JP2005064519A - 外部空洞レーザシステム - Google Patents

Abstract

【課題】 レーザシステムにおいて後方反射された光を少なくする。
【解決手段】 レーザ空洞１４０と、光をレーザ空洞１４０に供給する光源２１０と、前記光をレーザ空洞１４０内でフィルタリングする、レーザ空洞１４０内にあるインライン光学フィルタ１０６、２０６と、レーザ空洞１４０内の後方反射または戻り反射された光を抑制しながら、レーザ空洞１４０内で光が共振できるようにする、レーザ空洞１４０内にある反射抑制装置１０４、２０４とを含んでなる外部空洞レーザシステムを提供する。
【選択図】 図１

Description

本発明は、一般にレーザに関し、より具体的には、レーザ空洞内の光反射抑制に関する。

光技術は、最近の電話通信システムの重要な一部である。光技術ツールセットは、レーザなどの光波源を含む。レーザは、典型的には、動作するためにゲイン媒体と適切な電磁空洞とを必要とする。簡単なレーザは、２つの部分反射ミラーを含む。部分反射ミラーは光の一部を反射し、一部を透過する。レーザ空洞内のミラーのうち１つは全反射ミラーでありうる。ゲイン媒体とミラーとは、共にレーザ空洞として知られるものを形成する。レーザ空洞は、ゲイン媒体の光ゲインよりも少ない光損失と適切なスペクトル反応とを有し、所望の波長で振動を促進するように設計される。

レーザを微調整して波長を調節する技術が開発されている。この技術は、回折格子とインラインフィルタとの使用を含む。回折格子は、レーザ空洞内にある所与の波長帯の光を選択的に反射するように機械的に調節される。回折格子は、所望の波長帯の外に過剰な量の後方反射（back-reflected）された光を導入せずに広い微調整範囲を提供する。逸れた反射がフィルタリングされた光から得られる所望のフィードバックと干渉する可能性があるので、後方反射あるいは戻り反射された光は望ましくない。外部空洞レーザ内で回折格子を使用する１つの欠点は、回折格子が比較的大きいことである。他方、インラインファブリー−ペローフィルタなどのインラインフィルタは、小さな構造ではあるが、典型的には、レーザ空洞内に過剰な量の後方反射された光を生じさせる原因となる。

本発明によれば、外部空洞レーザシステムは、レーザ空洞内で後方反射された光を効率的に抑制しながら光が共振できるようにするインライン光学フィルタと反射抑制装置とを含む。反射抑制装置は、空洞内の光を偏光する偏光器と、偏光器が後方反射された光を抑制するように偏光された光の偏光状態を回転する偏光回転装置とを含みうる。後方反射された光が抑制されるので、インラインフィルタの使用も可能になる。したがって、比較的大きな回折格子ではなくファブリーペローフィルタなどのコンパクトなインラインフィルタを外部空洞レーザ内に組み込むことができる。

本明細書中、同様な要素を識別するために同様な参照番号を使用する。

説明のために図面に示されるように、本発明は、外部空洞レーザ内で反射された光を抑制することを含む。抑制される光は、レーザの所望の動作周波数とは異なる選択的な周波数である。本発明の注目すべき実施形態は、レーザ空洞がインライン光学フィルタを含み、光がインライン光学フィルタから後方反射されたときに生じる、外れた空洞反射を抑制するために教示される方法である。

図１は、本発明による外部空洞レーザシステム１００の一実施形態の構成図である。図１は、システム１００が、レーザ空洞内で後方反射された光を抑制しながらレーザ空洞内で光が共振できるようにする方法を示すことを意図したものである。システム１００は、反射抑制装置１０４と、インライン光学フィルタ１０６と、第１のミラー１１０と、第２のミラー１１２とを含む。

反射抑制装置１０４は、後方反射された光を抑制しながら他の光を通過させる。反射抑制装置１０４は、多くの異なる構成を有することがある。たとえば、反射抑制装置１０４は、１以上の偏光器と多数の偏光回転装置とを含みうる。偏光回転装置は、４分の１波長板回転装置、２分の１波長板回転装置、ファラデー回転装置、または、他の偏光回転装置などを含みうる。１以上の偏光回転装置は、一方向性でありうる。偏光器と偏光回転装置とは、後方反射された光が、後方反射された光の偏光状態が光を偏光させるために使用される偏光器に対して直交するようにいくつかの偏光回転装置を通過するような位置に配置される。同時に、所望の周波数の光は、光の偏光状態が偏光器に対して平行であるように回転された偏光状態を有するべきである。

