JPH03277780A - セラミックス皮膜を有するアルミニウム基体の表面被覆方法 - Google Patents
セラミックス皮膜を有するアルミニウム基体の表面被覆方法Info
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- JPH03277780A JPH03277780A JP7957190A JP7957190A JPH03277780A JP H03277780 A JPH03277780 A JP H03277780A JP 7957190 A JP7957190 A JP 7957190A JP 7957190 A JP7957190 A JP 7957190A JP H03277780 A JPH03277780 A JP H03277780A
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- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、耐摩耗性、電気絶縁性、防食性、耐熱性、装
飾性などにすぐれた多層皮膜をアルミニウム基体上に形
成する、陽極火花放電法と溶射法とを利用したアルミニ
ウム基体の表面被覆方法に関するものである。
飾性などにすぐれた多層皮膜をアルミニウム基体上に形
成する、陽極火花放電法と溶射法とを利用したアルミニ
ウム基体の表面被覆方法に関するものである。
一般に、アルミニウム系素材に、酸化物、炭化物系セラ
ミックスあるいは金属材料を溶射して耐摩耗性被膜を形
成するためには、溶射施工の前処理としてスチールグリ
ッド、アルミナグリッド、炭化珪素グリッド等のブラス
ト材によるブラスト処理が施されている。ところが、こ
のブラスト処理を行うと、ブラスト材が高速で素材表面
に衝突するので素材が変形したり、研削材のつきさ−り
が生じ、良好な溶射皮膜が得られないという問題がある
。特に素材の板厚が2m/m以内の薄い場合にはブラス
ト処理による変形や歪が著しく、良好な製品にならない
場合が多い。またブラスト処理を行うとブラスト材の微
粉末が飛散し、空気中に浮遊するので公害問題を生じる
という問題がある。
ミックスあるいは金属材料を溶射して耐摩耗性被膜を形
成するためには、溶射施工の前処理としてスチールグリ
ッド、アルミナグリッド、炭化珪素グリッド等のブラス
ト材によるブラスト処理が施されている。ところが、こ
のブラスト処理を行うと、ブラスト材が高速で素材表面
に衝突するので素材が変形したり、研削材のつきさ−り
が生じ、良好な溶射皮膜が得られないという問題がある
。特に素材の板厚が2m/m以内の薄い場合にはブラス
ト処理による変形や歪が著しく、良好な製品にならない
場合が多い。またブラスト処理を行うとブラスト材の微
粉末が飛散し、空気中に浮遊するので公害問題を生じる
という問題がある。
さらに、従来のアルミニウム素材に耐食性を付与するた
めにセラミックスを溶射すると、セラミックス皮膜に気
孔が生じ、これが耐食性を低下させる原因になるので、
これを改善するためにシリコン系樹脂等を封孔剤として
塗布して耐食性の低下を補償することも行われている。
めにセラミックスを溶射すると、セラミックス皮膜に気
孔が生じ、これが耐食性を低下させる原因になるので、
これを改善するためにシリコン系樹脂等を封孔剤として
塗布して耐食性の低下を補償することも行われている。
しかしながら、この方法には、封孔剤が皮膜中に完全に
含浸されない場合があり、封孔剤が劣化して耐食性が低
下するという問題がある。
含浸されない場合があり、封孔剤が劣化して耐食性が低
下するという問題がある。
一方、アルミニウム素材に耐食性を付与するために陽極
火花放電法によりセラミックス皮膜を形成する方法が知
られている(特公昭5B−17278号公報、特公昭5
9−45722号公報、特公昭60−12438号公報
)が、この方法よりセラミックス皮膜を形成すると耐食
性は向上するものの、皮膜の厚みが薄く、耐摩耗性が充
分ではないという問題がある。
火花放電法によりセラミックス皮膜を形成する方法が知
られている(特公昭5B−17278号公報、特公昭5
9−45722号公報、特公昭60−12438号公報
)が、この方法よりセラミックス皮膜を形成すると耐食
性は向上するものの、皮膜の厚みが薄く、耐摩耗性が充
分ではないという問題がある。
従って、本発明は、アルミニウム素材表面にブラスト処
