JPH03257981A - 狭帯域発振エキシマレーザ - Google Patents
狭帯域発振エキシマレーザInfo
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- JPH03257981A JPH03257981A JP2057343A JP5734390A JPH03257981A JP H03257981 A JPH03257981 A JP H03257981A JP 2057343 A JP2057343 A JP 2057343A JP 5734390 A JP5734390 A JP 5734390A JP H03257981 A JPH03257981 A JP H03257981A
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Links
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims abstract description 5
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 9
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70566—Polarisation control
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はステッパー用の光源として使用される狭帯域発
振エキシマレーザに関する。
振エキシマレーザに関する。
半導体装置製造用の縮小投影露光装置t(以下、ステッ
パーという)の光源としてエキシマレーザの利用が注目
されている。これはエキシマレーザの波長か短い(Kr
Fの波長は約248.4nm)ことから光露光の限界を
0.5μm以下に延ばせる可能性があること、同じ解像
度なら従来用いていた水銀ランプのg線やi線に比較し
て焦点深度が深いこと、レンズの開口数(NA)か小さ
くて済み、露光領域を大きくできること、大きなパワー
か得られること等の多くの優れた利点が期待できるから
である。
パーという)の光源としてエキシマレーザの利用が注目
されている。これはエキシマレーザの波長か短い(Kr
Fの波長は約248.4nm)ことから光露光の限界を
0.5μm以下に延ばせる可能性があること、同じ解像
度なら従来用いていた水銀ランプのg線やi線に比較し
て焦点深度が深いこと、レンズの開口数(NA)か小さ
くて済み、露光領域を大きくできること、大きなパワー
か得られること等の多くの優れた利点が期待できるから
である。
ところで、ステッパーの光源として利用されるエキシマ
レーザとしては線幅3pm以下の狭帯化が要求され、し
かも大きな出力パワーが要求される。
レーザとしては線幅3pm以下の狭帯化が要求され、し
かも大きな出力パワーが要求される。
エキシマレーザの狭帯域化の技術として有望なものとし
ては以下の3技術がある。
ては以下の3技術がある。
(a)波長選択素子であるエタロン2枚を共振器内に配
置する。
置する。
(b)グレーティングとビームエキスパンダを用いる。
(C)エタロンとグレーティングとを用いる。
ところが、上記いずれの方法においても、発振エネルギ
ーと同じ程度か一般的にはその数倍の密度のエネルギー
が各素子を通過しコーティング等の劣化、損傷が問題と
なっていた。特に、(a)の方法では、エタロンを透過
するエネルギー密度が高いため、熱によって、エタロン
のギャップが変化し、この結果エタロンの透過波長のシ
フトが大きくなり、波長の制御性を著しく低下させると
いう不具合があった。
ーと同じ程度か一般的にはその数倍の密度のエネルギー
が各素子を通過しコーティング等の劣化、損傷が問題と
なっていた。特に、(a)の方法では、エタロンを透過
するエネルギー密度が高いため、熱によって、エタロン
のギャップが変化し、この結果エタロンの透過波長のシ
フトが大きくなり、波長の制御性を著しく低下させると
いう不具合があった。
この発明はこのような事情に鑑がみてなされたもので、
レーザのエネルギー密度を低減させることにより、装置
の長寿命化を図ると共に波長の制御性を向上させる狭帯
域発振エキシマレーザを提供することを目的とする。
レーザのエネルギー密度を低減させることにより、装置
の長寿命化を図ると共に波長の制御性を向上させる狭帯