インライン光学フィルタ１０６は、所望の周波数ではない光をフィルタリングして除去し、光を所望の周波数で共振させる。任意のいくつかのインラインフィルタ装置を使用できる。レーザ空洞の出力は典型的には狭周波数帯域なので、高分解能のフィルタが好ましい。インライン光学フィルタ１０６は、光動作周波数（すなわち、インライン光学フィルタ１０６がフィルタリングして除去しない周波数）を調節できるように微調整可能でありうる。インラインフィルタの例としては、光を入力として受け取り、光をフィルタリングし、フィルタリングされた所望の周波数帯の光を出力として提供する、ファブリー−ペロー（ＦＰ）フィルタと、ＦＰ干渉計と、光共振器と、その他の装置とを含む。光共振器は、装置に入射した光が共振条件を満足した時にその光を効率的に透過する装置を含む。共振条件は、典型的には、光共振器の空洞内の定常波の条件である。光共振器を含むインライン光学フィルタを使用する場合には、システム１００は、典型的には、アウトオブラインスペクトル浄化器を使用したときよりも小さい。本発明に適切なインラインフィルタのタイプの例は、Ａｘｓｕｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社またはＮｏｒｔｅｌ Ｎｅｔｗｏｒｋｓ社が製造する自由空間ＭＥＭｓファブリー−ペローフィルタである。

第１のミラー１１０は、部分反射ミラーまたは全反射ミラーでありうる。第２のミラー１１２は部分反射ミラーであり、図１ではシステム１００から出力された光は第２のミラー１１２からの太い矢印１２２として示されている。第１のミラー１１０と第２のミラー１１２とは、レーザ空洞１４０を共に画定する。レーザ空洞は、関連づけられたゲイン媒体（図示せず）を有する。レーザ空洞１４０内で共振する光を、楕円ループ１２０で示す。インライン光学フィルタ１０６がレーザ空洞１４０内で共振する光をフィルタリングするので、今後、楕円ループ１２０をフィルタリングされた光１２０と呼ぶ。インライン光学フィルタ１０６から後方反射された光は、破線の矢印１３０（今後、後方反射された光１３０と呼ぶ）で示す。

システム１００は、後方反射された光１３０を抑制しながら、フィルタリングされた光がレーザ空洞１４０内で共振できるように動作する。光は、光源（図示せず）からレーザ空洞１４０内へと導入される。光源は、半導体光増幅器などの内部源または外部源でありうる。レーザ空洞１４０内に導入された光は、反射抑制装置１０４を通過してインライン光学フィルタ１０６に達する。インライン光学フィルタ１０６は、光をフィルタリングされた光１２０にフィルタリングする。光の一部は後方反射され、今後後方反射された光１３０と呼ぶ。後方反射された光１３０は、反射抑制装置１０４に反射され、ここで抑制される。他方、フィルタリングされた光１２０は、インライン光学フィルタ１０６の反対側の反射抑制装置１０４を通過し、第２のミラー１１２で反射される。フィルタリングされた光１２０は、反射抑制装置１０４を介して通過するが抑制されない。一実施形態では、反射抑制装置１０４は、フィルタリングされた光１２０が正しい偏光状態を有し、後方反射された光１３０が正しい偏光状態を有しないようにすることによって、この機能を行う。例としての反射抑制装置を、図２Ａを参照して説明する。この説明は、例としてこの機能を明確にするためのものである。

図２Ａは、本発明による外部空洞微調整可能レーザシステム２００の一実施形態の構成図である。図２Ａは、システム１００（図１）の具体的な実施形態である。システム２００は、光増幅器２０２と、反射抑制装置２０４と、ＦＰフィルタ２０６と、固定ミラー２１０と、シータミラー２１２とを含む。反射抑制装置２０４は、偏光器２１４と、第１のファラデー回転装置２１６と、第２のファラデー回転装置２１８とを含む。システム２００への入力は、光増幅器２０２へのゲイン入力と、ＦＰフィルタ２０６へのラムダ入力と、シータミラー２１２へのシータ入力とを含む。システム２００の出力は光出力２２２である。後方反射された光２３０は破線２３０として表される。図２Ａでは、フィルタリングされた光１２０（図１）などのフィルタリングされた光を表す楕円形のループは、図が乱雑になるのを避けるために省略されている。

