JPH0327010B2 - - Google Patents
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- JPH0327010B2 JPH0327010B2 JP60113539A JP11353985A JPH0327010B2 JP H0327010 B2 JPH0327010 B2 JP H0327010B2 JP 60113539 A JP60113539 A JP 60113539A JP 11353985 A JP11353985 A JP 11353985A JP H0327010 B2 JPH0327010 B2 JP H0327010B2
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- Japan
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/46—Means for plasticising or homogenising the moulding material or forcing it into the mould
- B29C45/56—Means for plasticising or homogenising the moulding material or forcing it into the mould using mould parts movable during or after injection, e.g. injection-compression moulding
- B29C45/568—Applying vibrations to the mould parts
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はプラスチツク光情報記録盤の製造装置
に係り、特に光情報取り出し時に障害となる複屈
折が少ないプラスチツク光情報記録盤の製造装置
に関する。
に係り、特に光情報取り出し時に障害となる複屈
折が少ないプラスチツク光情報記録盤の製造装置
に関する。
従来プラスチツク光情報記録盤は、固定側金型
と可動側金型との間に形成されたキヤビテイに高
分子樹脂を射出して、金型の冷却により高分子樹
脂を形成することによつて得られていた。可動型
金型には、情報記録面を有するコマが形成されて
いるために、所定の光情報をもつたプラスチツク
盤を得ることができる。
と可動側金型との間に形成されたキヤビテイに高
分子樹脂を射出して、金型の冷却により高分子樹
脂を形成することによつて得られていた。可動型
金型には、情報記録面を有するコマが形成されて
いるために、所定の光情報をもつたプラスチツク
盤を得ることができる。
現在、プラスチツク盤製造用の高分子樹脂原料
として、ポリスチレン、ポリカーボネート、アク
リロニトリルスチレン、またはメチルメタクリレ
ートスチレンなどが用いられている。しかし、こ
れらの樹脂は、屈折率が1.5以上の高屈折率の樹
脂であり、これらは一般に光弾性感度が0.1tr・
mm／Kg以上と高いために、成形時に起こる樹脂の
流れによる配向から光学的異方性がおこり、これ
により複屈折という問題が生じる。
として、ポリスチレン、ポリカーボネート、アク
リロニトリルスチレン、またはメチルメタクリレ
ートスチレンなどが用いられている。しかし、こ
れらの樹脂は、屈折率が1.5以上の高屈折率の樹
脂であり、これらは一般に光弾性感度が0.1tr・
mm／Kg以上と高いために、成形時に起こる樹脂の
流れによる配向から光学的異方性がおこり、これ
により複屈折という問題が生じる。
またこの複屈折は、高分子樹脂が金型からの冷
却によつて成形される際に、高分子樹脂の内部と
金型との接触面との間に熱ひずみが起こることに
よつても生ずるものである。
却によつて成形される際に、高分子樹脂の内部と
金型との接触面との間に熱ひずみが起こることに
よつても生ずるものである。
このような複屈折によつて光情報記録盤として
は、光情報取り出し時に光信号が楕円形となり、
隣接信号と交錯して良好な再生信号を得ることが
できないという問題がある。
は、光情報取り出し時に光信号が楕円形となり、
隣接信号と交錯して良好な再生信号を得ることが
できないという問題がある。
この場合、高分子樹脂を金型内に射出しないよ
うに供給し、かつ高分子樹脂の冷却を極めて緩や
かに行えば、複屈折の問題を解決することができ