理などの従来の前処理を施こさなくても接着性が良好で
、耐食性、耐摩耗性に優れる多層皮膜をアルミニウム基
体上に形成することができるアルミニウム基体の表面被
覆方法を提供することを目的とする。
理などの従来の前処理を施こさなくても接着性が良好で
、耐食性、耐摩耗性に優れる多層皮膜をアルミニウム基
体上に形成することができるアルミニウム基体の表面被
覆方法を提供することを目的とする。
本発明は、アルミニウム系素材を陽極として陽極火花放
電法によりアルミニウム系素材の表面にセラミックス皮
膜を形成した後、このセラミックス皮膜上に直接溶射を
施すと上記課題を効率良く解決できるとの知見に基づい
てなされたのである。
電法によりアルミニウム系素材の表面にセラミックス皮
膜を形成した後、このセラミックス皮膜上に直接溶射を
施すと上記課題を効率良く解決できるとの知見に基づい
てなされたのである。
すなわち、本発明は、陽極火花放電法によってアルミニ
ウム基体表面に形成したセラミックス皮膜上に、セラミ
ックス又は金属を溶射することを特徴とするアルミニウ
ム基体の表面被覆方法を提供する。
ウム基体表面に形成したセラミックス皮膜上に、セラミ
ックス又は金属を溶射することを特徴とするアルミニウ
ム基体の表面被覆方法を提供する。
本発明で陽極火花放電法によってアルミニウム基体表面
にセラミックス皮膜を形成するために使用する電解浴と
しては、水溶性若しくはコロイド状ケイ酸塩及び/又は
タングステン酸、錫酸塩、モリブデン酸、ホウ酸塩、ア
ルミン酸塩、リン酸塩等の酸素酸塩を1種ないし2種以
上添加した水溶液があげられる。ここで、ケイ酸塩とし
ては、一般式藺、0・nsioa(Mはアルカリ金属を
示し、nは0.5乃至100の正数を示す)で表わされ
る種々の水溶性のもの、例えば、ケイ酸ナトリウム、ケ
イ酸カリウム、ケイ酸リチウムと、水分散性のものとし
てはコロイダルシリカ等を挙げることができる。これら
のケイ酸塩は単独で、若しくは2種以上の混合物として
用いることができる。
にセラミックス皮膜を形成するために使用する電解浴と
しては、水溶性若しくはコロイド状ケイ酸塩及び/又は
タングステン酸、錫酸塩、モリブデン酸、ホウ酸塩、ア
ルミン酸塩、リン酸塩等の酸素酸塩を1種ないし2種以
上添加した水溶液があげられる。ここで、ケイ酸塩とし
ては、一般式藺、0・nsioa(Mはアルカリ金属を
示し、nは0.5乃至100の正数を示す)で表わされ
る種々の水溶性のもの、例えば、ケイ酸ナトリウム、ケ
イ酸カリウム、ケイ酸リチウムと、水分散性のものとし
てはコロイダルシリカ等を挙げることができる。これら
のケイ酸塩は単独で、若しくは2種以上の混合物として
用いることができる。
電解浴に用いる水溶液中のケイ酸塩及び/又は*S酸塩
の濃度は5 g / 1以上が好ましく、25〜200
g / 1が好適である。特に酸素酸塩では、飽和に
近い濃度とすると皮膜形成速度が最も上昇するが、濃度
上昇とともに形成された皮膜が不均一となる現象も発生
しやすくなるので上記濃度とするのがよい。尚、水溶液
のpHは任意であるが、3〜13.5とするのがよい。
の濃度は5 g / 1以上が好ましく、25〜200
g / 1が好適である。特に酸素酸塩では、飽和に
近い濃度とすると皮膜形成速度が最も上昇するが、濃度
上昇とともに形成された皮膜が不均一となる現象も発生
しやすくなるので上記濃度とするのがよい。尚、水溶液
のpHは任意であるが、3〜13.5とするのがよい。
本発明により火花放電にセラミックス皮膜を形成出来る
金属基材としては、アルミニウムおよびその合金があげ
られる。本発明の方法ではブラスト処理を省略すること
ができるので、厚さ30〜500μといった薄いものに
対して基材の変形を伴わずに多層皮膜を形成できるとい
う利点がある。
金属基材としては、アルミニウムおよびその合金があげ
られる。本発明の方法ではブラスト処理を省略すること
ができるので、厚さ30〜500μといった薄いものに
対して基材の変形を伴わずに多層皮膜を形成できるとい
う利点がある。
通常これらの金属基材に火花放電皮膜を形成する場合、
特に前処理を行なわなくともよいが、脱脂、エツチング
、酸洗等により充分に清浄化しておくのが望ましい。
特に前処理を行なわなくともよいが、脱脂、エツチング
、酸洗等により充分に清浄化しておくのが望ましい。
陰極には、鉄、ステンレス、ニッケル等不溶性電極を用
い、陽極にアルミニウム金属基材を用いて、浴温5〜9
0℃、好ましくは15〜60℃で火花放電を行う。低温
