JPS62135333A - 光情報記録用デイスク基板の製造方法及びその製造装置 - Google Patents
光情報記録用デイスク基板の製造方法及びその製造装置Info
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- JPS62135333A JPS62135333A JP27601985A JP27601985A JPS62135333A JP S62135333 A JPS62135333 A JP S62135333A JP 27601985 A JP27601985 A JP 27601985A JP 27601985 A JP27601985 A JP 27601985A JP S62135333 A JPS62135333 A JP S62135333A
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- Japan
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- disk substrate
- optical information
- information recording
- manufacturing
- ultrasonic
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/26—Moulds
- B29C45/263—Moulds with mould wall parts provided with fine grooves or impressions, e.g. for record discs
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/46—Means for plasticising or homogenising the moulding material or forcing it into the mould
- B29C45/56—Means for plasticising or homogenising the moulding material or forcing it into the mould using mould parts movable during or after injection, e.g. injection-compression moulding
- B29C45/568—Applying vibrations to the mould parts
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は１例えばコンパクトディスク、ビデオディスク
、コンピュータ用光デイスクメモリなど、光ビームを照
射することによって情報の書込み及び読出しを行う光情
報記録用ディスクに適用されるディスク基板の製造方法
及びこれを実施するための製造装置に関する。
、コンピュータ用光デイスクメモリなど、光ビームを照
射することによって情報の書込み及び読出しを行う光情
報記録用ディスクに適用されるディスク基板の製造方法
及びこれを実施するための製造装置に関する。
近年、かかる光情報記録用ディスク基板としては、製造
コストが廉価であること及び軽量にして取扱いが容易で
あることから、高分子物質を射出成形したものが主力と
なりつつある。
コストが廉価であること及び軽量にして取扱いが容易で
あることから、高分子物質を射出成形したものが主力と
なりつつある。
しかしながら、高分子物質の射出成形品は、ゲート部や
押し切り部、それに偏肉部などにおいてウェルドライン
やヒケなどの外観上の欠陥が形成され易いばかりでなく
、成形時の残留応力や溶融高分子物質が金型のキャビテ
ィ面を流動する際の配向などによって光学ひずみが生じ
易いという問題がある。さらに、この種ディスク基板を
成形する金型のキャピテイの一部には、幅０．４６μｌ
、深さが約１００ｎＩ１１．ピッチが１．６μｍのプリ
グループや。
押し切り部、それに偏肉部などにおいてウェルドライン
やヒケなどの外観上の欠陥が形成され易いばかりでなく
、成形時の残留応力や溶融高分子物質が金型のキャビテ
ィ面を流動する際の配向などによって光学ひずみが生じ
易いという問題がある。さらに、この種ディスク基板を
成形する金型のキャピテイの一部には、幅０．４６μｌ
、深さが約１００ｎＩ１１．ピッチが１．６μｍのプリ
グループや。
幅が約０．５０μ圀、深さが約２００ｎａ＋のプリピッ
トを転写するための微細な凹凸パターンが形成されてい
るため、高分子物質の回り込みが不充分で、プリグルー
プやプリピットを精密に転写することができないといっ
た問題がある。
トを転写するための微細な凹凸パターンが形成されてい
るため、高分子物質の回り込みが不充分で、プリグルー
プやプリピットを精密に転写することができないといっ
た問題がある。
従来より、ウェルドラインやヒケなどの外観上の欠陥や
成形時の残留応力の発生を防止するための射出成形方法
としては、金型のゲート部や押し切り部、それに偏肉部