るが、これでは製造効率の問題からいつて問題が
ある。
うに供給し、かつ高分子樹脂の冷却を極めて緩や
かに行えば、複屈折の問題を解決することができ
るが、これでは製造効率の問題からいつて問題が
ある。
一方、プラスチツクレンズでは、成形時に超音
波を印加して複屈折の低下および表面精度の向上
する従来技術が存在する（特開昭58−140222号、
特開昭59−124819号）。しかし、光情報記録盤に
関しては、このような点については配慮されてい
なかつた。
波を印加して複屈折の低下および表面精度の向上
する従来技術が存在する（特開昭58−140222号、
特開昭59−124819号）。しかし、光情報記録盤に
関しては、このような点については配慮されてい
なかつた。
本発明の目的は、複屈折のないプラスチツク光
情報記録盤を製造する製造装置を提供することに
ある。
情報記録盤を製造する製造装置を提供することに
ある。
上記目的を達成するために本発明は、固定用金
型と、該固定側金型とキヤビテイを介して相対向
配置された可動側金型と、当該キヤビテイに高分
子樹脂を射出するノズルとを備えてなるプラスチ
ツク光情報記録盤の製造装置において、前記キヤ
ビテイ内に超音波を印加する超音波発振装置が設
けられていることを特徴とするプラスチツク光情
報盤の製造装置である。
型と、該固定側金型とキヤビテイを介して相対向
配置された可動側金型と、当該キヤビテイに高分
子樹脂を射出するノズルとを備えてなるプラスチ
ツク光情報記録盤の製造装置において、前記キヤ
ビテイ内に超音波を印加する超音波発振装置が設
けられていることを特徴とするプラスチツク光情
報盤の製造装置である。
上記本発明の構成において、キヤビテイ内のプ
ラスチツクが成形する際に、超音波が印加されて
いることから、成形時の樹脂の流動性がよくな
り、成形時に起こつていた樹脂の流れによる配向
を防ぐことができる。したがつて光学異方性が防
がれ、これにより複屈折が防止される。また、超
音波を印加することにより、情報記録盤製造時の
高分子樹脂の流動性が良好となるため、冷却の際
の熱ひずみが防止されることになり、一層光学異
方性が防止できる。さらに、流動性がよくなるこ
とは、情報記録盤の製造の際に、金型表面に設け
られた情報記録用のコマの記録盤への転写性を良
好とすることができる。
ラスチツクが成形する際に、超音波が印加されて
いることから、成形時の樹脂の流動性がよくな
り、成形時に起こつていた樹脂の流れによる配向
を防ぐことができる。したがつて光学異方性が防
がれ、これにより複屈折が防止される。また、超
音波を印加することにより、情報記録盤製造時の
高分子樹脂の流動性が良好となるため、冷却の際
の熱ひずみが防止されることになり、一層光学異
方性が防止できる。さらに、流動性がよくなるこ
とは、情報記録盤の製造の際に、金型表面に設け
られた情報記録用のコマの記録盤への転写性を良
好とすることができる。
次に、本発明に係るプラスチツク光情報記録盤
の製造装置の実施例を添付図面に従つて詳説す
る。
の製造装置の実施例を添付図面に従つて詳説す
る。
第１図はその一実施例を示した断面構成図であ
る。
る。
第１図において、装置は固定側金型１と可動側
金型２とから主になり、これらの金型の間にキヤ
ビテイ１１が設けられている。
金型２とから主になり、これらの金型の間にキヤ
ビテイ１１が設けられている。
可動側金型２の方には、キヤビテイ面に対して
記録面を有するスタンパ３と、このスタンパ３に
接するようにホーン５が設けられている。このホ
ーン５には、超音波発振器６が接続しており、こ
の発振器６は、超音波発振回路７に接続されてい
る。
記録面を有するスタンパ３と、このスタンパ３に
接するようにホーン５が設けられている。このホ
ーン５には、超音波発振器６が接続しており、こ
の発振器６は、超音波発振回路７に接続されてい
る。
上記超音波発振器６の可動側金型２内には、可
動側金型２のキヤビテイ面１１に形成された光情
報記録盤を、固定側金型１を移動させて取り出す
押し出し板８が設けられている。
動側金型２のキヤビテイ面１１に形成された光情
報記録盤を、固定側金型１を移動させて取り出す
押し出し板８が設けられている。
固定側金型１内には、高分子樹脂をゲート９を
介してキヤビテイ面に射出するためのノズル４が
設けられている。
介してキヤビテイ面に射出するためのノズル４が
設けられている。
次に、本実施例の動作について説明する。プラ
スチツク光情報記録盤として使用可能な樹脂をノ
