JP2964650B2 - 開管式プレデポジション拡散方式 - Google Patents

開管式プレデポジション拡散方式

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JP2964650B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置、特に
開管式プレデポジション拡散方式に関する。
【0002】
【従来の技術】シリコン基板に対するP型不純物として
のガリウム(Ga)拡散はサイリスタやGTOのPベー
ス層やPエミッタ層の形成のために多く用いられてい
る。ガリウム拡散の方法は種々あるが、開管式ガリウム
プレデポジション拡散方法を図3に示す。
【0003】まず、同図(a)に示すように石英アンプ
ル管1内に拡散源である金属ガリウムを入れた炭化ケイ
素(SiC)製拡散源ボート2と、石英製ボート3に載
せたシリコン基板4を挿入しておく。アンプル管1のキ
ャップ5はアンプル管口との間に隙間を持つ構成にされ
る。
【0004】同図(a)に示すアンプル管セットは、同
図(b)に示すように石英製炉芯管6とヒータ7を備え
る拡散炉内に挿入し、キャップ5を炉内で外しておく。
この状態で炉芯管6の一方の管口から窒素ガス(N2
を注入し、他方の管口から排気する前処理を所定時間行
い、拡散炉内及びアンプル管1内を窒素ガスでパージす
る。
【0005】次に、同図(c)に示すように、炉芯管6
のキャップ6Aを開け、その開口部より石英棒を用いて
石英アンプル管1のキャップ5を該アンプル管1にセッ
トする。この後、炉芯管6の小キャップ6Aを閉じ、さ
らに所定時間窒素ガスでパージする。
【0006】上述のパージ後、ヒータ7の運転によって
拡散炉を所定の温度(900〜1200度)まで昇温
し、所定時間の熱処理を行ってシリコン基板4面へのガ
リウム拡散を行う。この熱処理後、拡散炉が40〜60
度以下に冷却したときに炉内からアンプル管1を取り出
し、ガリウム拡散したシリコン基板を回収する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来の開管式プレデポ
ジション拡散方法には以下のような問題があった。
【0008】(a)ガリウム拡散源やシリコン基板をセ
ットしたアンプル管1を炉芯管6内に入れて拡散を行う
二重炉芯管方式となるため、シリコン基板の直径に較べ
て50〜70ミリメートル程度内径の大きな炉芯管6を
必要とする。このため、4インチ径のシリコン基板に拡
散するには150〜170ミリメートル以上の大口径の
炉芯管を必要とし、拡散炉や炉芯管等の設備コストが高
くなる。
【0009】(b)拡散炉が二重炉芯管方式となるた
め、炉内の空気を窒素ガスで置換するための窒素ガスパ
ージが2段階で行われ、夫々の処理には10〜20時間
を必要とする長時間になり、ガスパージ処理のみで20
〜40時間も必要として拡散処理工数の大半を占めると
いう効率の悪さがある。
【0010】(c)拡散炉が大口径になるため、運転コ
ストである電力消費量が増大する。
【0011】本発明の目的は、上述の課題、特にガスパ
ージの時間短縮を図った拡散方式を提供することにあ
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題の解決
を図るため、拡散炉の炉芯管内にシリコン基板と不純物
拡散源をセットする拡散室を構成するノズル孔付き隔壁
と可動のキャップと、前記炉芯管内に前記隔壁側の炉芯
管口からパージ用窒素ガスを導入可能にする弁手段と、
前記炉芯管内のキャップセット位置と該炉芯管のガス排
気口を持つ炉芯管キャップとの間に窒素ガスを常時注入
する外気流入防止用ガス注入手段とを備え、前記弁手段
の開によるパージ用ガス注入と前記ガス注入手段からガ
ス注入した後に炉芯管キャップを開けて前記シリコン基
板と不純物拡散源を拡散室内にセットし、次いで可動の
キャップを拡散室構成位置にセットして前記炉芯管キャ
ップを閉じた後に所定時間のガスパージを行い、次いで
前記弁手段を閉じた後に拡散炉ヒータを運転して熱処理
を行うことを特徴とする。
【0013】
【作用】上記方式になる本発明によれば、炉芯管内にガ
ス注入ノズル付き隔壁と可動のキャップセットで拡散室
を構成することで一重炉芯管構成とし、炉芯管の排気口
側にガス注入手段を設けることでガスパージ後の拡散に
ガス注入手段から排気口側へのガス流路を形成して拡散
時の外気流入を防ぐ。
【0014】
【実施例】図1は本発明の一実施例を示す装置構成図で
ある。本実施例では従来の二重炉芯管方式に対して一重
炉芯管方式にされる。炉芯管11は、周囲をヒータ12
で覆われ、窒素ガスの流入経路が2系統にされる。
【0015】一方のガス流入経路はガスパージ専用の系
統にされ、炉芯管11の一方の口から弁手段としてのガ
スコック13の開で注入される窒素ガスは炉芯管11内
の隔壁14のノズル15を通して拡散室に吹出される。
拡散室はシリコン基板16とガリウム拡散源17が挿入
され、隔壁14とガリウム蒸気閉じ込め用の可動のキャ
ップ18で蓋される構成にされる。この拡散室を経た窒
素ガスは拡散炉キャップ19の排気口から排気される。