などに超音波振動を印加する方法が知られている（特開
昭５．２−１０９５５６）、また、射出成形時の溶融高
分子物質の配向に起因する光学ひずみを防止するための
射出成形方法としては、金型内に流入させた高分子物質
に超音波振動を印加しながら成形する方法が知られてい
る（特開昭５８−１４０２２２）。さらに、溶融高分子
物質の流動性を高める方法としては。
成形時の残留応力の発生を防止するための射出成形方法
としては、金型のゲート部や押し切り部、それに偏肉部
などに超音波振動を印加する方法が知られている（特開
昭５．２−１０９５５６）、また、射出成形時の溶融高
分子物質の配向に起因する光学ひずみを防止するための
射出成形方法としては、金型内に流入させた高分子物質
に超音波振動を印加しながら成形する方法が知られてい
る（特開昭５８−１４０２２２）。さらに、溶融高分子
物質の流動性を高める方法としては。
高分子物質が金型内に充填された後、その高分子物質を
高周波によって瞬間的に溶融する方法が知られている（
特開昭５Ｏ−４５０３９）。
高周波によって瞬間的に溶融する方法が知られている（
特開昭５Ｏ−４５０３９）。
ところで、高分子物質をもって光情報記録用ディスク基
板を射出成形する場合、ウェルドラインやヒケなどの外
観上の欠陥や残留応力それに成形品の内部の光学ひずみ
を防止することのほかに、プリグループやプリピットの
転写性を改善することがトラッキングエラーの防止及び
Ｓ／Ｎ比を向上する上で特に重要である。
板を射出成形する場合、ウェルドラインやヒケなどの外
観上の欠陥や残留応力それに成形品の内部の光学ひずみ
を防止することのほかに、プリグループやプリピットの
転写性を改善することがトラッキングエラーの防止及び
Ｓ／Ｎ比を向上する上で特に重要である。
上記した従来例のうち、第１の従来例は金型のゲート部
や押し切り部、それに偏肉部などに生じるウェルドライ
ンやヒケ、それに残留応力を防止する点では効果がある
が、凹凸パターンの転写性の改善には全く効果がない、
また、第２の従来例は、プラスチックレンズの作製に適
用される射出成形手段であって、微細な凹凸パターンの
転写性の向上に関しては何ら検討されていない、さらに
。
や押し切り部、それに偏肉部などに生じるウェルドライ
ンやヒケ、それに残留応力を防止する点では効果がある
が、凹凸パターンの転写性の改善には全く効果がない、
また、第２の従来例は、プラスチックレンズの作製に適
用される射出成形手段であって、微細な凹凸パターンの
転写性の向上に関しては何ら検討されていない、さらに
。
第３の従来例は、高分子物質の流動性を高める点では有
効であるが、高分子物質が高温に加熱されるので、加熱
条件を厳密にコントロールしないと。
効であるが、高分子物質が高温に加熱されるので、加熱
条件を厳密にコントロールしないと。
高分子物質が劣化するという問題がある。
凹凸パターンの精密な転写を実現するためには、溶融高
分子物質の表層部を溶融して核部の流動性を向上すると
ともに、溶融高分子物質の流れ方向に生ずる配向を乱す
ことが必要であり、そのためのエネルギー源としては、
超音波振動子が最適である６本発明は、上記の知見に基
づいてなされたものであって、溶融した高分子物質をキ
ャビティ内に射出しはじめてから製品を取り出すまでの
任意の過程で、上記凹凸パターン転写側に超音波を印加
することによって、転写性に優れかつ光学ひずみのない
光情報記録用ディスク基板の製造方法を実現したことを
特徴とするものである。
分子物質の表層部を溶融して核部の流動性を向上すると
ともに、溶融高分子物質の流れ方向に生ずる配向を乱す
ことが必要であり、そのためのエネルギー源としては、
超音波振動子が最適である６本発明は、上記の知見に基
づいてなされたものであって、溶融した高分子物質をキ
ャビティ内に射出しはじめてから製品を取り出すまでの
任意の過程で、上記凹凸パターン転写側に超音波を印加
することによって、転写性に優れかつ光学ひずみのない
光情報記録用ディスク基板の製造方法を実現したことを
特徴とするものである。
第１図は１本発明にかかる光情報記録用ディスク基板の
製造方法の実施に適用されろ！！！１造装置の一実施例
を示す断面図であって、１．２は金型。
製造方法の実施に適用されろ！！！１造装置の一実施例
を示す断面図であって、１．２は金型。
３は上記金型１．２の合せ面に形成されたキャビティ、
４は金型２の合せ面側に固着され上記キャビティ３の一
部を構成するスタンパ、５は上記スタンパ４を上記金型
２に固着する取付部材、６はスプール、７はゲート、８
は超音波ｌ？！振冊、９は超音波発振回路を示している
。
４は金型２の合せ面側に固着され上記キャビティ３の一
部を構成するスタンパ、５は上記スタンパ４を上記金型
２に固着する取付部材、６はスプール、７はゲート、８
は超音波ｌ？！振冊、９は超音波発振回路を示している
。
金型１は金型２に対して分割可能に形成されており、射
出成形後、金型１６２を分割して、固化した製品を取り
出せろようになっている。また。
出成形後、金型１６２を分割して、固化した製品を取り
出せろようになっている。また。