ズル４を介してゲート９からキヤビテイ１１内に
射出する。次に、超音波発振回路７および超音波
発振器６を駆動させ、ホーン５から超音波をスタ
ンパ３に印加する。このスタンパ３に印加された
超音波によりキヤビテイ１１内にある樹脂の流動
性が良好となる。このように樹脂に超音波を印加
しながら、固定側金型１および可動側金型２を冷
却して、樹脂が固化するまで超音波振動を与えて
おく。このようにすると、金型内に入つた樹脂の
流動性は良くなることになり、固化の際の樹脂の
流れによる配向が防止され、光学的異方性が防が
れ、複屈折を防止することができる。また、固化
の際の熱ひずみがキヤビテイの内部と表面で起こ
ることを防ぐことができる。そして、スタンパ３
のキヤビテイ１１表面に設けられた凹凸に倣い、
情報記録盤への記録コマの転写性が良好となる。
スチツク光情報記録盤として使用可能な樹脂をノ
ズル４を介してゲート９からキヤビテイ１１内に
射出する。次に、超音波発振回路７および超音波
発振器６を駆動させ、ホーン５から超音波をスタ
ンパ３に印加する。このスタンパ３に印加された
超音波によりキヤビテイ１１内にある樹脂の流動
性が良好となる。このように樹脂に超音波を印加
しながら、固定側金型１および可動側金型２を冷
却して、樹脂が固化するまで超音波振動を与えて
おく。このようにすると、金型内に入つた樹脂の
流動性は良くなることになり、固化の際の樹脂の
流れによる配向が防止され、光学的異方性が防が
れ、複屈折を防止することができる。また、固化
の際の熱ひずみがキヤビテイの内部と表面で起こ
ることを防ぐことができる。そして、スタンパ３
のキヤビテイ１１表面に設けられた凹凸に倣い、
情報記録盤への記録コマの転写性が良好となる。
特に、通常冷却時にゲート９の近くで発生する
表面のひずみがでないため、複屈折が生じないも
のである。
表面のひずみがでないため、複屈折が生じないも
のである。
従来は、この表面での複屈折が防止できないた
め、この複屈折が生じた部分を削り取ることによ
つて光情報記録盤を製造していたが、上記のよう
に表面での複屈折が生じないため、従来記録面と
して使えなかつた部分も記録面として使用するこ
とができる。したがつて削り取りの工程や、さら
には製品の歩留り向上の点から、より有効なもの
となる。
め、この複屈折が生じた部分を削り取ることによ
つて光情報記録盤を製造していたが、上記のよう
に表面での複屈折が生じないため、従来記録面と
して使えなかつた部分も記録面として使用するこ
とができる。したがつて削り取りの工程や、さら
には製品の歩留り向上の点から、より有効なもの
となる。
上記第１図の実施例では、超音波を可動側金型
２の方からキヤビテイ１１内に印加していたが、
固定側金型１の側から、またその両方から超音波
を印加することも可能である。
２の方からキヤビテイ１１内に印加していたが、
固定側金型１の側から、またその両方から超音波
を印加することも可能である。
次に、第２図に成形品の複屈折率を測定した例
を示す。
を示す。
図において、２０で示した破線は従来の超音波
を印加しない方法で成形した情報記録盤の複屈折
率であり、２１が上記実施例１で成形した光情報
記録盤の複屈折率である。なお、この場合樹脂と
しては、ポリカーボネートを用いた。また、２２
は通常許容範囲として考えられている複屈折率の
値3.0×10-5を示したものである。なお、横軸の
半径は光情報記録盤の半径をcmで示したものであ
る。
を印加しない方法で成形した情報記録盤の複屈折
率であり、２１が上記実施例１で成形した光情報
記録盤の複屈折率である。なお、この場合樹脂と
しては、ポリカーボネートを用いた。また、２２
は通常許容範囲として考えられている複屈折率の
値3.0×10-5を示したものである。なお、横軸の
半径は光情報記録盤の半径をcmで示したものであ
る。
第２図から明らかなように、従来の方法では使
用できなかつた樹脂でも本発明では使用すること
ができるようになる。
用できなかつた樹脂でも本発明では使用すること
ができるようになる。
従来、複屈折防止の点から、光弾性感度が
0.1tr・mm／Kg以上のもの、例えばポリカーボネ
ート、ポリスチレン、アクリロニトリルスチレ
ン、メチルチタクリレートスチレン等を用いるこ
とができなかつたが、本発明ではこれら樹脂を用
いることができる。したがつて、材料の選択性が
向上する。
0.1tr・mm／Kg以上のもの、例えばポリカーボネ
ート、ポリスチレン、アクリロニトリルスチレ