光増幅器２０２は、レーザ空洞に光を提供する例としての源である。一実施形態では、光増幅器２０２は、２つ以上の面を有する半導体光増幅器（semiconductor optical amplifier：以下、「ＳＯＡ」とよぶ）である。ＳＯＡの１つの面は第１のミラー２１０であり、ＳＯＡの別の面（反射抑制装置２０４に対向する面）は反射防止コーティングされている。システム２００の出力パワーは、光増幅器２０２へのゲイン入力の量に一部依存する。一実施形態では、ゲイン入力は注入電流である。光増幅器２０２は、ゲイン入力からの注入電流によって調節される約１．５５ミクロンの光ゲインを提供する。図２Ａの実施形態では、光増幅器２０２光出力は、反射抑制装置２０４へと向けられる。

偏光器２１４は、光増幅器２０２からの光を偏光する。一実施形態では、偏光器２１４の透過軸は、光増幅器の好ましい偏光軸、すなわち、光増幅器内で最大のゲインを示す偏光軸と並ぶ。

ファラデー回転装置２１６は、偏光器２１４から偏光された光を受信し、偏光された光の偏光状態を４５°回転する。そして、光は、反射抑制装置２０４を通過しＦＰフィルタ２０６に達する。

ＦＰフィルタ２０６は所望の周波数でない光をフィルタリングして除去する。一実施形態では、ＦＰフィルタ２０６は、マイクロエレクトロメカニカル（ＭＥＭ）装置である。この装置の通過域周波数または波長は、電気端子に電圧を印加することにより微調整することができる。ＦＰフィルタ２０６は、フィルタ機能を介してサイドモード低減を提供し、これは約１ＧＨｚなどＭＥＭｓ ＦＰフィルタとしては比較的狭い。これは、大きな光回折格子を空洞フィルタリング素子として使用するコンパクトな外部空洞レーザと比較すると、すぐれたサイドモード抑制レベルを提供することができる。

所望の周波数（たとえばＦＰフィルタ２０６の中心周波数）は、ＦＰフィルタ２０６にラムダ入力を使用することで設定する。言い換えれば、ＦＰフィルタ２０６は、システム２００に関する光動作周波数を確立するように微調整可能である。（シータミラー２１２を参照して後から説明するように、動作周波数は、シータミラー２１２とＦＰフィルタ２０６との設定の組み合わせにより選択できることに注意されたい。）フィルタの中心周波数を有する光は、ＦＰフィルタ２０６を選択的に通過する。しかし、入射光の一部は後方反射される。後方反射された光２３０は、望ましくない周波数である傾向があり、フィルタリングされた光から得られる所望のフィードバックと干渉する可能性がある。後方反射された光２３０は、反射抑制装置２０４に反射して戻される。

ファラデー回転装置２１６は、後方反射された光２３０の偏光状態を回転する。ファラデー回転装置２１６は一方向偏光回転装置である。言い換えれば、ファラデー回転装置２１６を通過する光の偏光状態は、第１の面または第２の面を介して光がファラデー回転装置２１６に入射したかにかかわらず、毎回同じ方向に回転される。したがって、この点では、後方反射された光２３０は、偏光器２１４のアライメントから９０°それた偏光状態を有する。後方反射された光２３０は偏光器２１４の透過軸に対して直交しているので、後方反射された光２３０が偏光器２１４に達すると、後方反射された光２３０は抑制される。

ＦＰフィルタ２０６を通過するフィルタリングされた光は、ＦＰフィルタ２０６の反対側でファラデー回転装置２１８に到達し、ここでフィルタリングされた光の偏光状態がさらに４５°回転され、反射抑制装置２０４を通過してシータミラー２１２に達する。

シータミラー２１２は、光出力２２２として光が通過する部分反射ミラーである。シータミラー２１２を部分反射ミラーとして作成する利点は、光増幅器２０２からの自然放射がインラインフィルタ２０６によってフィルタリングできることである。この結果、光のパワーが弱くても、光源は、インラインフィルタを挟まずに固定ミラー２１０の出力を使用した場合よりも清浄になる。