では火花放電による皮膜の形成速度がおそくなり、一方
高温では、形成された皮膜が不均一となりやすい。電流
密度は0.2〜2OA/dm’で行なうのがよく、好ま
しくは1〜5A/dm2である。
い、陽極にアルミニウム金属基材を用いて、浴温5〜9
0℃、好ましくは15〜60℃で火花放電を行う。低温
では火花放電による皮膜の形成速度がおそくなり、一方
高温では、形成された皮膜が不均一となりやすい。電流
密度は0.2〜2OA/dm’で行なうのがよく、好ま
しくは1〜5A/dm2である。
電解時間は希望する膜厚により決定するが、通常、3〜
60分の電解で実用的な皮膜、例えば5〜80μm厚の
ものが得られる。
60分の電解で実用的な皮膜、例えば5〜80μm厚の
ものが得られる。
本発明では、特に、アルミニウム系素材の表面に陽極火
花放電法により、シリケートあるいはアルミナ系のセラ
ミックス被膜を1〜100ミクロン、好ましくは5〜2
0ミクロン形成させた後にブラスト処理を施さず直接、
金属またはセラミックスを溶射することができる。
花放電法により、シリケートあるいはアルミナ系のセラ
ミックス被膜を1〜100ミクロン、好ましくは5〜2
0ミクロン形成させた後にブラスト処理を施さず直接、
金属またはセラミックスを溶射することができる。
本発明で溶射は常法により行うことができ、例えば、ガ
ス溶線式溶射やプラズマジェット式溶射などにより行う
ことができる。
ス溶線式溶射やプラズマジェット式溶射などにより行う
ことができる。
溶射材料としては、グレイアルミナ (^120゜96
%、Tin22.3%)、ホワイトアルミナ(AI20
399.6%)、クロミア −D (Cr2L 99%
)、チタニア(TiO= 99%)、アルミナチタニア
(A矛203TiOa40%)、スピネル(MgO−A
1zO* 71%1、ムライト(Al =Os−5rO
−22%ン、ジルコニア・イツトリア(2rOa−Y−
ロ、8%)、ジルコニア・マグネシア(ZrOz Mg
08%) ジルコニア・ムライト(ZrOa 33%、
1.0.48%、5i0218%)、コバルトブルー(
八1203〜Co010%)、タンタル(Ta) 、モ
リブデン(Mo99%)、ニッケルクロム合金(Ni8
0%、Cr2O%)、ニッケルクロム合金(Ni50%
、Cr50%)、クロムカーバイト複合(CrsC2−
N+Cr含Cr25%)、クロムカーバイト複合(cr
3o2 N+50%)、チタニウムカーバイト複合(T
iC−NiCr合金 50%)、チタニウムカーバイト
複合(TiC−Ni 50%)、タングステンカーバ
イド (W(ニーCo 12%)、ジルコニアイツトリ
ア複合(ZrL−LL 8%、−NiCr 25%)、
ジルD−1−アイットリア複合(ZrL−Y20s 8
%、−NiCr50%)など金属、セラミックス及びサ
ーメットも使用することができる。
%、Tin22.3%)、ホワイトアルミナ(AI20
399.6%)、クロミア −D (Cr2L 99%
)、チタニア(TiO= 99%)、アルミナチタニア
(A矛203TiOa40%)、スピネル(MgO−A
1zO* 71%1、ムライト(Al =Os−5rO
−22%ン、ジルコニア・イツトリア(2rOa−Y−
ロ、8%)、ジルコニア・マグネシア(ZrOz Mg
08%) ジルコニア・ムライト(ZrOa 33%、
1.0.48%、5i0218%)、コバルトブルー(
八1203〜Co010%)、タンタル(Ta) 、モ
リブデン(Mo99%)、ニッケルクロム合金(Ni8
0%、Cr2O%)、ニッケルクロム合金(Ni50%
、Cr50%)、クロムカーバイト複合(CrsC2−
N+Cr含Cr25%)、クロムカーバイト複合(cr
3o2 N+50%)、チタニウムカーバイト複合(T
iC−NiCr合金 50%)、チタニウムカーバイト
複合(TiC−Ni 50%)、タングステンカーバ
イド (W(ニーCo 12%)、ジルコニアイツトリ
ア複合(ZrL−LL 8%、−NiCr 25%)、
ジルD−1−アイットリア複合(ZrL−Y20s 8
%、−NiCr50%)など金属、セラミックス及びサ
ーメットも使用することができる。
本発明において、溶射皮膜の厚みは任意とすることがで
きるが、30〜300μ、好ましくは80〜250μと
するのがよい。このように溶射皮膜の厚さを厚くすると
表面加工ができるので好ましい。
きるが、30〜300μ、好ましくは80〜250μと
するのがよい。このように溶射皮膜の厚さを厚くすると
