JP6933754B1 - 電極の表面処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
ステップS01において、電解コンデンサ1に用いられる金属電極を提供する。
ステップS02において、金属電極をオゾン溶液に浸漬させ、オゾン溶液で金属電極を酸化させて酸化表面を形成する。
ステップS01において、電解コンデンサ1に用いられる金属電極を提供する。
ステップS02において、金属電極をオゾン溶液に浸漬させ、オゾン溶液で金属電極を酸化させて酸化表面を形成する。
ステップS03において、金属電極が浸漬されたオゾン溶液に電圧を印加させる。
ステップS01において、電解コンデンサ1に用いられる金属電極を提供する。
ステップS02において、金属電極をオゾン溶液に浸漬させ、オゾン溶液で金属電極を酸化させて酸化表面を形成する。
ステップS04において、金属電極が浸漬されたオゾン溶液を振動させる。
ステップS01において、電解コンデンサ1に用いられる金属電極を提供する。
ステップS02において、金属電極をオゾン溶液に浸漬させ、オゾン溶液で金属電極を酸化させて酸化表面を形成する。
ステップS03において、金属電極が浸漬されたオゾン溶液に電圧を印加させる。
ステップS04において、金属電極が浸漬されたオゾン溶液を振動させる。
10:エッチングされたアルミニウム箔層
12:電極接続固定部
14:裁断面
20:電解質層
S01、S02、S03、S04:ステップ
Claims (14)
- 電解コンデンサに用いられる金属電極を提供するステップと、
前記金属電極をオゾン溶液に浸漬させ、前記オゾン溶液で前記金属電極を酸化させて酸化表面を形成するステップと、
前記金属電極が浸漬された前記オゾン溶液に電圧を印加させるステップと、
を含む電極の表面処理方法。 - 前記オゾン溶液は、濃度が30ppm〜70ppmであるオゾンを含む請求項1に記載の電極の表面処理方法。
- 前記オゾン溶液は、炭酸を含む請求項1に記載の電極の表面処理方法。
- 前記オゾン溶液は、濃度が0.05wt%〜0.15wt%である炭酸を含む請求項3に記載の電極の表面処理方法。
- 前記オゾン溶液のpH値が3〜6である請求項3に記載の電極の表面処理方法。
- 前記電圧が2Vよりも高い請求項1に記載の電極の表面処理方法。
- 前記金属電極が浸漬された前記オゾン溶液を振動させるステップを含む請求項1に記載の電極の表面処理方法。
- 前記振動周波数が50Hz〜2MHzである請求項7に記載の電極の表面処理方法。
- 電解コンデンサに用いられる金属電極を提供するステップと、
前記金属電極をオゾン溶液に浸漬させ、前記オゾン溶液で前記金属電極を酸化させて酸化表面を形成するステップと、
前記金属電極が浸漬された前記オゾン溶液を振動させるステップと、
を含む電極の表面処理方法。 - 前記オゾン溶液は、濃度が30ppm〜70ppmであるオゾンを含む請求項9に記載の電極の表面処理方法。
- 前記オゾン溶液は、炭酸を含む請求項9に記載の電極の表面処理方法。
- 前記オゾン溶液は、濃度が0.05wt%〜0.15wt%である炭酸を含む請求項11に記載の電極の表面処理方法。
- 前記オゾン溶液のpH値が3〜6である請求項11に記載の電極の表面処理方法。
- 前記振動周波数が50Hz〜2MHzである請求項9に記載の電極の表面処理方法。
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