JPH03270117A - 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法 - Google Patents
電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法Info
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- JPH03270117A JPH03270117A JP2068175A JP6817590A JPH03270117A JP H03270117 A JPH03270117 A JP H03270117A JP 2068175 A JP2068175 A JP 2068175A JP 6817590 A JP6817590 A JP 6817590A JP H03270117 A JPH03270117 A JP H03270117A
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- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 22
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Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法
に関するものである。
に関するものである。
［従来の技術１
電解コンデンサ用アルミニウム箔（以下電極箔という）
は、実効面積を拡大して単位面積当りの静電容量を増大
する為、電気化学的あるいは化学的エツチング処理が施
される。一般に低圧用エツチングでは交流を用い、２段
、３段のエツチングを行なっている（特開昭６３−２６
８２３７号公報参照）。また、中高圧用エツチングでも
直流を用い２段、３段のエツチングを行なっている（特
開平１−２１２４２７号、特開平１−２１２４２８号各
公報参照）。
は、実効面積を拡大して単位面積当りの静電容量を増大
する為、電気化学的あるいは化学的エツチング処理が施
される。一般に低圧用エツチングでは交流を用い、２段
、３段のエツチングを行なっている（特開昭６３−２６
８２３７号公報参照）。また、中高圧用エツチングでも
直流を用い２段、３段のエツチングを行なっている（特
開平１−２１２４２７号、特開平１−２１２４２８号各
公報参照）。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、従来のエツチング技術においては、エツ
チングの進行によるアルミニウムの溶解にと６ない、エ
ツチング孔内に反応ガスや溶解したアルミニウムイオン
が充満し、電気抵抗が高くなったり、エツチングの途中
で完全に溶解しきれないアルミニウムの微粉が生成した
りして、次のエツチング工程に進む前の洗浄工程におい
ては、単なる水中への浸漬やシャワー等の洗浄ではこれ
らのアルミニウムイオンやアルミ微粉を十分除去するこ
とができず、２段目、３段目のエツチングが行なわれな
くなり、容量が低く又バラツキが大きいという欠点を有
していた。
チングの進行によるアルミニウムの溶解にと６ない、エ
ツチング孔内に反応ガスや溶解したアルミニウムイオン
が充満し、電気抵抗が高くなったり、エツチングの途中
で完全に溶解しきれないアルミニウムの微粉が生成した
りして、次のエツチング工程に進む前の洗浄工程におい
ては、単なる水中への浸漬やシャワー等の洗浄ではこれ
らのアルミニウムイオンやアルミ微粉を十分除去するこ
とができず、２段目、３段目のエツチングが行なわれな
くなり、容量が低く又バラツキが大きいという欠点を有
していた。
［課題を解決する為の手段］
本発明はかかる点を排除し有効にエツチングを行ない得
る電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法であって
、エツチングとエツチングの中間工程で超音波を印加し
た電解液又は水に浸漬し、エツチングビット中のアルミ
ニウムイオンやアルミニウム微粉を効果的に除去するも
のである。
る電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法であって
、エツチングとエツチングの中間工程で超音波を印加し
た電解液又は水に浸漬し、エツチングビット中のアルミ
ニウムイオンやアルミニウム微粉を効果的に除去するも
のである。
本発明において印加される超音波としては、アルミニウ
ム箔が低〜高圧用何れであってもｌＯ〜１００ＫＨｚの
周波数を採用するのが適当である。
ム箔が低〜高圧用何れであってもｌＯ〜１００ＫＨｚの
周波数を採用するのが適当である。
又、その印加時間は、洗浄時間とほぼ一致するがだいた
い５秒〜５分程度を使用し得る。又、印加される洗浄液
としては、水が普通であるが、電解液を用いることもで
きる。その温度としては、一般に１０〜６０℃を採用す
るのが適当である。
い５秒〜５分程度を使用し得る。又、印加される洗浄液
としては、水が普通であるが、電解液を用いることもで
きる。その温度としては、一般に１０〜６０℃を採用す
るのが適当である。
尚、超音波の印加は普通洗浄工程中継続して行なわれる
が、所望により断続的に印加することもできる。
が、所望により断続的に印加することもできる。
［作用〕
本発明方法を採用すると、電解エツチング中にビット中
に生じたアルミニウムイオンやアルミニウム微粉をエツ
チングとエツチングの中間工程での超音波振動により効
果的に電解液又は水中に除去し得るため、後段でのエツ
チング条件が一定になり、エツチングが均一に進行する
ようになる。
に生じたアルミニウムイオンやアルミニウム微粉をエツ
チングとエツチングの中間工程での超音波振動により効
果的に電解液又は水中に除去し得るため、後段でのエツ
チング条件が一定になり、エツチングが均一に進行する
ようになる。
【実施例］
低圧用エツチング箔
比較例１
以下に示す条件で純度３Ｎ、厚み１００μのアルミ箔の
ＡＣエツチングを行なって、その後５０Ｖで化成した容
量を以下に示す。
ＡＣエツチングを行なって、その後５０Ｖで化成した容
量を以下に示す。
エツチング液： ＨＣＩ ７ ｗｔ％、 Ｉ（３ＰＯ４
１ｗｔ％ＡｌＣ１１ｗｔ％＋ ＨＮＯ３１ｗｔ％１段
目：液温３０℃、電流密度４００ｍＡ／ｃｍ”、周波数
３０Ｈｚ、電気量４８００クーロン／ｄｍ”２段目：液
温２５℃、電流密度３００ｍＡ／ｃｍ２、周波数２５Ｈ
ｚ、電気量５４００クーロン／ｄｍ”３段目：液温２０
℃、電流密度２００ｍＡ／ｃｎ＋２、周波数２０１（ｚ