金型１に開設さｊしたスプール６の射出口６ａ側には、
射出機（図示せず）が配置されており、金型１，２が一
体化されると同時に該射出機が金型１の射出口６ａに連
結されて、キャビティ３内に溶融された高分子物質が射
出されるようになっている。
射出機（図示せず）が配置されており、金型１，２が一
体化されると同時に該射出機が金型１の射出口６ａに連
結されて、キャビティ３内に溶融された高分子物質が射
出されるようになっている。
超音波発振器８は、金型２内に設定され、その片面がス
タンパ４に密着される。この超音波発振器８としては、
超音波発振回路９をｌ５１ＩＩ１１することによって、
スタンパ４に１５ＫＨｚ乃至２ＭＨｚの超音波振動を印
加可能なものが用いられる。
タンパ４に密着される。この超音波発振器８としては、
超音波発振回路９をｌ５１ＩＩ１１することによって、
スタンパ４に１５ＫＨｚ乃至２ＭＨｚの超音波振動を印
加可能なものが用いられる。
以下、上記の製造装置を用いて光情報記録用ディスク展
板を製造する方法について説明する。
板を製造する方法について説明する。
まず、金型１，２を一体に組合せ、金型１の射出口６ａ
に射出機を連結する。続いて、超音波発振器Ｐ８９を調
整して超音波発振器８を発振し、スタンパ４に所要周波
数の超音波振動を印加する。
に射出機を連結する。続いて、超音波発振器Ｐ８９を調
整して超音波発振器８を発振し、スタンパ４に所要周波
数の超音波振動を印加する。
この状態で、射出機より溶融した高分子物質を射出し、
スプール６及びゲート７を介してキャビティ３内に溶融
した高分子物質を充填する。キャビティ３内に高分子物
質が充分に充填されたのち。
スプール６及びゲート７を介してキャビティ３内に溶融
した高分子物質を充填する。キャビティ３内に高分子物
質が充分に充填されたのち。
金型１．２を冷却して高分子物質を固化し、射出機を金
型ｌから離脱するとともに、金型１．．７＋を分割して
製品を取り出す６ 上記のように、スタンパ１に超音波振劾ヲ印加しながら
高分子物質を射出すると、超音波振動のエネルギーによ
って、スタンパ４と接する部分における高分子物質の流
れ方向の配向が乱されろとともに温度が上昇し、流動性
が大きくなって転写性が向上するとともに光学ひずみが
低減される。
型ｌから離脱するとともに、金型１．．７＋を分割して
製品を取り出す６ 上記のように、スタンパ１に超音波振劾ヲ印加しながら
高分子物質を射出すると、超音波振動のエネルギーによ
って、スタンパ４と接する部分における高分子物質の流
れ方向の配向が乱されろとともに温度が上昇し、流動性
が大きくなって転写性が向上するとともに光学ひずみが
低減される。
特に、第１図に示すように、キャビティ３の中央部から
溶融高分子物質を射出し、その射出圧力によって外周部
まで充填する場合においては、外周部に至るに従って高
分子物質の温度が低下し、流動性が小さくなって転写性
が劣悪になる傾向があることから、外周部における転写
性を向上する上で特に有効である。
溶融高分子物質を射出し、その射出圧力によって外周部
まで充填する場合においては、外周部に至るに従って高
分子物質の温度が低下し、流動性が小さくなって転写性
が劣悪になる傾向があることから、外周部における転写
性を向上する上で特に有効である。
第２図に１本発明の方法によって作製されたディスク基
板の転写性と従来の製造方法によって作製されたディス
ク基板の転写性の比較を示す。
板の転写性と従来の製造方法によって作製されたディス
ク基板の転写性の比較を示す。
転写性の比較は、ディスク基板とスタンパ４に形成され
たプリグループ用の凹凸パターンの深さく高さ）の比を
もって行い、該凹凸パターンの深さく高さ）の比は、レ
ーザ光を凹凸パターンに照射したときの、０次の回折光
強度Ｎｏ）と１次の回折光強度（■１）との比（Ｉ ｏ
／ ｒ Ｌ ）をもって行った。即ち、第２図におい
て、縦軸はディスク基板の回折光強度比（工。／ｌ１）
Ｏとスタンパの回折光強度比（Ｉｏ／Ｉｔ）ｓの比を示
し、横軸はディスク基板の中心からの距離を示す。
たプリグループ用の凹凸パターンの深さく高さ）の比を
もって行い、該凹凸パターンの深さく高さ）の比は、レ
ーザ光を凹凸パターンに照射したときの、０次の回折光
強度Ｎｏ）と１次の回折光強度（■１）との比（Ｉ ｏ
／ ｒ Ｌ ）をもって行った。即ち、第２図におい
て、縦軸はディスク基板の回折光強度比（工。／ｌ１）
Ｏとスタンパの回折光強度比（Ｉｏ／Ｉｔ）ｓの比を示
し、横軸はディスク基板の中心からの距離を示す。
このグラフから明らかなように、射出成形時。
超音波振動を印加して作製したディスク基板は。
超音波振動を印加しないで作製されたディスク基板に比
べて転写性が改善されている。特に、ディスク基板の外
周部における転写性が顕著に改善され、転写性の均一性
も向上する。尚、超音波振動の周波数の影響については
１周波数が高い方が転写性が向上する傾向が見られる。
べて転写性が改善されている。特に、ディスク基板の外
周部における転写性が顕著に改善され、転写性の均一性
も向上する。尚、超音波振動の周波数の影響については
１周波数が高い方が転写性が向上する傾向が見られる。
