JPH03257418A - 光ビーム走査装置 - Google Patents
光ビーム走査装置Info
- Publication number
- JPH03257418A JPH03257418A JP5711490A JP5711490A JPH03257418A JP H03257418 A JPH03257418 A JP H03257418A JP 5711490 A JP5711490 A JP 5711490A JP 5711490 A JP5711490 A JP 5711490A JP H03257418 A JPH03257418 A JP H03257418A
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- Japan
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- scanning line
- scanning
- light beam
- pattern
- light
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- Pending
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、半導体レーザ等の光ビームを集光して走査す
るために用いられる光ビーム走査装置に関するものであ
る。
るために用いられる光ビーム走査装置に関するものであ
る。
従来の技術
従来、光ビーム走査装置として、一般には第３図に示す
構成が知られている。以下、第３図に示す斜視図を参照
しながら従来の光ビーム走査装置について説明する。
構成が知られている。以下、第３図に示す斜視図を参照
しながら従来の光ビーム走査装置について説明する。
第３図において、１はレーザ光源、２は回転軸を中心と
して回転する回転板、３ａ、３ｂ、３ｃ、・・・はホロ
グラムであり、回転板２上の外周部に複数組（図示例で
は８組）配置されている。４は後述する走査線８０頭出
しのための検出器、６は像を投影する投影面である。
して回転する回転板、３ａ、３ｂ、３ｃ、・・・はホロ
グラムであり、回転板２上の外周部に複数組（図示例で
は８組）配置されている。４は後述する走査線８０頭出
しのための検出器、６は像を投影する投影面である。
以上のような構成において、以下、その動作について説
明する。
明する。
３ ベーン
レーザ光源１から出射され、モータ（図示省略）の駆動
による回転板２の回転に伴い、いずれかのホログラム３
ａの端部に照射された光ビームである再生光６は、この
ホログラム３ａで大きく回折され、回折光７となって検
出器４に到達する。
による回転板２の回転に伴い、いずれかのホログラム３
ａの端部に照射された光ビームである再生光６は、この
ホログラム３ａで大きく回折され、回折光７となって検
出器４に到達する。
検出器４に入射した回折光７は、電気信号に変換されて
走査線８の頭出しのための信号を作る。続いて回転板２
の回転に伴い、頭出しの信号のタイミングに従って、回
折光７により投影面６に走査線８が描かれる。したがっ
て、実際に必要な走査線８よりも長い走査線を描き、そ
の一部を走査線８の頭出しのために使用することになる
。
走査線８の頭出しのための信号を作る。続いて回転板２
の回転に伴い、頭出しの信号のタイミングに従って、回
折光７により投影面６に走査線８が描かれる。したがっ
て、実際に必要な走査線８よりも長い走査線を描き、そ
の一部を走査線８の頭出しのために使用することになる
。
このように、従来の光ビーム走査装置においては、実際
に必要な走査線８よりも長い走査線を描くようにし、そ
の一部を検出器４で検出して走査線８０頭出しに使用す
るようにしている。
に必要な走査線８よりも長い走査線を描くようにし、そ
の一部を検出器４で検出して走査線８０頭出しに使用す
るようにしている。
発明が解決しようとする課題
しかし、以上のような従来例の構成では、プリント等の
目的のための走査長よりも長い距離を走査する必要があ
るため、光ビームの走査特性が劣化し、しかも、装置の
小型化を図ることができないなどの課題を有していた。
目的のための走査長よりも長い距離を走査する必要があ
るため、光ビームの走査特性が劣化し、しかも、装置の
小型化を図ることができないなどの課題を有していた。
本発明の目的は、上記従来技術の課題を解決するもので
あり、小型化を図ることができるようにした光ビーム走
査装置を提供し、また、上記目的に加えて頭出し用のビ
ームの収束性をよくすることができるようにした光ビー
ム走査装置を提供しようとするものである。
あり、小型化を図ることができるようにした光ビーム走
査装置を提供し、また、上記目的に加えて頭出し用のビ
ームの収束性をよくすることができるようにした光ビー
ム走査装置を提供しようとするものである。
課題を解決するための手段
上記目的を達成するための本発明の技術的解決手段は、
光源と、回転軸を中心として回転する回転板と、この回
転板に配置され、上記光源から入射する光ビームを回折
する走査用のパターンおよび上記光源から入射する光ビ
ームを回折する頭出し用のパターンを有するホログラム
とを備え、上記頭出し用のパターンにより回折された光