域発振エキシマレーザを提供することを目的とする。
上記目的を達成するためこの発明においては、共振器内
に狭帯域化素子を具えた狭帯域発振エキシマレーザにお
いて、前記狭帯域化素子とレーザチャンバとの間にP波
とS波を分離しかつレーザビームを拡大する偏光プリズ
ムを配置するとともに、前記レーザチャンバの狭帯域化
素子配置位置と反対側にレーザ光が往復通過することに
より偏光方向を90度回転する偏光子(例えば4分のラ
ムダ板)を配置するようにしている。
に狭帯域化素子を具えた狭帯域発振エキシマレーザにお
いて、前記狭帯域化素子とレーザチャンバとの間にP波
とS波を分離しかつレーザビームを拡大する偏光プリズ
ムを配置するとともに、前記レーザチャンバの狭帯域化
素子配置位置と反対側にレーザ光が往復通過することに
より偏光方向を90度回転する偏光子(例えば4分のラ
ムダ板)を配置するようにしている。
かかる構成によれば、偏光プリズムによるP波とS波の
分離により狭帯域化素子を通過する光をいずれか一方の
偏光成分とすることによりエネルギー密度を低下させる
とともに、該偏光プリズムによるビーム拡大によりさら
にエネルギー密度を低下させる。
分離により狭帯域化素子を通過する光をいずれか一方の
偏光成分とすることによりエネルギー密度を低下させる
とともに、該偏光プリズムによるビーム拡大によりさら
にエネルギー密度を低下させる。
また、レーザ光を4分のラムダ板(λ/4板)等の偏光
子て往復通過させることてλ/4板にλ/2板つまり偏
波面回転器と同じ働きをさせ、P波をS波にあるいはS
波をP波に変換して共振器外に取り出すようにしている
。
子て往復通過させることてλ/4板にλ/2板つまり偏
波面回転器と同じ働きをさせ、P波をS波にあるいはS
波をP波に変換して共振器外に取り出すようにしている
。
以下、この発明の実施例を添付図面を参照して詳細に説
明する。
明する。
第1図はこの発明の狭帯域発振エキシマレーザの一実施
例を示した概念図である。この実施例の狭帯域発振エキ
シマレーザは、全反射ミラー1と全反射ミラー2との間
に、狭帯域化素子として機能する2枚のエタロン3、ビ
ームエキスパンダ及び偏光子として機能する偏光プリズ
ム4、レーザチャンバ5、および補償板としての4分の
ラムダ板(λ/4板)6が配設されている。レーザチャ
ンバ5はその内にKrF等を含むレーザガスが循環可能
に充填され、更にレーザチャンバ5の両端には所定の角
度で配置されたウィンドウ7が設ケられている。
例を示した概念図である。この実施例の狭帯域発振エキ
シマレーザは、全反射ミラー1と全反射ミラー2との間
に、狭帯域化素子として機能する2枚のエタロン3、ビ
ームエキスパンダ及び偏光子として機能する偏光プリズ
ム4、レーザチャンバ5、および補償板としての4分の
ラムダ板(λ/4板)6が配設されている。レーザチャ
ンバ5はその内にKrF等を含むレーザガスが循環可能
に充填され、更にレーザチャンバ5の両端には所定の角
度で配置されたウィンドウ7が設ケられている。
かかる構成において、レーザチャンバ5で発生したレー
ザ光の左に進む成分を考える。偏光プリズム4の第1面
には第2図に示したような特性(S波全反射、P波透過
)を持った偏光コーティングが施されており、この結果
レーザ光のうちP波成分のみがエタロン3に入射される
。エタロン3を透過後、全反射ミラー1で反射されたレ
ーザ光は再びエタロン3を透過し、狭帯域化される。
ザ光の左に進む成分を考える。偏光プリズム4の第1面
には第2図に示したような特性(S波全反射、P波透過
)を持った偏光コーティングが施されており、この結果
レーザ光のうちP波成分のみがエタロン3に入射される
。エタロン3を透過後、全反射ミラー1で反射されたレ
ーザ光は再びエタロン3を透過し、狭帯域化される。
この狭帯域化されたレーザ光はレーザチャンバ5て増幅
され、λ/4板6に入射される。
され、λ/4板6に入射される。
λ/4板6を透過したレーザ光は該λ/4板6によって
振動方向が45″回転されて円偏光になり全反射ミラー
2に入射される。全反射ミラー2で反射されたレーザ光
は再度λ/4板6を透過することでその振動方向が90
″回転されて、S波になり、レーザチャンバ5に入射さ
れる。すなわち、λ/4板6はレーザ光を往復通過させ
ることてλ/2板つまり偏波面回転器と同し働きをし、
これによりP波をS波に変換する。
振動方向が45″回転されて円偏光になり全反射ミラー