表面加工ができるので好ましい。
一般的に陽極火花放電法によって得られる皮膜の表面は
概ね多孔質であり、それは皮膜の種類によっても異なる
がシリケート系では数ミクロン、アルミナ系ではサブミ
クロン程度の孔がほぼ均一に分布している。更に、この
皮膜は母材との間にち密な酸化皮膜(アルミニウムと、
析出されたセラミックとアルミナの混在する複合層、お
よびその上に多孔性セラミックスが析出する段階的な構
成となっているために剥離等の問題が生じることがない
。
概ね多孔質であり、それは皮膜の種類によっても異なる
がシリケート系では数ミクロン、アルミナ系ではサブミ
クロン程度の孔がほぼ均一に分布している。更に、この
皮膜は母材との間にち密な酸化皮膜(アルミニウムと、
析出されたセラミックとアルミナの混在する複合層、お
よびその上に多孔性セラミックスが析出する段階的な構
成となっているために剥離等の問題が生じることがない
。
この皮膜の上に溶射されたセラミックス或は金属は前記
表面の孔の中に入り込まれ、かつ酸素分子の移動より優
れた密着性が得られ、同時に陽極火花放電による皮膜の
気孔を封孔するので耐食性の向上をももたらすことがで
きる。
表面の孔の中に入り込まれ、かつ酸素分子の移動より優
れた密着性が得られ、同時に陽極火花放電による皮膜の
気孔を封孔するので耐食性の向上をももたらすことがで
きる。
また、一般的に七′ラミックス或は金属溶射皮膜は多孔
質であるために腐食性雰囲気下で比較的速やかに素材を
腐食し剥離することがあったが、本方法によれば、前述
したように陽極火花放電法による皮膜はち密であるため
耐食性も良好となるという利点がある。
質であるために腐食性雰囲気下で比較的速やかに素材を
腐食し剥離することがあったが、本方法によれば、前述
したように陽極火花放電法による皮膜はち密であるため
耐食性も良好となるという利点がある。
火花放電法により析出できるセラミックスの種類は数多
くあるが基本的には5in2系よりもAl 203にM
o、 Pなどを含有した金属酸化物の析出した皮膜のほ
うが強固な密着性能が認められる。それはこのような皮
膜では、表面ヌレ性が改善され、かつ一般的に火花放電
によるセラミック皮膜は軟質なので、この皮膜上に溶射
粒子が食い込むからであるためと考えられる。また溶射
皮膜は酸化物であり、更に火花放電によるセラミックも
酸化物であるために酸化膜間での酸素イオンの拡散現象
により密着性が向上するとも考えられる。
くあるが基本的には5in2系よりもAl 203にM
o、 Pなどを含有した金属酸化物の析出した皮膜のほ
うが強固な密着性能が認められる。それはこのような皮
膜では、表面ヌレ性が改善され、かつ一般的に火花放電
によるセラミック皮膜は軟質なので、この皮膜上に溶射
粒子が食い込むからであるためと考えられる。また溶射
皮膜は酸化物であり、更に火花放電によるセラミックも
酸化物であるために酸化膜間での酸素イオンの拡散現象
により密着性が向上するとも考えられる。
以上のように、火花放電による皮膜と溶射皮膜とが相ま
って、耐食性と耐摩耗性にすぐれた多層皮膜が形成され
るのである。
って、耐食性と耐摩耗性にすぐれた多層皮膜が形成され
るのである。
本発明によれば、従来の溶射の前処理として採用されて
いるブラスト処理を施すことなく陽極火花放電法による
皮膜上に金属またはセラミックス皮膜を溶射により形成
することにより、該多層被膜をアルミニウム素材の表面
に良好に密着させることができ、板厚の薄いアルミニウ
ム素材でも変形、歪の発生をなくし、かつ耐食性と耐摩
耗性とを付与することができたのである。
いるブラスト処理を施すことなく陽極火花放電法による
皮膜上に金属またはセラミックス皮膜を溶射により形成
することにより、該多層被膜をアルミニウム素材の表面
に良好に密着させることができ、板厚の薄いアルミニウ
ム素材でも変形、歪の発生をなくし、かつ耐食性と耐摩
耗性とを付与することができたのである。
従って、本発明の方法により多層皮膜を形成したアルミ
ニウム素材は、軽量化、熱伝導性などの特性を利用する
とともに耐食性、耐摩耗性、絶縁性、音響特性の改善な
どの用途に有効に利用することができる。
ニウム素材は、軽量化、熱伝導性などの特性を利用する
とともに耐食性、耐摩耗性、絶縁性、音響特性の改善な
どの用途に有効に利用することができる。
次に本発明を実施例により説明する。
実施例I
板厚1ミリ、巾100ミリ、長さ1000ミリのアルミ