ビームが上記走査用のパターンにより回折された光ビー
ムで描かれる走査線上およびその延長線上に位置せず、
かつ上記走査線の長さ範囲内に位置するように構成され
たものである。
光源と、回転軸を中心として回転する回転板と、この回
転板に配置され、上記光源から入射する光ビームを回折
する走査用のパターンおよび上記光源から入射する光ビ
ームを回折する頭出し用のパターンを有するホログラム
とを備え、上記頭出し用のパターンにより回折された光
ビームが上記走査用のパターンにより回折された光ビー
ムで描かれる走査線上およびその延長線上に位置せず、
かつ上記走査線の長さ範囲内に位置するように構成され
たものである。
５ ベーン
また、上記ホログラムの頭出し用のパターンが回折する
光ビームを走査線の中心部でこの走査線と直交する線上
に位置させるように構成されたものである。
光ビームを走査線の中心部でこの走査線と直交する線上
に位置させるように構成されたものである。
そして、上記ホログラムパターンを電子ビームを用いた
描画装置によって描画することができる。
描画装置によって描画することができる。
作用
したがって、本発明によれば、回転板を回転させ、光源
から出射した光ビームをホログラムに照射すると、まず
、頭出し用のパターンにより回折され、続いて走査用の
パターンにより回折される。
から出射した光ビームをホログラムに照射すると、まず
、頭出し用のパターンにより回折され、続いて走査用の
パターンにより回折される。
そして、頭出し用のパターンにより回折された光ビーム
が走査線およびその延長線に位置せず、しかも、走査線
の長さ範囲内に位置するようにしているので、走査線を
頭出しのために必要以上の走査長にする必要がない。
が走査線およびその延長線に位置せず、しかも、走査線
の長さ範囲内に位置するようにしているので、走査線を
頭出しのために必要以上の走査長にする必要がない。
また、上記頭出し用のパターンにより回折された光ビー
ムが走査線の中心部でこの走査線と直交する線上に位置
させることにより、回折角がほぼ零となり、収差を少な
くすることができる。
ムが走査線の中心部でこの走査線と直交する線上に位置
させることにより、回折角がほぼ零となり、収差を少な
くすることができる。
６ ・ ／
実施例
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
第１図および第２図は本発明の一実施例における光ビー
ム走査装置を示し、第１図は斜視図、第２図はホログラ
ムの拡大図である。
ム走査装置を示し、第１図は斜視図、第２図はホログラ
ムの拡大図である。
本実施例においては、第３図に示す上記従来例と同一部
分については同一符号を付しその説明を省略する。
分については同一符号を付しその説明を省略する。
第１図に示すように、回転軸を中心として回転する回転
板２上の外周部に複数組（図示例では８組）配置された
各ホログラム３ａ、３ｂ、３Ｃ１・・・は、第２図に示
すように、大きい区画と小さい区画に２分割され、大き
い区画に走査用のノくターン１ｏが設けられ、小さい区
画に頭出し用のノくターン１１が設けられている。各ホ
ログラム３ａ、３ｂ。
板２上の外周部に複数組（図示例では８組）配置された
各ホログラム３ａ、３ｂ、３Ｃ１・・・は、第２図に示
すように、大きい区画と小さい区画に２分割され、大き
い区画に走査用のノくターン１ｏが設けられ、小さい区
画に頭出し用のノくターン１１が設けられている。各ホ
ログラム３ａ、３ｂ。
３Ｃ１・・・において、頭出し用パターン１１は走査用
のパターン１０に対し、回転板２の回転方向の上流側に
配置されている。そして、第１図に示すように、レーザ
光源１から出射した再生光６は、７１＜−２ 回転軸を中心にして回転する回転板２上のホログラム３
ａｓ ３ｂ、３ｃ、・・・に入射する。各ホログラム３
ａ ｓ３ｂ １３ ｃ ｓ・・・において、再生光６
は、まず、頭出し用のパターン１１により回折され、収
束波である回折光７となって検出器４に入り、続いて回
転板２の回転に伴い、走査用のパターン１ｏにより回折
され、収束波である回折光７となって投影面５上に結像
し、走査線８を描くことができる。そして、上記のよう
に頭出し用のパターン１１により回折された回折光７が
走査用のパターン１０により回折された回折光７で描か
れる走査線８上およびその延長線上に位置せず、走査線
８の長さ範囲内、図示例では、走査線８の中心部でこの
走査線８と直交する線１２上に位置するように構成され
ている。したがって、検出器４もこれに対応する位置に
配設されている。このようなホログラムパターン１０，
１１は、位相の異なる２光線束の干渉によって形成する
と、工程が増えて困難であるので、検出器４と投影面６
での光ビームの特性が最適化されたパターンを設計した
上で、電子ビーム、あるいはレーザービーム等を用いた
描画装置によって描画する。
のパターン１０に対し、回転板２の回転方向の上流側に
配置されている。そして、第１図に示すように、レーザ
光源１から出射した再生光６は、７１＜−２ 回転軸を中心にして回転する回転板２上のホログラム３
ａｓ ３ｂ、３ｃ、・・・に入射する。各ホログラム３
ａ ｓ３ｂ １３ ｃ ｓ・・・において、再生光６
