JPH03242808A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH03242808A JPH03242808A JP3868190A JP3868190A JPH03242808A JP H03242808 A JPH03242808 A JP H03242808A JP 3868190 A JP3868190 A JP 3868190A JP 3868190 A JP3868190 A JP 3868190A JP H03242808 A JPH03242808 A JP H03242808A
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Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
本発明はVTR(ビデオテープレコーダ)、DAT(デ
ジタルオーディオテープレコーダ)等の磁気記録装置に
使用される磁気ヘッドに関する。
ジタルオーディオテープレコーダ)等の磁気記録装置に
使用される磁気ヘッドに関する。
(ロ)従来の技術
第16図は従来のVTR用磁気ヘッドのテープ摺接面を
示す図、第17図は第16図のP−P”断面図である。
示す図、第17図は第16図のP−P”断面図である。
一対の磁気コア半体(la)(lb)はS、O,等の非
磁性絶縁材料よりなるギャップスペーサを介して衝き合
わされており、該衝き合わせ部に作動ギャップ(2)が
形成される。前記作動ギャップ(2)のトランク幅T
wはその両側に設けられたトラ・ンク幅規制溝(3)(
3)により規制されており、該トラック幅規制溝(3)
(3)内にはコア半体接合用のガラス(4)(4)が充
填されている。また、前記作動ギヤング(2)のギャッ
プ下端(5)は一方の磁気コア半体(1a)に設けられ
た巻線溝(6)の上端により規定されており、これによ
りギャップ深さdoが決定する。この種の磁気ヘッドの
場合、前記作動ギャップ(2)のギャップ深さdoが小
さくなると記録再生出力は向上するが、実際にはテープ
摺接面の摩耗によるギャップ深さd。の減少を考慮して
ヘッド完成状態でのギャップ深さd。は20〜30μm
程度に仕上げられる。
磁性絶縁材料よりなるギャップスペーサを介して衝き合
わされており、該衝き合わせ部に作動ギャップ(2)が
形成される。前記作動ギャップ(2)のトランク幅T
wはその両側に設けられたトラ・ンク幅規制溝(3)(
3)により規制されており、該トラック幅規制溝(3)
(3)内にはコア半体接合用のガラス(4)(4)が充
填されている。また、前記作動ギヤング(2)のギャッ
プ下端(5)は一方の磁気コア半体(1a)に設けられ
た巻線溝(6)の上端により規定されており、これによ
りギャップ深さdoが決定する。この種の磁気ヘッドの
場合、前記作動ギャップ(2)のギャップ深さdoが小
さくなると記録再生出力は向上するが、実際にはテープ
摺接面の摩耗によるギャップ深さd。の減少を考慮して
ヘッド完成状態でのギャップ深さd。は20〜30μm
程度に仕上げられる。
しかし乍ら、上述のような磁気ヘッドの場合、ヘッドの
寿命はギャップ深さd0=0になるまでと考えられるが
、実際にはそれ以前にインダクタンスや最適記録電流が
初期値に比べて大きく変化し、ギャップ深さd0=0に
なるまで使うことは出来ない。
寿命はギャップ深さd0=0になるまでと考えられるが
、実際にはそれ以前にインダクタンスや最適記録電流が
初期値に比べて大きく変化し、ギャップ深さd0=0に
なるまで使うことは出来ない。
(ハ)発明が解決しようとする課題
本発明は上記従来例の欠点に鑑み為されたものであり、
ヘッド寿命を短くすることなしに記録再生出力を向上さ
せた磁気ヘッドを提供することを目的とするものである
。
ヘッド寿命を短くすることなしに記録再生出力を向上さ
せた磁気ヘッドを提供することを目的とするものである
。
(ニ)課題を解決するための手段
本発明の磁気ヘッドは作動ギャップが第1のギャップ深
さと該第1のギャップ深さより短い第2のギャップ深さ
とを有することを特徴とする。