ＦＰフィルタ２０６の第２の面からの反射が、ミラー２１２からの所望の反射との間で意図せずに光干渉を起こす場合、図２Ｂに示すように、偏光器２２０を回転装置２１８とミラー２１２の間で反射抑制装置２０４に組み込むことができる。この場合、偏光器２２０は偏光器２１４の透過軸に直交する透過軸を有しなければならない。偏光器２１４が、第１の方向でインラインフィルタ２０６から反射された後方反射された光２３０を抑制する方法と同様な方法により、偏光器２２０は第２の方向でインラインフィルタ２０６から反射された後方反射された光２４０を抑制する。どちらの場合でも、偏光器２１４および２２０の向きを微調整し、ファラデー回転装置２１６および２１８の小さなエラーを補償し、望ましくない反射を最大に抑制することができる。

システム２００では、シータミラー２１２は、シータ入力と、シータミラー２１２を作動させる関連づけられた機械的な原動力とを有する調節可能ミラーである。代替の実施形態では、シータミラー２１２を作動させる機械的な原動力は、ＭＥＭｓデジタルステッパモータである。機械的な原動力により、シータミラーは、シータ入力にしたがって調節され、レーザ空洞の位相を制御する。したがって、適切なシータ入力を提供することにより、システム２００を微調整することができる。

システム２００がモードホッピングレーザとして機能するとき、注入電流を介した光増幅器２０２のゲインとＦＰフィルタ２０６のフィルタ中心周波数との２つの制御が可能である。連続的に微調整するために、シータミラー２１２と関連づけられた機械的な原動力はシータミラー２１２を平行移動して空洞フリンジ数を一定に保持する。フリンジ数はモード数（Ｎ₀）とも呼ばれ、３．４ｍｍの空洞長（Ｌ₀）と１．５ミクロンの波長または周波数（λ₀）とにより動作するレーザとして図示されるように、空洞の大きさから推定できる。ここでは屈折率を１と仮定していることに注意されたい。実際の屈折率は、レーザ空洞を構成する実際の材料と構成要素の長さにしたがって変わる。

Ｎ₀＝Ｌ₀／λ₀＝２３００

連続的な微調整のために、レーザ周波数（λ₀）の減少または増加にしたがってモード数（Ｎ₀）を維持するために、空洞長（Ｌ₀）は伸びたり縮んだりしなければならない。このためには次の条件が適用される。

（Ｌ₀＋ΔＬ）／（λ₀＋Δλ）＝Ｎ₀
または、
Ｌ₀＋ΔＬ＝Ｎ₀λ₀＋ΔλＮ₀
この結果、
ΔＬ＝ΔλＮ₀となる。

２００ｎｍの微調整範囲については、ミラーはほぼ次式の通りに並進する必要がある。

ΔＬ＝０．２×２３００＝４６０μｍ

図３は、本発明による外部空洞レーザ内の例としての光路を説明するフローチャート３００である。光路は、光がレーザ空洞に提供され再び戻る位置で往復している。光が出力されるかまたは後方反射され抑制されると、フローチャート３００は終了する。

フローチャート３００は、ステップ３０２では光をレーザ空洞に提供することで開始し、ステップ３０４では反射抑制装置に光を通過させ、ステップ３０６ではインラインフィルタで光を受信する。一実施形態において、ステップ３０４では、光が偏光され偏光された光の偏光状態が４５°回転される。決定ポイント３０８では、光がインラインフィルタで後方反射されたかどうかを決定する。後方反射された場合（３０８−Ｙ）には、後方反射された光はステップ３１０で反射抑制装置を通過し、後方反射された光はステップ３１２で抑制され、フローチャート３００が終了する。一実施形態において、ステップ３１０では後方反射された光の偏光状態は４５°回転され、ステップ３１２では後方反射された光はその偏光状態のために抑制される。