2に入射される。全反射ミラー2で反射されたレーザ光
は再度λ/4板6を透過することでその振動方向が90
″回転されて、S波になり、レーザチャンバ5に入射さ
れる。すなわち、λ/4板6はレーザ光を往復通過させ
ることてλ/2板つまり偏波面回転器と同し働きをし、
これによりP波をS波に変換する。
このようにしてS波に変換された狭帯域化光はレーザチ
ャンバ5で再び増幅された後、偏光プリズム4の第1面
で反射され、共振器外にとり出される。
ャンバ5で再び増幅された後、偏光プリズム4の第1面
で反射され、共振器外にとり出される。
このようにこの実施例では、偏光プリズム4によりP波
のみを狭帯域化素子としてのエタロン3に入射し、さら
にこの偏光プリズム4によりレーザビームを拡大するよ
うにしたのでエタロン31こ入射されるレーザ光のエネ
ルギー密度が大幅に低減される。また、この場合、狭帯
域化光はレーザチャンバ5て少なくとも2回増幅される
ために、上記偏光プリズム4により狭帯域化素子への透
過光強度を小さくしても結果的には高出力のレーザ発振
をなし得る。
のみを狭帯域化素子としてのエタロン3に入射し、さら
にこの偏光プリズム4によりレーザビームを拡大するよ
うにしたのでエタロン31こ入射されるレーザ光のエネ
ルギー密度が大幅に低減される。また、この場合、狭帯
域化光はレーザチャンバ5て少なくとも2回増幅される
ために、上記偏光プリズム4により狭帯域化素子への透
過光強度を小さくしても結果的には高出力のレーザ発振
をなし得る。
第3図はこの発明の他の実施例を示すもので、第1図の
全反射ミラー1、エタロン3の代わりにビームエキスパ
ンダ11とグレーティング12を配置したものである。
全反射ミラー1、エタロン3の代わりにビームエキスパ
ンダ11とグレーティング12を配置したものである。
グレーティング12は、光の回折を利用して特定波長の
光を選択するもので、一定方向に配列された多数の溝が
形成されている。グレーティング12はエタロン3の比
べて耐久性が優れており、入射光に対するグレーティン
グ6の角度θを可変させることにより、特定の波長の光
を選択する。
光を選択するもので、一定方向に配列された多数の溝が
形成されている。グレーティング12はエタロン3の比
べて耐久性が優れており、入射光に対するグレーティン
グ6の角度θを可変させることにより、特定の波長の光
を選択する。
グレーティング12は全反射ミラーとしても機能する。
このグレーティング12にはビームエキスパンダ11に
よってビーム拡大されたレーザビームが入射される。
よってビーム拡大されたレーザビームが入射される。
なおこの場合、ビームエキスパンダ11としてプリズム
を用いれば、プリズムの入射面の無反射コートにP偏光
コートが使用でき、ロスの少ないコーティングが可能に
なる。
を用いれば、プリズムの入射面の無反射コートにP偏光
コートが使用でき、ロスの少ないコーティングが可能に
なる。
第4図はこの発明の更に別の実施例を示すもので、狭帯
域化素子としてエタロン3、プリズムビームエキスパン
ダ11、及びグレーティング12を用いるようにしてい
る。その他は第1図または第3図に示す実施例と全く同
じである。
域化素子としてエタロン3、プリズムビームエキスパン
ダ11、及びグレーティング12を用いるようにしてい
る。その他は第1図または第3図に示す実施例と全く同
じである。
なお、これら実施例では偏光プリズム4のコーティング
としてS波全反射、P波透過のものを採用し、S波を共
振器外にとり出すようにしたが、これと反対の特性(S
波透過、P波全反射)のコーティングを偏光プリズム4
に施し、P波を共振器外にとり出すようにしてもよい。
としてS波全反射、P波透過のものを採用し、S波を共
振器外にとり出すようにしたが、これと反対の特性(S
波透過、P波全反射)のコーティングを偏光プリズム4
に施し、P波を共振器外にとり出すようにしてもよい。
以上説明したようにこの発明によれば、狭帯域化素子に
入射するレーザ光を偏光プリズムによってP波およびS
波のいずれかに特定し、更にこの偏光プリズムによって
レーザビームを拡大して狭帯域化素子に入射するように
したので、狭帯域化素子に入射するレーザ光のエネルギ
ー密度が著しく低減され、これにより狭帯域化素子の寿
命を飛躍的に延ばせると共に、安定な波長制御をなし得
る。
入射するレーザ光を偏光プリズムによってP波およびS
波のいずれかに特定し、更にこの偏光プリズムによって