さと該第1のギャップ深さより短い第2のギャップ深さ
とを有することを特徴とする。
(ホ)作 用
上記構成に依れば、短い第2のギャップ深さにより記録
/再生出力が向上し、しかも、前記第2のギャップ深さ
がOになる以前にインダクタンスや記録電流特性の面で
寿命に達してしまい、前記第2のギャップ深さによる寿
命の低下はみられない。
/再生出力が向上し、しかも、前記第2のギャップ深さ
がOになる以前にインダクタンスや記録電流特性の面で
寿命に達してしまい、前記第2のギャップ深さによる寿
命の低下はみられない。
(へ)実施例
以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を詳細に説明
する。
する。
第2図は本実施例のテープ摺接面を示す図、第3図は第
2図のp−p’断面図、第4図は第2図のQ−Q’断面
図である。
2図のp−p’断面図、第4図は第2図のQ−Q’断面
図である。
本実施例の磁気ヘッドでは、フェライト等の強磁性酸化
物材料よりなるコア半体(7a)(7b)にセンダスト
等の強磁性金属薄膜(8)(8)が被着形成されており
、該強磁性金属薄膜(8)(8)同士がSO,等の非磁
性絶縁材料よりなるギャップスペーサ(9)を介して衝
き合わされている。前記強磁性金属薄膜(8)(8)の
衝き合わせ部には作動ギャップ(10)が形成され、該
作動ギャップ(10)のトラック幅T、はコア接合用の
ガラス(4)(4)が充填されているトラック幅規制溝
(3)(3)により規定される、一方のコア半体(7a
)には巻線溝(11)の上端に連結して四部(12)が
設けられており、該凹部(12)により前記強磁性金属
薄膜(8)及びギャップスペーサ(9)の下端(13)
が規定されている。
物材料よりなるコア半体(7a)(7b)にセンダスト
等の強磁性金属薄膜(8)(8)が被着形成されており
、該強磁性金属薄膜(8)(8)同士がSO,等の非磁
性絶縁材料よりなるギャップスペーサ(9)を介して衝
き合わされている。前記強磁性金属薄膜(8)(8)の
衝き合わせ部には作動ギャップ(10)が形成され、該
作動ギャップ(10)のトラック幅T、はコア接合用の
ガラス(4)(4)が充填されているトラック幅規制溝
(3)(3)により規定される、一方のコア半体(7a
)には巻線溝(11)の上端に連結して四部(12)が
設けられており、該凹部(12)により前記強磁性金属
薄膜(8)及びギャップスペーサ(9)の下端(13)
が規定されている。
第1図はギャップ衝き合わせ方向から観たギャップスペ
ーサ(9)の形状を示す図である。
ーサ(9)の形状を示す図である。
前記ギャップスペーサ(9)は、テープ摺接面側の端部
が第1直線部(14)でのみ構成されているのに対し、
ギャップ深さ規制側の端部は前記第1直線部(14)と
平行である第2直線部(15)と該第2直線部(15)
の両側に位置し45°傾斜している傾斜部(16)(1
6)とにより構成されている。このため、前記作動ギャ
ップ(10)のトラック中央部での第]のギャップ深さ
d、よりもトラック端部での第2のギャップ深さd、の
方が小さい値となる。本実施例では、トラック中央部で
の第1のギャップ深さdlが30μm、トラック端部で
の第2のギャップ深さd2が27〜30μmである。尚
、ギャップスペーサ(9)の具体的寸法は第1図中に明
記している。
が第1直線部(14)でのみ構成されているのに対し、
ギャップ深さ規制側の端部は前記第1直線部(14)と
平行である第2直線部(15)と該第2直線部(15)
の両側に位置し45°傾斜している傾斜部(16)(1
6)とにより構成されている。このため、前記作動ギャ
ップ(10)のトラック中央部での第]のギャップ深さ
d、よりもトラック端部での第2のギャップ深さd、の
方が小さい値となる。本実施例では、トラック中央部で
の第1のギャップ深さdlが30μm、トラック端部で
の第2のギャップ深さd2が27〜30μmである。尚
、ギャップスペーサ(9)の具体的寸法は第1図中に明
記している。
次に、上記実施例の磁気ヘッドの製造方法、特にギャッ
プ部の形成方法について説明する。
プ部の形成方法について説明する。