ン、メチルチタクリレートスチレン等を用いるこ
とができなかつたが、本発明ではこれら樹脂を用
いることができる。したがつて、材料の選択性が
向上する。
次に、本発明の基礎となつた実験結果について
説明する。
説明する。
情報記録盤の肉厚方向から観測した複屈折に対
する表面層の効果を明らかにするために、成形品
の表面層を約0.1mmずつ切除し、複屈折の変化を
測定した。すなわち、第３図に示すように、情報
記録盤の当初の厚さH0に対する切除後の厚さHo
の屈折率の比を偏光を与えることにより測定し
た。この際、肉厚方向の複屈折が均一であつて
も、肉厚が変化すれば測定値に変化が起こるの
で、ｎ回目の切除後の肉厚Ho、そのときに測定
された複屈折率をΔηHoとして、ΔηHo／Hoの値
を求めた。特に表面層の複屈折の影響を確認する
ためには、切除前の肉厚H0とそのときの屈折率
ΔnH0から求まるΔnH0／H0と比べて、切除後の
ΔnHo／Hoがどのように変化するかを検討する必
要がある。そこで、次式で定義される単位厚さ当
りの複屈折率βoを用いて検討した。
する表面層の効果を明らかにするために、成形品
の表面層を約0.1mmずつ切除し、複屈折の変化を
測定した。すなわち、第３図に示すように、情報
記録盤の当初の厚さH0に対する切除後の厚さHo
の屈折率の比を偏光を与えることにより測定し
た。この際、肉厚方向の複屈折が均一であつて
も、肉厚が変化すれば測定値に変化が起こるの
で、ｎ回目の切除後の肉厚Ho、そのときに測定
された複屈折率をΔηHoとして、ΔηHo／Hoの値
を求めた。特に表面層の複屈折の影響を確認する
ためには、切除前の肉厚H0とそのときの屈折率
ΔnH0から求まるΔnH0／H0と比べて、切除後の
ΔnHo／Hoがどのように変化するかを検討する必
要がある。そこで、次式で定義される単位厚さ当
りの複屈折率βoを用いて検討した。
βo＝（ΔnHo／Ho）／（ΔnH0／H0）……(1)
上記式(1)に基づきポリカーボネートの試験片の
表面切除による単位厚さ当りの複屈折比βoを測定
した。その結果を第４図Ａに示す。また、ポリス
チレンを用いて測定した結果を第４図Ｂに示す。
表面切除による単位厚さ当りの複屈折比βoを測定
した。その結果を第４図Ａに示す。また、ポリス
チレンを用いて測定した結果を第４図Ｂに示す。
上記Ａ，Ｂ図において、１は当初の厚さが3.0
mm、２は当初の厚さが2.0mm、３は当初の厚さが
1.6mmをそれぞれ示す。
mm、２は当初の厚さが2.0mm、３は当初の厚さが
1.6mmをそれぞれ示す。
上記ＡおよびＢ図から、複屈折は情報記録盤の
表面近傍で多く発生していることがわかる。これ
は、樹脂を金型内に充填する際のずり応力と表面
から冷却される際に生ずるひずみにより起こるも
のである。したがつて、上記第１図で示した実施
例のように、キヤビテイ内の高分子樹脂に超音波
を与えることにより、これらのひずみを取ること
ができ、また成形する間に超音波を与え続けれ
ば、このようなひずみは全く生じないものであ
る。
表面近傍で多く発生していることがわかる。これ
は、樹脂を金型内に充填する際のずり応力と表面
から冷却される際に生ずるひずみにより起こるも
のである。したがつて、上記第１図で示した実施
例のように、キヤビテイ内の高分子樹脂に超音波
を与えることにより、これらのひずみを取ること
ができ、また成形する間に超音波を与え続けれ
ば、このようなひずみは全く生じないものであ
る。
以上説明したように本発明に係るプラスチツク
光情報記録盤の製造装置によれば、樹脂成形時に
超音波を印加させることにより、樹脂の流動性が
良好となるために、樹脂成形時に生ずる虞れのあ
る樹脂の流れによる配向および熱応力によるひず
みを防ぐことができる。したがつて、光学的異方
性が防がれ複屈折の非常に少ないプラスチツク光
情報記録盤を製造することができる。
光情報記録盤の製造装置によれば、樹脂成形時に
超音波を印加させることにより、樹脂の流動性が
良好となるために、樹脂成形時に生ずる虞れのあ
る樹脂の流れによる配向および熱応力によるひず
みを防ぐことができる。したがつて、光学的異方
性が防がれ複屈折の非常に少ないプラスチツク光
情報記録盤を製造することができる。
また、樹脂成形時の流動性が良くなることによ
り、情報記録コマの樹脂への転写性が良好とな
り、このために情報再生時に信号の再現性が非常
に良好なものとなる特有の効果を奏する。
り、情報記録コマの樹脂への転写性が良好とな
り、このために情報再生時に信号の再現性が非常
