JPH03257919A - 熱処理装置 - Google Patents

熱処理装置

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Publication number
JPH03257919A
JPH03257919A JP5496690A JP5496690A JPH03257919A JP H03257919 A JPH03257919 A JP H03257919A JP 5496690 A JP5496690 A JP 5496690A JP 5496690 A JP5496690 A JP 5496690A JP H03257919 A JPH03257919 A JP H03257919A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
box
gas
heat treatment
wafer
door
Prior art date
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Pending
Application number
JP5496690A
Other languages
English (en)
Inventor
Yutaka Torii
鳥居 裕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP5496690A priority Critical patent/JPH03257919A/ja
Publication of JPH03257919A publication Critical patent/JPH03257919A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、熱処理装置、特に、所定のガス雰囲気内で
熱処理される、例えば、半導体素子の製造工程などにお
いて用いられる熱処理装置に関するものである。
[従来の技術] 第2図は従来のこの種の熱処理装置、例えば、半導体素
子の熱処理装置の一例を示す断面図である。
図において、符号(1)は炉内温度を所定温度にするた
めのヒーター、(2)は石英又はSiCなどで作られ、
ヒーター(1)内に設けられているチューブ、(3)は
チューブ(2)内を特定のガス雰囲気にするためにガス
を導入するガス導入口、(4)は熱処理される被処理材
であるSiなどからなる半導体用のウェハ、(5)はウ
ェハ(4)を乗せるためのボート、(6〉はウェハ(4
)が乗せられているボート(5)をチューブ(2)内に
入れるためのフォーク、(7)はウェハ(4)がチュー
ブ(2〉内に挿入された後、チューブ(2)の入口(2
a)を閉じるためのキャップである。
次に上記従来装置の動作について説明する。
従来は、第2図のように、ウェハ(4)をボート(5)
上に乗せた後、フォーク〈6〉によって、ボート〈5〉
上のウェハ(4)をチューブ(2a〉内へ挿入する。
挿入し終わると共に、チューブ(2)の入口(2a〉を
キャップ(7)によってrRIIして密閉する。
次いでガス導入口(3)より所定ガスをチューブ(2)
内に注入した後、加熱して熱処理を行なう。
熱処理を完了すると、フォーク(6)によって、ウェハ
(4)の乗っているボート(5)を引き出す。
この引出しの際、キャップ(7)は自動的に外れて、ボ
ート(5)及びウェハ(4)は引き出される。
[発明が解決しようとする課題] 従来の熱処理装置は、以上のように構成されているので
、チューブ(2〉へのウェハ(4)及びボート(5)の
挿入及び引出し時に、外気が、チューブ(2)内、すな
わち、ウェハ(4〉の周囲に回り込み、これによって、
ウェハ(4)ひいては半導体素子へ悪影響を及ぼすとい
う問題点があった。
一方、このような問題点を解決するためには、低温下で
ウェハ(4〉をチューブ(2〉内に挿入又は引き出しを
すると共に、導入するガスのガス流量を増加するなどの
手段があるが、これによると、処理時間が非常に長くな
ると共に、所要ガス量も多くなり、しかも、完全には外
気の回込みを防止することはできないなどの問題点があ
った。
この発明は、上記のような問題点を解決することを課題
とするもので、作業時間も長くなく、がっ、所要ガス量
も増量せず、しがも、外気の回込みを完全に防止できる
熱処理装置を得ることを目的とする。
[課題を解決するための手段] この発明に係る熱処理装置は、被処理材を封入すると共
にガスを導入するガス導入口を備えかつ一端に上記被処
理材を出入する開閉扉を備えている可搬のボックスと、
被処理材を封入しているボックスを搬入して加熱熱処理
する加熱炉とを備えているものである。
[作 用] この発明における熱処理装置は、上記のように構成され
ているので、被処理材をボックス内に入れた後、開閉扉
を閉じてボックスを密閉し、次いで、ガス導入口より所