第３図に１本発明の方法によって作製されたディスク基
板に生ずる複屈折と従来の製造方法によって作製された
ディスク基板に生ずる複屈折の比較を示す。尚、複屈折
の値は、エリプソメータ（レーザ波長； ６３３ｎｍ）
を用いて、透過法によって測定した。
板に生ずる複屈折と従来の製造方法によって作製された
ディスク基板に生ずる複屈折の比較を示す。尚、複屈折
の値は、エリプソメータ（レーザ波長； ６３３ｎｍ）
を用いて、透過法によって測定した。
第３図のグラフから明らかなように、射出成形時、超音
波振動を印加して作製したディスク基板は、超音波振動
を印加しないで作製されたディスク基板に比べて複屈折
が約１／４乃至１１５程度に減少される。超音波振動の
周波数の影響については、周波数が高い方が複屈折も小
さくなっている。
波振動を印加して作製したディスク基板は、超音波振動
を印加しないで作製されたディスク基板に比べて複屈折
が約１／４乃至１１５程度に減少される。超音波振動の
周波数の影響については、周波数が高い方が複屈折も小
さくなっている。
尚、本発明に適用される高分子物質としては、透明にし
て可塑性を有するものであれば良く、特に制限はないが
、屈折率が１．４乃至１．６のもの。
て可塑性を有するものであれば良く、特に制限はないが
、屈折率が１．４乃至１．６のもの。
例えば、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート
、またはこれらの変性物などが好ましい。
、またはこれらの変性物などが好ましい。
また、上記スタンパ４に印加される超音波振動の周波数
は、上記高分子物質の種類や温度条件などによって、任
意に調整することができる。
は、上記高分子物質の種類や温度条件などによって、任
意に調整することができる。
さらに、上記実施例においては、超音波発振器８をスタ
ンパ４側にのみ設定した場合について説明したが１本発
明の要旨はこれに限定されるものではなく、スタンパ４
側のみならずこれと対向する側にも併せて設定すること
もできる。かかる実施例の場合には、ディスク基板の複
屈折をさらに減少することができる。
ンパ４側にのみ設定した場合について説明したが１本発
明の要旨はこれに限定されるものではなく、スタンパ４
側のみならずこれと対向する側にも併せて設定すること
もできる。かかる実施例の場合には、ディスク基板の複
屈折をさらに減少することができる。
以上説明したように１本発明によれば、溶融した高分子
物質をキャビティ内に射出しはじめてから製品を取り出
すまでの任意の過程で、上記凹凸パターン転写側に超音
波を印加するようにしたので、溶融高分子物質の流れ方
向の配向が乱されるとともに流動性が向上し、その結果
、凹凸パターンの転写性に優れかつ光学ひずみのない光
情報記録用ディスク基板を提供することができる。
物質をキャビティ内に射出しはじめてから製品を取り出
すまでの任意の過程で、上記凹凸パターン転写側に超音
波を印加するようにしたので、溶融高分子物質の流れ方
向の配向が乱されるとともに流動性が向上し、その結果
、凹凸パターンの転写性に優れかつ光学ひずみのない光
情報記録用ディスク基板を提供することができる。
第１図は本発明に係る光情報記録用ディスク基板製造装
置の一実施例を示す断面図、第２図は本発明の方法によ
って作製された光情報記録用ディスク基板の転写性と従
来の製造方法によって作製された光情報記録用ディスク
基板の転写性を比較するグラフ、第３図は本発明の方法
によって作製された光情報記録用ディスク基板に生ずる
複屈折と従来の製造方法によって作製された光情報記録
用ディスク基板に生ずる複屈折とを比較するグラフであ
る。 １．２：金型、３：キャビティ、４ニスタンパ。 ５；固着部材、６；スプール、７：ゲート、８：超音波
発振器、９：超音波発振回路 ゛・鍵仄τ 第１図 第２図 中・し・カ・らの距岨ｆｍｍ） 第３図 ； “：
置の一実施例を示す断面図、第２図は本発明の方法によ
って作製された光情報記録用ディスク基板の転写性と従
来の製造方法によって作製された光情報記録用ディスク
基板の転写性を比較するグラフ、第３図は本発明の方法
によって作製された光情報記録用ディスク基板に生ずる
複屈折と従来の製造方法によって作製された光情報記録
用ディスク基板に生ずる複屈折とを比較するグラフであ
る。 １．２：金型、３：キャビティ、４ニスタンパ。 ５；固着部材、６；スプール、７：ゲート、８：超音波
発振器、９：超音波発振回路 ゛・鍵仄τ 第１図 第２図 中・し・カ・らの距岨ｆｍｍ） 第３図 ； “：
Claims (5)
- （１）所定の凹凸パターンが形成されたキャビティ内に
溶融された高分子物質を射出し、上記溶融高分子物質が
上記キャビティ内に充填されたのち、金型を冷却して固
化した製品を取り出す光情報記録用ディスク基板の製造
方法において、上記キャビティ内に上記高分子物質を射
出しはじめてから製品を取り出すまでの任意の過程で、
上記凹凸パターン形成面側に超音波振動を印加すること
を特徴とする光情報記録用ディスク基板の製造方法。 - （２）凹凸パターン形成面側に印加される超音波振動の