に良好なものとなる特有の効果を奏する。
第１図は本発明に係るプラスチツク光情報盤の
製造装置の一実施例を示す断面構成図、第２図は
成形したプラスチツク情報記録盤の表面近傍の複
屈折を示すグラフ、第３図はプラスチツク光情報
記録盤の当初の厚さと切除後の厚さを示す図、第
４図はポリカーボネートまたはポリスチレンによ
つて形成された情報記録盤の単一厚さ当りの複屈
折比を示すグラフである。 １…固定側金型、２…可動側金型、３…スタン
パ、４…ノズル、５…ホーン、６…超音波発振
器、７…超音波発振回路、８…押し出し板、９…
ゲート。
製造装置の一実施例を示す断面構成図、第２図は
成形したプラスチツク情報記録盤の表面近傍の複
屈折を示すグラフ、第３図はプラスチツク光情報
記録盤の当初の厚さと切除後の厚さを示す図、第
４図はポリカーボネートまたはポリスチレンによ
つて形成された情報記録盤の単一厚さ当りの複屈
折比を示すグラフである。 １…固定側金型、２…可動側金型、３…スタン
パ、４…ノズル、５…ホーン、６…超音波発振
器、７…超音波発振回路、８…押し出し板、９…
ゲート。
Claims (1)
- １ 光弾性感度が0.1tr・mm／Kg以上の高分子樹
脂を金型に注入し、超音波を印加しながら冷却し
て、複屈折率が3.0×10-5以下の光情報記録盤を
製造することを特徴とするプラスチツク光情報記
録盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11353985A JPS61270131A (ja) | 1985-05-27 | 1985-05-27 | プラスチック光情報記録盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11353985A JPS61270131A (ja) | 1985-05-27 | 1985-05-27 | プラスチック光情報記録盤の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61270131A JPS61270131A (ja) | 1986-11-29 |
| JPH0327010B2 true JPH0327010B2 (ja) | 1991-04-12 |
Family
ID=14614881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11353985A Granted JPS61270131A (ja) | 1985-05-27 | 1985-05-27 | プラスチック光情報記録盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61270131A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010016654A (ko) * | 1999-08-02 | 2001-03-05 | 고경진 | 성형품 제조 장치 및 그 제조 방법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58134722A (ja) * | 1982-02-05 | 1983-08-11 | Hitachi Ltd | 超音波応用射出成形方法 |
| JPS59138427A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-08 | Hitachi Ltd | 射出圧縮成形金型 |
-
1985
- 1985-05-27 JP JP11353985A patent/JPS61270131A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58134722A (ja) * | 1982-02-05 | 1983-08-11 | Hitachi Ltd | 超音波応用射出成形方法 |
| JPS59138427A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-08 | Hitachi Ltd | 射出圧縮成形金型 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61270131A (ja) | 1986-11-29 |
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