【0016】他方のガス流入経路は、窒素ガスを拡散炉
に常時流入させて外気の流入を防止する系統にされ、拡
散炉キャップ19と拡散室との間に窒素ガス注入口を有
するガス注入管20を有し、この注入口からの窒素ガス
を排気口から排出させることでキャップ19の排気口か
ら流入した外気が拡散室側に流入するのを防止する。
【0017】上述の構成において、拡散室は隔壁14と
キャップ18によって炉芯11内を仕切り、拡散時にガ
リウム拡散源17から発生するガリウム蒸気を閉じ込め
る。そして、窒素ガスパージを行うときには隔壁14の
ノズル15を通して窒素ガスが注入され、キャップ18
と炉芯管11とのわずかな隙間を通して窒素ガスの流出
があるが、拡散時にはパージ用の窒素ガスを止めるも排
気口近くの外気流入防止用の窒素ガスの流入によって外
気が拡散室に流入するのを防止する。以下、本実施例に
よる拡散手順を詳細に説明する。
【0018】(1)図2の(a)に示すように、ガスパ
ージ用のコック13を開き、窒素ガスを拡散室側へ流入
させる。同時に、外気流入防止用の窒素ガスを注入管2
0側から流入させる。これらガス注入は、例えばパージ
用は6〜12リットル/分、外気流入防止用は1〜3リ
ットル/分にされる。この状態で炉芯管11のキャップ
19を外し、ガリウム拡散源17及びシリコン基板16
をセットしたボートを拡散室に挿入する。
【0019】(2)図2の(b)に示すように、前述の
状態からガリウム蒸気を閉じ込めるためのキャップ18
を所定位置にセットし、拡散炉のキャップ19を閉じ
る。この状態で拡散室内を窒素ガスでパージするため数
時間例えば2〜4時間だけ窒素ガスの注入を続ける。
【0020】(3)上述のガスパージ終了後、図2の
(c)に示すように、コック13を閉じてパージ用ガス
注入を止め、流入管20側からのガス注入は続行させて
外気流入を防ぐ。この状態で拡散炉のヒータ12の電源
を入れ、所定の温度(900〜1200度)で所定時間
の熱処理を行い、シリコン基板16にガリウム拡散を行
う。
【0021】(4)上述のガリウム拡散時間経過でヒー
タ12の電源を切り、拡散炉の冷却を待ってシリコン基
板16の回収を行う。
【0022】以上までの処理手順によれば、拡散時には
パージ用の窒素ガスを止めるも排気口近くの外気流入防
止用の窒素ガスの注入によって外気の流入を防止する。
また、隔壁14のノズル孔を小口径(例えば1〜3ミリ
メートル)とし、キャップ18と炉芯管11の内壁との
隙間も小さく(例えば1〜3ミリメートル)することに
より、シリコン基板16の周囲には窒素ガスの流入を防
止し、ガリウム蒸気を充満させることができる。
【0023】従って、一重炉芯管方式にしながら従来の
二重炉芯管方式と同等の拡散状態を得ることができ、ガ
リウムプレデポジション拡散を実現できる。しかも、本
実施例では窒素ガスパージには一段階でしかも直接に拡
散室にガス注入を行うため、ガスパージの時間を従来方
式に較べて大幅に短縮(約1/5)にでき、全拡散工程
の時間でも約1/2以下になり、相対的に拡散処理量を
倍増できる。また、本実施例では一重炉芯管方式となる
ため、拡散炉の口径をシリコン基板の径よりも20〜3
0ミリメートル程度大きい内径のもので済み、従来のも
のに較べて小口径の拡散炉構成にして設備コストや電力
消費量を低くすることができる。
【0024】
【発明の効果】以上のとおり、本発明によれば、隔壁と
可動のキャップによって炉芯管内に直接に拡散室を構成
する一重炉芯管方式とするため、ガスパージが拡散室に
対して直接のガス注入になってガスパージ時間を大幅に
短縮すると共に炉芯管径の小径化ひいては拡散炉の小型
化及び低コストにする効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す装置構成図。
【図2】実施例の拡散手順図。
【図3】従来の拡散手順図。
【符号の説明】
11…炉芯管 12…ヒータ 13…コック 14…隔壁 15…ノズル 16…シリコン基板 17…ガリウム拡散源 18…キャップ 19…炉芯管キャップ

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 拡散炉の炉芯管内にシリコン基板と不純
    物拡散源をセットする拡散室を構成するノズル孔付き隔
    壁と可動のキャップと、前記炉芯管内に前記隔壁側の炉
    芯管口からパージ用窒素ガスを導入可能にする弁手段
    と、前記炉芯管内のキャップセット位置と該炉芯管のガ
    ス排気口を持つ炉芯管キャップとの間に窒素ガスを常時
    注入する外気流入防止用ガス注入手段とを備え、前記弁
    手段の開によるパージ用ガス注入と前記ガス注入手段か
    らガス注入した後に炉芯管キャップを開けて前記シリコ
    ン基板と不純物拡散源を拡散室内にセットし、次いで可
    動のキャップを拡散室構成位置にセットして前記炉芯管
    キャップを閉じた後に所定時間のガスパージを行い、次
    いで前記弁手段を閉じた後に拡散炉ヒータを運転して熱
    処理を行うことを特徴とする開管式プレデポジション拡
    散方式。
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