ニウム製板の表面に耐摩耗性を付与するた袷、アルミニ
ウム板の表面を常法(プラズマ照射法)により脱脂処理
したのちケイ酸カリ100g / 12の電解液中に浸
せきし、直流を用い、電流密度2A/dm’で通電した
。数分後に表面より火花が発生し、その後5分間処理し
、厚さ10ミクロンのシリケート皮膜を得た。
ニウム製板の表面に耐摩耗性を付与するた袷、アルミニ
ウム板の表面を常法(プラズマ照射法)により脱脂処理
したのちケイ酸カリ100g / 12の電解液中に浸
せきし、直流を用い、電流密度2A/dm’で通電した
。数分後に表面より火花が発生し、その後5分間処理し
、厚さ10ミクロンのシリケート皮膜を得た。
充分乾燥したのち、ブラスト処理を施さずプラズマ溶射
法により酸化アルミナを膜厚70ミクロンの厚さに溶射
し、歪を発生することなく実用に供した。
法により酸化アルミナを膜厚70ミクロンの厚さに溶射
し、歪を発生することなく実用に供した。
実施例2
板厚0.2ミリ、巾15011IIl11高さ5ミリ、
長さ250ミリのアルミニウム製ボックス状ケース内面
に耐熱性を付与するため常法により脱脂処理した後ピロ
燐酸カリ40g/l、モリブデン酸ナトリウム10g/
fの電解溶液中に浸せきし、直流電流を電流密度IA/
dm2で通電した。火花発生後30分間処理し、厚さ6
ミクロンのアルミナ−リン−モリブデンを組成とする皮
膜を得た。
長さ250ミリのアルミニウム製ボックス状ケース内面
に耐熱性を付与するため常法により脱脂処理した後ピロ
燐酸カリ40g/l、モリブデン酸ナトリウム10g/
fの電解溶液中に浸せきし、直流電流を電流密度IA/
dm2で通電した。火花発生後30分間処理し、厚さ6
ミクロンのアルミナ−リン−モリブデンを組成とする皮
膜を得た。
充分乾燥した後、直接プラズマ溶射により酸化アルミニ
ウムー酸化チタニウムの溶融混合物を溶射材を100ミ
クロンの厚さに溶射した。殆んど変形することなく実用
に供した。
ウムー酸化チタニウムの溶融混合物を溶射材を100ミ
クロンの厚さに溶射した。殆んど変形することなく実用
に供した。
実施例3
軸径3m/m、長さ150+n/mの両端部に直径30
m/m、巾5m/mの円板2ケを有するアルミニウム製
ガイドロールの円周面に耐摩耗性を付与するため常法に
より脱脂処理し後、実施例2と同様な方法によりアルミ
ナ−リン−モリブデンを組成とする被膜を火花放電法に
より厚さ5ミクロンの被膜を形成させ、その上にプラズ
マ溶射法によりタングステンカーバイド−12%コバル
ト系溶射材料(KCiO)を約100ミクロンの厚さに
溶射した。歪を発生することなく実用に供した。
m/m、巾5m/mの円板2ケを有するアルミニウム製
ガイドロールの円周面に耐摩耗性を付与するため常法に
より脱脂処理し後、実施例2と同様な方法によりアルミ
ナ−リン−モリブデンを組成とする被膜を火花放電法に
より厚さ5ミクロンの被膜を形成させ、その上にプラズ
マ溶射法によりタングステンカーバイド−12%コバル
ト系溶射材料(KCiO)を約100ミクロンの厚さに
溶射した。歪を発生することなく実用に供した。
実施例4
アルミ合金で作られた3ミリ径のガイドピンに実施例2
と同様な方法によりアルミナ−リン−モリブデンの皮膜
を火花放電法により厚さ5ミクロンの皮膜を形成させそ
の上に、アルミナと酸化チタンの複合材料のプラズマ溶
射法により約300ミクロンの皮膜を形成させた後、研
磨加工して最終仕上げ膜厚150ミクロンとして実用に
供している。従来のブラスト法を前処理として用いた場
合と同様研削工程で溶射皮膜の剥離を生ずることなく使
用中も問題点は発生していない。
と同様な方法によりアルミナ−リン−モリブデンの皮膜
を火花放電法により厚さ5ミクロンの皮膜を形成させそ
の上に、アルミナと酸化チタンの複合材料のプラズマ溶
射法により約300ミクロンの皮膜を形成させた後、研
磨加工して最終仕上げ膜厚150ミクロンとして実用に
供している。従来のブラスト法を前処理として用いた場
合と同様研削工程で溶射皮膜の剥離を生ずることなく使
用中も問題点は発生していない。
比較例1
厚さ0.2ミリのアルミ合金板にブラストによる歪みを
少なくするためにブラスト圧力を3 kg / cdに
低下させてアルミナの溶射をおこなったが、約3〜5ミ
リの歪みによる変形が生じた。本性を適用したものは歪
みによる変形は0,1〜0.3 ミIJ程度で実用可能
であった。
少なくするためにブラスト圧力を3 kg / cdに