光が後方反射されない場合（３０８−Ｎ）には、フローチャート３００において、ステップ３１４では光を２回目に反射抑制装置を通過させ、ステップ３１６では第１のミラーで光を受信する。一実施形態では、ステップ３１４では光の偏光状態は４５°回転される。決定ポイント３１８では、光が第１のミラーを通過した場合には、光はレーザ出力となりフローチャート３００が終了する。光が第１のミラーから跳ね返ってきた場合には、光はステップ３２４では３回目に反射抑制装置を通過する。光はステップ３２６では２回目にインラインフィルタを通過する。光はステップ３２８では４回目に反射抑制装置を通過する。ステップ３３０では光が提供された場所を光は通過する。ステップ３３２では光は第２のミラーで受信され、ステップ３３４では第２のミラーから跳ね返り、ここで、光はレーザ空洞内に提供された位置からの往復運動を終了する。一実施形態において、ステップ３２４では、光の偏光状態は４５°回転され、ステップ３２８では光の偏光状態はさらに４５°回転されて光は偏光される。この実施形態では、光の偏光状態によって光が偏光器を通過できるため、光はステップ３２８では抑制されない。そして、フローチャート３００はステップ３０２に続く。

図４と図５と図６とは、本発明による空洞内光反射抑制の例としての方法を示すフローチャートである。図４は、レーザ空洞を介して光を通過させる方法のフローチャート４００Ａを示す。フローチャート４００Ａは、ステップ４０２ではレーザ空洞内に光を提供し、ステップ４０４では光をフィルタリングし、ステップ４０６では後方反射された光を抑制しながら、フィルタリングされた光をレーザ空洞内で共振できるようにすることを含む。図５は、ステップ４０６において後方反射された光を抑制する例としての方法のフローチャート４００Ｂを示す。図６は、ステップ４０６においてフィルタリングされた光の抑制を避ける例としての方法を示すフローチャート４００Ｃである。

フローチャート４００Ｂは、ステップ４１２の光の偏光により開始し、ステップ４１４では光の偏光状態を第１の偏光状態に回転し、ステップ４１６では後方反射された光の偏光状態を第２の偏光状態に回転し、ステップ４１８では後方反射された光の偏光状態によりこの後方反射された光を抑制する。一実施形態において、ステップ４１８では、第２の偏光状態が偏光器のアライメントに対して垂直であるため、偏光器は後方反射された光を抑制する。

フローチャート４００Ｃは、ステップ４２０の光の偏光により開始し、ステップ４２２では光の偏光状態を第１の偏光状態に回転し、ステップ４２４ではインラインで光をフィルタリングし、ステップ４２６では、フィルタリングされた光の偏光状態がその偏光状態のために抑制されないように偏光状態を回転する。一実施形態において、ステップ４２６では、光の偏光状態は、光の偏光状態が偏光器のアライメントに対して平行になるまで回転される。フィルタリングされた光の偏光状態が偏光器のアライメントに対して平行であるため、偏光器はフィルタリングされた光を通過させることができる。

したがって、図４と図５と図６とは、後方反射された光を抑制しながら、フィルタリングされた光をレーザ空洞内で共振させる例としての方法を示している。上記のすべての方法ステップを行う必要はなく、これらのステップを上記の順序で行う必要もないことを理解されたい。

レーザ空洞という用語は、２つのミラーと１つのゲイン媒体とを含むレーザ空洞を含むものとして広く定義する。レーザ空洞という用語は、ゲイン媒体と、コヒーレント光ビームを出力する機能を有する他の構成要素も含みうる。（一部のレーザ空洞内のミラーのうちの１つである）シータミラーは、シータ入力にしたがって、機械的に調節可能なミラー、機械的に調節可能なものに固定されたミラー、または、機械的または別の方法で調節可能な他のミラーを含むものとして広く定義される。レーザ空洞の１以上のミラーは、部分反射ミラーでありうる。

光源という用語は、透過、増幅、生成、または、その他の方法により光を提供することのできる、光増幅器、リピータ、光源、光ファイバ、発光ダイオード、別の装置、もしくは上記の装置、または別の装置の任意の組み合わせを含むものとして幅広く定義される。

反射抑制装置という用語は、インライン光学フィルタから後方反射された光を抑制しながら、後方反射されなかった光をチャンバ内で共振させる機能を有する任意の装置または任意の装置の組み合わせを含むものとして幅広く定義される。装置の組み合わせの例は、光が偏光器を通過したときから光が再び偏光器を通過するまで、１８０°の倍数だけ光の偏光状態を共に回転させる偏光回転装置の任意の組み合わせと偏光器との組み合わせである。後方反射された光はすべての偏光回転装置を通過するわけではないので、後方反射された光の偏光状態は、光が偏光器を通過したときから後方反射された光が偏光器を通過するまで、１８０°の倍数ではない値となる。本明細書では、後方反射された光という用語は、レーザ空洞のミラーから反射された光とは後方に、インラインフィルタから反射された光をさす。