定ガスを導入してボックス内を所定のガス雰囲気とする
と共に、所定温度の加熱炉中に入れて熱処理を行なう。
また、引出しに際しては、ボックスは密閉されたまま引
き出され、最適状態において開閉扉を開いて、被処理材
は取り出される。
[実施例] 以下、この発明をその一実施例を示す図に基づいて説明
する。なお、符号(1) 、(4)〜(6)で示すもの
は、従来装置において同一符号で示したものと同−又は
同等のものである。
図において、符号(11)は石英あるいはSiCなどで
作られ、内部に被処理材であるウェハ(4)を収容する
可搬のボックス、(lla)はウェハ(4)の乗ったボ
ート〈5〉をボックス(11〉内に収容するためにボッ
クス(11)の一端に設けられている開閉自由な開閉扉
、(llb)はボックス(11)に取り付けられて、ボ
ックス(11)内を特定のガス雰囲気にするために、図
示されていないガス源から所定ガスを導入するガス導入
口である。また、(12)はヒーター(1〉内に設けら
れているチューブであって、ヒーター(1)と共に加熱
炉(13)を構成する。
次にこの実施例の動作について説明する。
初めに、フォーク(6〉上の所定の位置に設置されてい
るボックス(11)の1jFJ閉扉(1h)を開いてウ
ェハ(4〉を乗せたボート(5)をボックス(11)内
に入れる。
次いで、開閉扉(l1m)を閉じると共に、ガス導入口
(llb)より所定のガスを導入し、ボックス(11〉
内を特定のガス雰囲気にする。
次に、フォーク(6)によって、所定の温度に設定され
ているチューブ(12〉内に、上記ウェハ(4)を収容
しガス雰囲気下にあるボックス(11)を挿入して熱処
理を行なう。
熱処理完了後は、フォーク(6〉によってボックス(1
1〉を引き出す。
引出し完了後、回連時期をみて開閉扉(11a)を開き
、ボックス(11)内よりウェハ(4)を乗せたボート
(5)と共にウェハ(4)を取り出す。
[発明の効果] 以上のように、この発明によれば、熱処理装置を、被処
理材を封入すると共にガスを導入するガス導入口を備え
かつ一端に上記被処理材を出入する開閉扉を備えている
可搬のボックスと、被処理材を封入しているボックスを
搬入して加熱熱処理する加熱炉とを備えているので、外
気の回込みも完全に防止できると共に、作業時間も短く
てすみ、かつ、ガス所要Iも増量の必要もなく必要最小
限で足りる熱処理装置が得られる効果を有している。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による熱処理装置を示す概
略構成断面図、第2図は従来の熱処理装置の一例を示す
概略構成断面図である。 (1)・・・ヒーター、(4)・・・被処理材(ウェハ
)、(11)・・・ボックス、(l1m)・・・開閉扉
、(llb)・・・ガス導入口、(12)・・・チュー
ブ、(13)・・・加熱炉。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 ヒータ 祁ン賠it材(つエバ) ホeクス IWl閉厚 rス41へ口 13:ID19炉

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 被処理材を封入すると共にガスを導入するガス導入口を
    備え、かつ、一端に上記被処理材を出入する開閉扉を備
    えている可搬のボックスと、被処理材を封入しているボ
    ックスを搬入して加熱熱処理する加熱炉とを備えている
    ことを特徴とする熱処理装置。
JP5496690A 1990-03-08 1990-03-08 熱処理装置 Pending JPH03257919A (ja)

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JP5496690A JPH03257919A (ja) 1990-03-08 1990-03-08 熱処理装置

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JP5496690A JPH03257919A (ja) 1990-03-08 1990-03-08 熱処理装置

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JPH03257919A true JPH03257919A (ja) 1991-11-18

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ID=12985402

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JP5496690A Pending JPH03257919A (ja) 1990-03-08 1990-03-08 熱処理装置

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