レーザビームを拡大して狭帯域化素子に入射するように
したので、狭帯域化素子に入射するレーザ光のエネルギ
ー密度が著しく低減され、これにより狭帯域化素子の寿
命を飛躍的に延ばせると共に、安定な波長制御をなし得
る。
第1図はこの発明の一実施例を示す概念図、第2図は偏
光プリズムのコーティングの特性を示すグラフ、第3図
および第4図はこの発明の他の実施例を示す概念図であ
る。 1.2・・・全反射ミラー 3・・・エタロン、4・・
・偏光プリズム、5・・・レーザチャンバ、6・・・偏
光子(λ/4板)、11・・・ビームエキスパンダ、1
2・・・グレーティング 第1図 波長(nm) 第2図
光プリズムのコーティングの特性を示すグラフ、第3図
および第4図はこの発明の他の実施例を示す概念図であ
る。 1.2・・・全反射ミラー 3・・・エタロン、4・・
・偏光プリズム、5・・・レーザチャンバ、6・・・偏
光子(λ/4板)、11・・・ビームエキスパンダ、1
2・・・グレーティング 第1図 波長(nm) 第2図
Claims (2)
- (1)共振器内に狭帯域化素子を具えた狭帯域発振エキ
シマレーザにおいて、 前記狭帯域化素子とレーザチャンバとの間にP波とS波
を分離しかつレーザビームを拡大する偏光プリズムを配
置するとともに、前記レーザチャンバの狭帯域化素子配
置位置と反対側にレーザ光が往復通過することにより偏
光方向を90度回転する偏光子を配置するようにしたこ
とを特徴とする狭帯域発振エキシマレーザ。 - (2)前記偏光プリズムの反射光をレーザの出力光とす
る請求項(1)記載の狭帯域発振エキシマレーザ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2057343A JPH03257981A (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 狭帯域発振エキシマレーザ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2057343A JPH03257981A (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 狭帯域発振エキシマレーザ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03257981A true JPH03257981A (ja) | 1991-11-18 |
Family
ID=13052930
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2057343A Pending JPH03257981A (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 狭帯域発振エキシマレーザ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03257981A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1371503A2 (en) | 2002-06-12 | 2003-12-17 | Taisei Bijutsu Printing Co., Ltd. | Three dimensional pattern decorated article |
JP2006049839A (ja) * | 2004-07-06 | 2006-02-16 | Komatsu Ltd | 高出力ガスレーザ装置 |
-
1990
- 1990-03-08 JP JP2057343A patent/JPH03257981A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1371503A2 (en) | 2002-06-12 | 2003-12-17 | Taisei Bijutsu Printing Co., Ltd. | Three dimensional pattern decorated article |
JP2006049839A (ja) * | 2004-07-06 | 2006-02-16 | Komatsu Ltd | 高出力ガスレーザ装置 |
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