低下させてアルミナの溶射をおこなったが、約3〜5ミ
リの歪みによる変形が生じた。本性を適用したものは歪
みによる変形は0,1〜0.3 ミIJ程度で実用可能
であった。
比較例2
アルミ材1100表面に表面粗度70ミクロンのアルミ
ナ研削材により圧力5〜6 kg / c++lのブラ
ストを行った後、アルミナ200ミクロンの溶射を行い
密着強さを測定した。測定結果は100〜150 kg
/c++!であった。
ナ研削材により圧力5〜6 kg / c++lのブラ
ストを行った後、アルミナ200ミクロンの溶射を行い
密着強さを測定した。測定結果は100〜150 kg
/c++!であった。
本性による密着強さでの測定結果は135〜180 k
g/cn(であり JIS8300 rセラミック溶射
」に規定されている70kg/crlu上であり、ブラ
ストを施したものと比較し同等以上の値を示した。
g/cn(であり JIS8300 rセラミック溶射
」に規定されている70kg/crlu上であり、ブラ
ストを施したものと比較し同等以上の値を示した。
Claims (1)
- 陽極火花放電法によってアルミニウム基体表面に形成し
たセラミックス皮膜上に、セラミックス又は金属を溶射
することを特徴とするアルミニウム基体の表面被覆方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7957190A JPH03277780A (ja) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | セラミックス皮膜を有するアルミニウム基体の表面被覆方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7957190A JPH03277780A (ja) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | セラミックス皮膜を有するアルミニウム基体の表面被覆方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03277780A true JPH03277780A (ja) | 1991-12-09 |
Family
ID=13693689
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7957190A Pending JPH03277780A (ja) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | セラミックス皮膜を有するアルミニウム基体の表面被覆方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03277780A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021025093A (ja) * | 2019-08-06 | 2021-02-22 | 日本特殊陶業株式会社 | 溶射膜被覆部材の製造方法 |
CN112410777A (zh) * | 2020-11-11 | 2021-02-26 | 山东国铭球墨铸管科技有限公司 | 球墨铸铁管内表面复合功能层及其制备方法 |
CN112538624A (zh) * | 2020-11-11 | 2021-03-23 | 山东国铭球墨铸管科技有限公司 | Shs离心法制备球铁管功能层时内管温度估算方法及其应用 |
-
1990
- 1990-03-28 JP JP7957190A patent/JPH03277780A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021025093A (ja) * | 2019-08-06 | 2021-02-22 | 日本特殊陶業株式会社 | 溶射膜被覆部材の製造方法 |
CN112410777A (zh) * | 2020-11-11 | 2021-02-26 | 山东国铭球墨铸管科技有限公司 | 球墨铸铁管内表面复合功能层及其制备方法 |
CN112538624A (zh) * | 2020-11-11 | 2021-03-23 | 山东国铭球墨铸管科技有限公司 | Shs离心法制备球铁管功能层时内管温度估算方法及其应用 |
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