本発明の特定の実施形態を説明して図示したが、本発明は本明細書に説明して図示した部分の特定の形態または構成に限定されるものではない。本発明は、請求項によってのみ限定される。

本発明による外部空洞レーザシステムの１実施形態の構成図である。 ＡおよびＢは、本発明による外部空洞微調整可能レーザシステムの１実施形態の構成図である。 本発明による外部空洞レーザ内の例としての光路を示すフローチャートである。 本発明による空洞内の光反射抑制のための方法を示すフローチャートである。 本発明による空洞内の光反射抑制のための方法を示すフローチャートである。 本発明による空洞内の光反射抑制のための方法を示すフローチャートである。

符号の説明

１００ 外部空洞レーザシステム
１０４ 反射抑制装置
１０６ インライン光学フィルタ
１１０ 第１のミラー
１１２ 第２のミラー
１２０ フィルタリングされた光
１２２ システム１００から出力された光
１３０ 後方反射された光
１４０ レーザ空洞
２００ 外部空洞微調整可能レーザシステム
２０２ 光増幅器
２０４ 反射抑制装置
２０６ ＦＰフィルタ
２１０ 固定ミラー
２１２ シータミラー
２１４ 偏光器
２１６ 第１のファラデー回転装置
２１８ 第２のファラデー回転装置
２２０ 偏光器
２２２ 光出力
２３０ 後方反射された光
２４０ 後方反射された光

Claims (10)

1. レーザ空洞と、
   光を前記レーザ空洞に供給する光源と、
   前記光を前記レーザ空洞内でフィルタリングする、前記レーザ空洞内にあるインライン光学フィルタと、
   前記レーザ空洞内の後方反射された光を抑制しながら、前記レーザ空洞内で光が共振できるようにする、前記レーザ空洞内にある反射抑制装置と
   を含んでなる外部空洞レーザシステム。
2. 前記インライン光学フィルタは、ファブリー−ペローフィルタである請求項１に記載のシステム。
3. 前記反射抑制装置は、
   前記レーザ空洞内にあり、前記レーザ空洞内で光を偏光する偏光器と、
   前記偏光器が後方反射された光を抑制するように前記光の偏光状態を回転させる、前記レーザ空洞内にある偏光回転装置と
   を含む請求項１に記載のシステム。
4. 前記偏光器は、前記インライン光学フィルタから第１の方向に後方反射された光を抑制する第１の偏光器であり、前記インライン光学フィルタから第２の方向で後方反射された光を抑制する第２の偏光器をさらに含む請求項３に記載のシステム。
5. 前記偏光器を通過して前記第１の偏光回転装置で回転され後方反射された光が、再び前記第１の偏光回転装置で回転され、前記偏光器で抑制される、前記第１の偏光回転装置に入射した光の偏光状態を４５°回転させる第１の偏光回転装置を前記偏光回転装置が含む請求項３に記載のシステム。
6. 前記レーザ空洞が、
   固定ミラーと、
   前記光源および前記反射抑制装置が、前記固定ミラーとシータミラーとの間になるように前記固定ミラーに対向して配置されるシータミラーと
   を含み、
   レーザ出力が前記シータミラーを介するものである請求項１に記載のシステム。
7. レーザ空洞内に光を供給するステップと、
   該光をフィルタリングするステップと、
   後方反射された光を抑制しながら、該フィルタリングされた光を前記レーザ空洞内で共振させるステップと
   を含んでなる、外部空洞レーザを動作させる方法。
8. 光を偏光するステップと、
   該光の偏光状態を第１の偏光状態に回転するステップと
   をさらに含む請求項７に記載の方法。
9. 前記抑制するステップが、
   後方反射された光の偏光状態を第２の偏光状態に回転することと、
   該後方反射された光の偏光状態に応答して該後方反射された光を抑制することと
   をさらに含む請求項８に記載の方法。
10. 光をインラインでフィルタリングするステップと、
    前記フィルタリングされた光が、前記フィルタリングされた光の偏光状態のために抑制されることのないように、前記フィルタリングされた光の偏光状態を回転するステップと
    をさらに含む請求項９に記載の方法。
    
    

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