周波数が、１５ＫＨｚ乃至２ＭＨｚであることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載の光情報記録用ディスク
基板の製造方法。 - （３）高分子物質として、屈折率が１．４乃至１．６の
透明高分子物質を用いたことを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の光情報記録用ディスク基板の製造方法。 - （４）高分子物質が、ポリカーボネート、ポリメチルメ
タクリレート、またはこれらの変性物であることを特徴
とする特許請求の範囲第１項及び第３項記載の光情報記
録用ディスク基板の製造方法。 - （５）所定の凹凸パターンが形成されたスタンパをもつ
てキャビティ面の一部が構成される金型を備えた光情報
記録用ディスク基板の製造装置において、少なくとも上
記スタンパに超音波振動子を連結したことを特徴とする
光ディスク用ディスク基板の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27601985A JPS62135333A (ja) | 1985-12-10 | 1985-12-10 | 光情報記録用デイスク基板の製造方法及びその製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27601985A JPS62135333A (ja) | 1985-12-10 | 1985-12-10 | 光情報記録用デイスク基板の製造方法及びその製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62135333A true JPS62135333A (ja) | 1987-06-18 |
Family
ID=17563653
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27601985A Pending JPS62135333A (ja) | 1985-12-10 | 1985-12-10 | 光情報記録用デイスク基板の製造方法及びその製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62135333A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01182016A (ja) * | 1988-01-16 | 1989-07-19 | Etsuhisa Abe | プラスチック射出成形方法 |
| JPH02131909A (ja) * | 1988-07-21 | 1990-05-21 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 射出成形方法とその装置 |
| JPH0310817A (ja) * | 1989-06-08 | 1991-01-18 | Ube Ind Ltd | 射出成形方法 |
| US5182053A (en) * | 1990-03-02 | 1993-01-26 | Optical Radiation Corporation | Process for forming intraocular lenses having haptics with high fracture toughness |
| KR20010016654A (ko) * | 1999-08-02 | 2001-03-05 | 고경진 | 성형품 제조 장치 및 그 제조 방법 |
-
1985
- 1985-12-10 JP JP27601985A patent/JPS62135333A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01182016A (ja) * | 1988-01-16 | 1989-07-19 | Etsuhisa Abe | プラスチック射出成形方法 |
| JPH02131909A (ja) * | 1988-07-21 | 1990-05-21 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 射出成形方法とその装置 |
| JPH0310817A (ja) * | 1989-06-08 | 1991-01-18 | Ube Ind Ltd | 射出成形方法 |
| US5182053A (en) * | 1990-03-02 | 1993-01-26 | Optical Radiation Corporation | Process for forming intraocular lenses having haptics with high fracture toughness |
| KR20010016654A (ko) * | 1999-08-02 | 2001-03-05 | 고경진 | 성형품 제조 장치 및 그 제조 방법 |
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