は、まず、頭出し用のパターン１１により回折され、収
束波である回折光７となって検出器４に入り、続いて回
転板２の回転に伴い、走査用のパターン１ｏにより回折
され、収束波である回折光７となって投影面５上に結像
し、走査線８を描くことができる。そして、上記のよう
に頭出し用のパターン１１により回折された回折光７が
走査用のパターン１０により回折された回折光７で描か
れる走査線８上およびその延長線上に位置せず、走査線
８の長さ範囲内、図示例では、走査線８の中心部でこの
走査線８と直交する線１２上に位置するように構成され
ている。したがって、検出器４もこれに対応する位置に
配設されている。このようなホログラムパターン１０，
１１は、位相の異なる２光線束の干渉によって形成する
と、工程が増えて困難であるので、検出器４と投影面６
での光ビームの特性が最適化されたパターンを設計した
上で、電子ビーム、あるいはレーザービーム等を用いた
描画装置によって描画する。
以上の構成において、以下、その動作について説明する
。
。
回転板２をモータ（図示省略）の駆動により回転させる
。そして、光源１から出射した光ビームである再生光６
が、ホログラム３ａの頭出し用のパターン１１を照射す
ると、この頭出し用のパターン１１により収束波である
回折光７となり、走査線８の中心部でこの走査線８と直
交する線１２上に配置されている検出器４に到達する。
。そして、光源１から出射した光ビームである再生光６
が、ホログラム３ａの頭出し用のパターン１１を照射す
ると、この頭出し用のパターン１１により収束波である
回折光７となり、走査線８の中心部でこの走査線８と直
交する線１２上に配置されている検出器４に到達する。
検出器４では回折光７を電気信号に変換して走査線８の
頭出しのための信号を作る。続いて回転板２０回転に伴
い、再生光６が走査用のホログラムパターン１０を照射
すると、頭出しの信号のタイミングに従って回折光７に
より投影面６に走査線８を描くことができる。
頭出しのための信号を作る。続いて回転板２０回転に伴
い、再生光６が走査用のホログラムパターン１０を照射
すると、頭出しの信号のタイミングに従って回折光７に
より投影面６に走査線８を描くことができる。
このように、頭出し用のパターン１１による回折光７を
走査線８の中心部でこの走査線８と直交する線１２上に
位置させることにより、その回折９ ベ−７ 角がほぼ零となり、ホログラムパターン１１による収差
が少ないので、光ビームの収束性がよく、質のよいビー
ムを得ることが可能となる。また、走査線８の長さに対
して必要以上に装置が大型化しない。
走査線８の中心部でこの走査線８と直交する線１２上に
位置させることにより、その回折９ ベ−７ 角がほぼ零となり、ホログラムパターン１１による収差
が少ないので、光ビームの収束性がよく、質のよいビー
ムを得ることが可能となる。また、走査線８の長さに対
して必要以上に装置が大型化しない。
なお、上記実施例では、頭出し用のパターン１１で回折
された光ビームが走査用のパターン１ｏで回折された光
ビームで描かれる走査線８の中心部でこの走査線８に直
交する線１２上に位置するようにパターン１１が設計さ
れているが、走査線８およびその延長線上でなく、走査
線８の長さ範囲内であれば、中心部に限定する必要はな
く、任意の位置となるように設計することができ、検出
器４は勿論、上記位置に対応するように配設する。
された光ビームが走査用のパターン１ｏで回折された光
ビームで描かれる走査線８の中心部でこの走査線８に直
交する線１２上に位置するようにパターン１１が設計さ
れているが、走査線８およびその延長線上でなく、走査
線８の長さ範囲内であれば、中心部に限定する必要はな
く、任意の位置となるように設計することができ、検出
器４は勿論、上記位置に対応するように配設する。
発明の効果
以上述べたように本発明によれば、走査線を得るための
ホログラムパターンと走査線の頭出しのためのホログラ
ムパターンを分離独立させ、頭出し用のパターンに回折
された光ビームが走査線お１０ ・＼−ノ よびその延長線上に位置せず、しかも、走査線の長さ範
囲内に位置するようにしているので、走査線を頭出しの
ために必要以上の走査長にする必要がなく、勿論、走査
線の頭出しのための検出器を走査線の長さ幅に配置する
ことができ、したがって、小型化を図ることができる。
ホログラムパターンと走査線の頭出しのためのホログラ
ムパターンを分離独立させ、頭出し用のパターンに回折
された光ビームが走査線お１０ ・＼−ノ よびその延長線上に位置せず、しかも、走査線の長さ範
囲内に位置するようにしているので、走査線を頭出しの
ために必要以上の走査長にする必要がなく、勿論、走査
線の頭出しのための検出器を走査線の長さ幅に配置する
ことができ、したがって、小型化を図ることができる。
また、頭出し用のパターンにより回折された光ビームが
走査線の中心部でこの走査線と直交する線上に位置させ
ることにより、回折角がほぼ零となり、収差を少なくし
て光ビームの収束性をよくすることができる。
走査線の中心部でこの走査線と直交する線上に位置させ
ることにより、回折角がほぼ零となり、収差を少なくし
て光ビームの収束性をよくすることができる。