、電気量３６００り一ロン／ｄｍ２実施例１ 比較例１と同じアルミ箔を同様にエツチングし、各エツ
チングの中間に夫々水中で周波数４０ Ｋ ｔ（ｚの超
音波を１分間与え、比較例１と同等の化成を行なって容
量を測定した結果を以下に示す。
１ｗｔ％ＡｌＣ１１ｗｔ％＋ ＨＮＯ３１ｗｔ％１段
目：液温３０℃、電流密度４００ｍＡ／ｃｍ”、周波数
３０Ｈｚ、電気量４８００クーロン／ｄｍ”２段目：液
温２５℃、電流密度３００ｍＡ／ｃｍ２、周波数２５Ｈ
ｚ、電気量５４００クーロン／ｄｍ”３段目：液温２０
℃、電流密度２００ｍＡ／ｃｎ＋２、周波数２０１（ｚ
、電気量３６００り一ロン／ｄｍ２実施例１ 比較例１と同じアルミ箔を同様にエツチングし、各エツ
チングの中間に夫々水中で周波数４０ Ｋ ｔ（ｚの超
音波を１分間与え、比較例１と同等の化成を行なって容
量を測定した結果を以下に示す。
エツチング７１３１０Ｖで化成した容量値を以下に示す
。
。
実施例２
比較例２と同じアルミ箔を同様にエツチングし、１段目
と２段目のエツチングの間に、該アルミ箔を水中で周波
数４０Ｋ）！ｚの超音波を１分間与えた後比較例２と同
−様に２段目のエツチングを行なった。
と２段目のエツチングの間に、該アルミ箔を水中で周波
数４０Ｋ）！ｚの超音波を１分間与えた後比較例２と同
−様に２段目のエツチングを行なった。
エツチング７ｉ３１０Ｖで化成した容量の値を以下に示
す。
す。
中、高圧用エツチング箔
比較例２
純度４Ｎ、厚み１００μのアルミ箔を、第１段エツチン
グとして塩酸５％に硫酸２５％を添加した液温８０′Ｃ
の水溶液で電流密度３０Ａ／ｄＩＩ”の直流電流を１２
０秒印加して行なった後、第２エツチングを塩酸７％、
液温９０℃の水溶液で電流密度１０Ａ／ｄｍ”直流電流
を３８０秒印加して行なった。
グとして塩酸５％に硫酸２５％を添加した液温８０′Ｃ
の水溶液で電流密度３０Ａ／ｄＩＩ”の直流電流を１２
０秒印加して行なった後、第２エツチングを塩酸７％、
液温９０℃の水溶液で電流密度１０Ａ／ｄｍ”直流電流
を３８０秒印加して行なった。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、エツチングとエ
ツチングの中間工程に超音波振動を伴う洗浄を施すこと
により静電容量が大きい電解コンデンサ用アルミニウム
箔を得ることができる。
ツチングの中間工程に超音波振動を伴う洗浄を施すこと
により静電容量が大きい電解コンデンサ用アルミニウム
箔を得ることができる。
Claims (1)
- アルミ電解コンデンサ用電極箔のエッチングを２段以
上に分けて行なう方法において、エッチングとエッチン
グの中間工程で前記箔を超音波を印加した電解液又は水
に浸漬して洗浄することを特徴とする電解コンデンサ用
アルミニウム箔の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2068175A JPH03270117A (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2068175A JPH03270117A (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03270117A true JPH03270117A (ja) | 1991-12-02 |
Family
ID=13366179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2068175A Pending JPH03270117A (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03270117A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005272858A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-10-06 | Campus Create Co Ltd | 軽金属材料の表面前処理方法 |
| JP2007115950A (ja) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Nichicon Corp | 電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法、およびその製造装置 |
| CN105862116A (zh) * | 2016-04-10 | 2016-08-17 | 江苏荣生电子有限公司 | 一种利用超声波处理制造储能箔的方法 |
| CN105887177A (zh) * | 2014-12-05 | 2016-08-24 | 江苏荣生电子有限公司 | 电化学腐蚀与化学腐蚀相结合的中高压电极箔制造方法 |
| CN112750625A (zh) * | 2019-10-30 | 2021-05-04 | 松下知识产权经营株式会社 | 电解电容器用电极箔的制造方法 |
-
1990
- 1990-03-20 JP JP2068175A patent/JPH03270117A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005272858A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-10-06 | Campus Create Co Ltd | 軽金属材料の表面前処理方法 |
| JP2007115950A (ja) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Nichicon Corp | 電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法、およびその製造装置 |
| CN105887177A (zh) * | 2014-12-05 | 2016-08-24 | 江苏荣生电子有限公司 | 电化学腐蚀与化学腐蚀相结合的中高压电极箔制造方法 |
| CN105862116A (zh) * | 2016-04-10 | 2016-08-17 | 江苏荣生电子有限公司 | 一种利用超声波处理制造储能箔的方法 |
| CN112750625A (zh) * | 2019-10-30 | 2021-05-04 | 松下知识产权经营株式会社 | 电解电容器用电极箔的制造方法 |
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