先ず、第5図に示すように強磁性酸化物材料よりなる基
板(]7)の上面に強磁性金属薄膜(8)及びギャップ
スペーサ(9)を被着形成し、該強磁性金属薄膜(8)
の上面にレジス) (18)を形成した後、前記レジス
ト(18)のフロントギャップ形成部上及びパックギャ
ップ形成部上に夫々マスク(19a)(19b)を形成
する。フロントギャップ形成部上に形成されたマスク(
19a)は第1図に示したギャップスペーサ(9)と同
形状をしている。
板(]7)の上面に強磁性金属薄膜(8)及びギャップ
スペーサ(9)を被着形成し、該強磁性金属薄膜(8)
の上面にレジス) (18)を形成した後、前記レジス
ト(18)のフロントギャップ形成部上及びパックギャ
ップ形成部上に夫々マスク(19a)(19b)を形成
する。フロントギャップ形成部上に形成されたマスク(
19a)は第1図に示したギャップスペーサ(9)と同
形状をしている。
次に、周知の如く露光及び現像を行い第6図に示すよう
に前記マスク(19a)(19b)の形状に従ってレジ
スト(18a)(18b)パターンを形成する。
に前記マスク(19a)(19b)の形状に従ってレジ
スト(18a)(18b)パターンを形成する。
次に、イオンビームエツチングを行うことにより第7図
に示すようにレジスト(18a)(18b)パターン未
形成部分の強磁性金属薄膜(8)及びギャップスペーサ
(9)を除去する。尚、このイオンビームエツチングに
より前記基板(17)の上面が少許除去され、こオLが
将来四部(12)となる。
に示すようにレジスト(18a)(18b)パターン未
形成部分の強磁性金属薄膜(8)及びギャップスペーサ
(9)を除去する。尚、このイオンビームエツチングに
より前記基板(17)の上面が少許除去され、こオLが
将来四部(12)となる。
次に、第8図に示すようにレジスト(18a )(18
b)パターンを除去する。これにより、前記基板(17
)−hにはフロントギャップ形成部上及びパックギャッ
プ形成部−t=にのみ強磁性金属薄膜(8)(8)及び
ギャップスペーサ(9)(9)が残る。フロントギャッ
プ形成部上に形成された強磁性金属薄膜(8)及びギャ
ップスペーサ(9)は第1図に示したギャップスペーサ
(9)と同形状をしており、第1直線部(14)、第2
直線部(15)、及び傾斜部(16)(16)を有して
いる。
b)パターンを除去する。これにより、前記基板(17
)−hにはフロントギャップ形成部上及びパックギャッ
プ形成部−t=にのみ強磁性金属薄膜(8)(8)及び
ギャップスペーサ(9)(9)が残る。フロントギャッ
プ形成部上に形成された強磁性金属薄膜(8)及びギャ
ップスペーサ(9)は第1図に示したギャップスペーサ
(9)と同形状をしており、第1直線部(14)、第2
直線部(15)、及び傾斜部(16)(16)を有して
いる。
次に、第8図に示す基板(17)の上面のうち、フロン
トギャップ形成部とパックギャップ形成部との間の領域
(20)に巻線溝を形成し、該巻線溝と直交するフロン
トギャップ形成部間からバックギャップ形成部間にかけ
ての領域(21)にトラック幅規制溝を形成する。この
巻線溝加工により凹部(12)が形成される前記基板(
17)は一方のコア半体(7a)を形成する基板となり
、以後は周知の如く、他方のコア半体(7b)を形成す
る基板(図示せず)と前記ギャップスペーサ(9)を介
して衝き合わせスライス等の機械加工を施すことにより
第2図〜第4図に示す本実施例の磁気ヘッドが完成する
。
トギャップ形成部とパックギャップ形成部との間の領域
(20)に巻線溝を形成し、該巻線溝と直交するフロン
トギャップ形成部間からバックギャップ形成部間にかけ
ての領域(21)にトラック幅規制溝を形成する。この
巻線溝加工により凹部(12)が形成される前記基板(
17)は一方のコア半体(7a)を形成する基板となり
、以後は周知の如く、他方のコア半体(7b)を形成す
る基板(図示せず)と前記ギャップスペーサ(9)を介
して衝き合わせスライス等の機械加工を施すことにより
第2図〜第4図に示す本実施例の磁気ヘッドが完成する
。
次に、第2図〜第4図に示す本実施例の磁気ヘッド及び