第１図および第２図は本発明の一実施例における光ビー
ム走査装置を示し、第１図は斜視図、第２図はホログラ
ムの拡大図、第３図は従来の光ビーム走査装置を示す斜
視図である。 １・・・光源、２・・・回転板、３ａ、 ３ｂ、 ３ｃ
・・・ホログラム、４・・・検出器、５・・・投影面、
６・・・再生光、７・・・回折光、８・・・走査線、１
０・・・走査用のパターン、１１・・・頭出し用のパタ
ーン。
ム走査装置を示し、第１図は斜視図、第２図はホログラ
ムの拡大図、第３図は従来の光ビーム走査装置を示す斜
視図である。 １・・・光源、２・・・回転板、３ａ、 ３ｂ、 ３ｃ
・・・ホログラム、４・・・検出器、５・・・投影面、
６・・・再生光、７・・・回折光、８・・・走査線、１
０・・・走査用のパターン、１１・・・頭出し用のパタ
ーン。
Claims (3)
- （１）光源と、回転軸を中心として回転する回転板と、
この回転板に配置され、上記光源から入射する光ビーム
を回折する走査用のパターンおよび上記光源から入射す
る光ビームを回折する頭出し用のパターンを有するホロ
グラムとを備え、上記頭出し用のパターンにより回折さ
れた光ビームが上記走査用のパターンにより回折された
光ビームで描かれる走査線上およびその延長線上に位置
せず、かつ上記走査線の長さ範囲内に位置するように構
成された光ビーム走査装置。 - （２）ホログラムの頭出し用のパターンが回折する光ビ
ームを走査線の中心部でこの走査線と直交する線上に位
置させるように構成された請求項１記載の光ビーム走査
装置。 - （３）ホログラムパターンが電子ビームを用いた描画装
置によつて描画された請求項１記載の光ビーム走査装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5711490A JPH03257418A (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 光ビーム走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5711490A JPH03257418A (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 光ビーム走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03257418A true JPH03257418A (ja) | 1991-11-15 |
Family
ID=13046506
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5711490A Pending JPH03257418A (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 光ビーム走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03257418A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5504595A (en) * | 1992-05-26 | 1996-04-02 | Symbol Technologies, Inc. | Holographic scanning |
| US5900954A (en) * | 1992-06-01 | 1999-05-04 | Symbol Technologies, Inc. | Machine readable record carrier with hologram |
| JP2008310240A (ja) * | 2007-06-18 | 2008-12-25 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置、および画像形成装置 |
-
1990
- 1990-03-08 JP JP5711490A patent/JPH03257418A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5504595A (en) * | 1992-05-26 | 1996-04-02 | Symbol Technologies, Inc. | Holographic scanning |
| US5555130A (en) * | 1992-05-26 | 1996-09-10 | Symbol Technologies, Inc. | Holographic scanning |
| US5900954A (en) * | 1992-06-01 | 1999-05-04 | Symbol Technologies, Inc. | Machine readable record carrier with hologram |
| JP2008310240A (ja) * | 2007-06-18 | 2008-12-25 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置、および画像形成装置 |
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