクロロ酢酸を
200重量ppm含有する混合ガス]を、毎時101(
0°C,1気圧換算)の速度で供給し、反応温度185
°C1大気圧の条件て反応を行った。
結果を第1表に示す。
(比較例2)
反応原料ガス中のモノクロロ酢酸の含有量を酢酸に対し
て30重量ppmとした以外は、実施例1と同様にして
反応を行った。
て30重量ppmとした以外は、実施例1と同様にして
反応を行った。
結果を第1表に示す。
(比較例3)
反応原料ガス中のモノクロロ酢酸の含有量を酢酸に対し
て1,000重量ppmとした以外は、実施例1と同様
にして反応を行った。
て1,000重量ppmとした以外は、実施例1と同様
にして反応を行った。
結果を第1表に示す。
(実施例2)
反応原料ガス中のモノクロロ酢酸に代えて、四塩化炭素
(酢酸に対して200重量ppm)を用いた以外は実施
例1と同様にして反応を行った。
(酢酸に対して200重量ppm)を用いた以外は実施
例1と同様にして反応を行った。
結果は、第1表に示す。
(比較例4)
反応原料ガス中のモノクロロ酢酸に代えて、四塩化炭素
(酢酸に対して200重量ppm)を用いた以外は比較
例1と同様にして反応を行った。
(酢酸に対して200重量ppm)を用いた以外は比較
例1と同様にして反応を行った。
結果は、第1表に示す。
[発明の効果]
本発明によると、反応ガス中に特定の割合の有機ハロゲ
ン化合物(特に、カルボン酸の塩素誘導体やメタンの塩
素誘導体)を含有させて、共役ジエン(特に、フタジエ
ン)とカルボン酸く特に酢酸)と酸素を含有する混合ガ
スを、特定の成分を含有するパラジウム系触媒の存在下
て気相反応注流動床方式て反応させるという特定の方法
を用いているので、触媒寿命を十分に延長し、触媒性能
(活性および選択性)を安定に保持して長期間の連続運
転により生産性よくシアセトキシフテン等の不飽和ジエ
ステルを製造することかてきる改善された不飽和ジエス
テルの製造方法を提供することかできる。
ン化合物(特に、カルボン酸の塩素誘導体やメタンの塩
素誘導体)を含有させて、共役ジエン(特に、フタジエ
ン)とカルボン酸く特に酢酸)と酸素を含有する混合ガ
スを、特定の成分を含有するパラジウム系触媒の存在下
て気相反応注流動床方式て反応させるという特定の方法
を用いているので、触媒寿命を十分に延長し、触媒性能
(活性および選択性)を安定に保持して長期間の連続運
転により生産性よくシアセトキシフテン等の不飽和ジエ
ステルを製造することかてきる改善された不飽和ジエス
テルの製造方法を提供することかできる。
Claims (2)
- (1)パラジウム、アンチモン、バナジウム、アルカリ
金属のカルボン酸塩およびアルカリ金属のハロゲン化物
を含有する触媒を有する流動床にて、共役ジエン、カル
ボン酸、酸素および前記カルボン酸に対して100〜7
00重量ppm量の有機ハロゲン化合物を含有する混合
ガスを反応させることを特徴とする不飽和ジエステルの
製造方法。 - (2)有機ハロゲン化合物がカルボン酸の塩素誘導体お
よび/またはメタンの塩素誘導体である請求項1に記載
の不飽和ジエステルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2077213A JPH03279349A (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | 不飽和ジエステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2077213A JPH03279349A (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | 不飽和ジエステルの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03279349A true JPH03279349A (ja) | 1991-12-10 |
Family
ID=13627557
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2077213A Pending JPH03279349A (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | 不飽和ジエステルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03279349A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0685449A1 (en) * | 1994-06-02 | 1995-12-06 | The Standard Oil Company | Fluid bed process for the acetoxylation of ethylene in the production of vinyl acetate |
US5550281A (en) * | 1994-06-02 | 1996-08-27 | Cirjak; Larry M. | Fluid bed process for the acetoxylation of ethylene in the production of vinyl acetate |
JP2020001936A (ja) * | 2018-06-25 | 2020-01-09 | 富士シリシア化学株式会社 | 球状シリカゲル及びその製造方法、並びに、触媒及びその製造方法 |
-
1990
- 1990-03-27 JP JP2077213A patent/JPH03279349A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0685449A1 (en) * | 1994-06-02 | 1995-12-06 | The Standard Oil Company | Fluid bed process for the acetoxylation of ethylene in the production of vinyl acetate |
US5550281A (en) * | 1994-06-02 | 1996-08-27 | Cirjak; Larry M. | Fluid bed process for the acetoxylation of ethylene in the production of vinyl acetate |
US5710318A (en) * | 1994-06-02 | 1998-01-20 | The Standard Oil Company | Fluid bed process for the acetoxylation of ethylene in the production of vinyl acetate |
CN1086688C (zh) * | 1994-06-02 | 2002-06-26 | 标准石油公司 | 乙酸乙烯基酯生产中用于乙烯乙酰氧基化的流化床方法 |
JP2020001936A (ja) * | 2018-06-25 | 2020-01-09 | 富士シリシア化学株式会社 | 球状シリカゲル及びその製造方法、並びに、触媒及びその製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5347046A (en) | Catalyst and process for using same for the preparation of unsaturated carboxylic acid esters | |
JP4750283B2 (ja) | エチレンと酢酸の気相酸化による酢酸ビニルの製造用触媒、その製法およびその使用方法 | |
US5567839A (en) | Process for the preparation of vinyl acetate | |
JP4491063B2 (ja) | 酢酸ビニルの製造における触媒およびその使用 | |
JP2002540942A (ja) | 酢酸又は酢酸及び酢酸エチル製造用触媒、その製造方法並びにそれを用いた酢酸又は酢酸及び酢酸エチルの製造方法 | |
US4121039A (en) | Process for producing an unsaturated glycol diester using a catalyst comprising palladium containing thorium as a promotor | |
JPH03279349A (ja) | 不飽和ジエステルの製造方法 | |
JPS63277643A (ja) | 不飽和グリコ−ルジエステルの製造方法 | |
JPS5926611B2 (ja) | 無水酢酸の製造方法 | |
JPS5917098B2 (ja) | 共役ジエンモノエステルの製造方法 | |
US4224456A (en) | Process for preparing aliphatic monocarboxylic acid ester of hydroxymethyl-substituted monoaromatic compound | |
JPH0764781B2 (ja) | 酢酸アリルの製造法 | |
JPS5867636A (ja) | 多価フエノ−ルの製造方法 | |
JPS6412259B2 (ja) | ||
JP3540392B2 (ja) | 不飽和グリコ−ルジエステルの製造法及びこの方法に用いる触媒 | |
IE42530B1 (en) | Process for regenerating palladium catalysts | |
JP4273784B2 (ja) | フェニルエステルの製造方法 | |
JPH1072403A (ja) | 酢酸ビニルの製造法 | |
JPH03275141A (ja) | 不飽和エステル製造用触媒の調製法 | |
JP4009766B2 (ja) | カルボン酸ベンジルの製造方法 | |
JPH01299253A (ja) | 酢酸アリルの製造法 | |
JPS5825654B2 (ja) | ジ(アシロキシ)アルケンの製法 | |
JP2003206261A (ja) | フェニルエステルの製造方法 | |
JP2001097921A (ja) | フェニルエステルの製造方法 | |
JPS621928B2 (ja) |