従来の磁気ヘッドにおいて、作動ギャップ(10)のギ
ャップ深さを減らしていった時のインダクタンス、最適
記録電流、及び出力の変化を夫々第9図、第10図及び
第11図に示す。
従来の磁気ヘッドにおいて、作動ギャップ(10)のギ
ャップ深さを減らしていった時のインダクタンス、最適
記録電流、及び出力の変化を夫々第9図、第10図及び
第11図に示す。
尚、ここで用いた従来の磁気ヘッドは、ギャップスペー
サ(9′)が第18図に示した形状である以外は本実施
例の磁気ヘッドと同一であり、各特性の測定は5 MH
zの信号を用いて8(1)VTRの仕様に従って行った
。
サ(9′)が第18図に示した形状である以外は本実施
例の磁気ヘッドと同一であり、各特性の測定は5 MH
zの信号を用いて8(1)VTRの仕様に従って行った
。
第11図から判るように、第1のギャップ深さdlが5
〜30μmの範囲では、本実施例の磁気ヘッドの方が従
来の磁気ヘッドよりも大きい出力を得ることが出来る。
〜30μmの範囲では、本実施例の磁気ヘッドの方が従
来の磁気ヘッドよりも大きい出力を得ることが出来る。
これはギャップスペーサ(9)の傾斜部(16)(16
)によりトラック端部での第2のギャップ深さd、がト
ラック中央部での第1のギャップ深さd、より小さく、
この部分により出力特性が向上したためである。
)によりトラック端部での第2のギャップ深さd、がト
ラック中央部での第1のギャップ深さd、より小さく、
この部分により出力特性が向上したためである。
また、第1のギヤ・/プ深さd、が5μm以下であると
、インダクタンス、最適記録電流、出力全ての面で本実
施例の磁気ヘッドの方が従来の磁気へノドよりも劣るが
、従来の磁気ヘッドにおいても、第1のギャップ深さd
、が5μm以下になるとフ インダクタンスが1.5μH以下、最適記録電流が25
mA以下となり、実際上周辺回路との非整合性のため使
用不可となる。即ち、第1のギャップ深さd、が5μm
以下では、本実施例、従来例何れの磁気ヘッドにおいて
も使用不可となるのであるから、第1のギャップ深さd
lが5〜30pmの範囲で出力が大となる本実施例の磁
気ヘッドの方が実用上有利である。
、インダクタンス、最適記録電流、出力全ての面で本実
施例の磁気ヘッドの方が従来の磁気へノドよりも劣るが
、従来の磁気ヘッドにおいても、第1のギャップ深さd
、が5μm以下になるとフ インダクタンスが1.5μH以下、最適記録電流が25
mA以下となり、実際上周辺回路との非整合性のため使
用不可となる。即ち、第1のギャップ深さd、が5μm
以下では、本実施例、従来例何れの磁気ヘッドにおいて
も使用不可となるのであるから、第1のギャップ深さd
lが5〜30pmの範囲で出力が大となる本実施例の磁
気ヘッドの方が実用上有利である。
上述の実施例では、作動ギャップ(10)近傍に強磁性
金属薄膜(8)(8)を有するMIG(メタル、イン、
ギャップ)型の磁気ヘッドについて述べたが、第12図
、第13図及び第14図に示すように強磁性金属薄膜を
有さない通常のフェライトヘッドにおいても本発明を適
用することは出来る。尚、第12図はテープ摺接面を示
す図、第13図は第12図のP−P’断面図、第14図
は第12図のQ−Q’断面図であり、第2図、第3図及
び第4図と同一部分には同一符号を付し、その説明は割
愛する。第1のギャップ深さd、と第2のギャップ深さ
d、との関係はd 1> d *である。
金属薄膜(8)(8)を有するMIG(メタル、イン、
ギャップ)型の磁気ヘッドについて述べたが、第12図
、第13図及び第14図に示すように強磁性金属薄膜を
有さない通常のフェライトヘッドにおいても本発明を適
用することは出来る。尚、第12図はテープ摺接面を示
す図、第13図は第12図のP−P’断面図、第14図
は第12図のQ−Q’断面図であり、第2図、第3図及
び第4図と同一部分には同一符号を付し、その説明は割
愛する。第1のギャップ深さd、と第2のギャップ深さ
d、との関係はd 1> d *である。
尚、この実施例の磁気ヘッドにおいても、ギャップスペ
ーサ(9)のギャップ深さ規制側の端部の形成は上述の
実施例と同様にイオンビームエツチングにより行うこと
が出来る。
ーサ(9)のギャップ深さ規制側の端部の形成は上述の
実施例と同様にイオンビームエツチングにより行うこと
が出来る。
尚、第1図に示すギャップスペーサ(9)の形状がイオ
ンビームエツチング時のレジスト(18a)の形状によ
り決定するのに対して、凹部(12)の形状はイオンビ
ームエツチング時のイオンビームの入射角等により決定
する。
ンビームエツチング時のレジスト(18a)の形状によ
り決定するのに対して、凹部(12)の形状はイオンビ
ームエツチング時のイオンビームの入射角等により決定
する。
また、ギャップスペーサ(9)の形状としては、第1図
に示すもの以外にも第15図(a )(b )(c )
(d)(e)(f)に示すものでもよい。
に示すもの以外にも第15図(a )(b )(c )
(d)(e)(f)に示すものでもよい。
(ト)発明の効果
本発明に依れば、寿命が短くなることなしに記録再生特
性が向上した磁気ヘッドを提供し得る。
性が向上した磁気ヘッドを提供し得る。
第1図乃至第15図は本発明に係り、第1図はギャップ
スペーサを示す図、第2図は媒体摺接面を示す図、第3
図は第2図のP−P’断面図、第4図は第2図のQ−Q
’断面図、第5図、第6図、第7図及び第8図は夫々製
造方法を示す斜視図、第9図、第10図及び第11図は
夫々ギャップ深さによる特性の変化を示す図、第12図
は媒体摺接面を示す図、第13図は第12図のP−P’
断面図、第14図は第12図のQ−Q’断面図、第15
図はギャップスペーサを示す図である。第16図乃至第
18図は従来例に係り、第16図は媒体摺接面を示す図
、第17図は第16図のP−P断面図、第18図はギャ
ップスペーサを示す図である。 (7a)(7b)・・・コア半体、(9)・・・ギャッ
プスペーサ、(10)・・・作動ギャップ。
スペーサを示す図、第2図は媒体摺接面を示す図、第3
図は第2図のP−P’断面図、第4図は第2図のQ−Q
’断面図、第5図、第6図、第7図及び第8図は夫々製
造方法を示す斜視図、第9図、第10図及び第11図は
夫々ギャップ深さによる特性の変化を示す図、第12図
は媒体摺接面を示す図、第13図は第12図のP−P’
断面図、第14図は第12図のQ−Q’断面図、第15
図はギャップスペーサを示す図である。第16図乃至第
18図は従来例に係り、第16図は媒体摺接面を示す図
、第17図は第16図のP−P断面図、第18図はギャ
ップスペーサを示す図である。 (7a)(7b)・・・コア半体、(9)・・・ギャッ
プスペーサ、(10)・・・作動ギャップ。
Claims (1)
- (1)磁性材料よりなる一対のコア半体同士を非磁性絶
縁材料よりなるギャップスペーサを介して衝き合わせ、
該衝き合わせ部に作動ギャップを形成してなる磁気ヘッ
ドにおいて、前記作動ギャップが第1のギャップ深さと
該第1のギャップ深さより短い第2のギャップ深さとを
有することを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3868190A JPH03242808A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3868190A JPH03242808A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03242808A true JPH03242808A (ja) | 1991-10-29 |
Family
ID=12532028
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3868190A Pending JPH03242808A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03242808A (ja) |
-
1990
- 1990-02-20 JP JP3868190A patent/JPH03242808A/ja active Pending
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