JPH03242332A - 光学素子の製造方法 - Google Patents
光学素子の製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B29/00—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins
- C03B29/02—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a discontinuous way
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/12—Cooling, heating, or insulating the plunger, the mould, or the glass-pressing machine; cooling or heating of the glass in the mould
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/66—Means for providing special atmospheres, e.g. reduced pressure, inert gas, reducing gas, clean room
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はプレス成形による光学素子の製造方法に関し、
特に高精度の光学機能面を有する光学素子を成形用素材
から直接プレス成形により得るための製造方法に関する
。この光学素子の製造方法よれば、精密加工された型の
表面形状がプレス成形により所望の光学素子に転写され
るで、球面レンズはもとより非球面レンズ、プリズム、
フィルタ等を容易に製造することができる。
特に高精度の光学機能面を有する光学素子を成形用素材
から直接プレス成形により得るための製造方法に関する
。この光学素子の製造方法よれば、精密加工された型の
表面形状がプレス成形により所望の光学素子に転写され
るで、球面レンズはもとより非球面レンズ、プリズム、
フィルタ等を容易に製造することができる。
［従来の技術］
一般に、レンズ、プリズム、ミラー及びフィルタ等の光
学素子は、ガラス等の素材を研削して外形を所望の形状
とした後に、機能面即ち光が透過及び／又は反射する面
を研磨して光学面とすることにより製造されている。
学素子は、ガラス等の素材を研削して外形を所望の形状
とした後に、機能面即ち光が透過及び／又は反射する面
を研磨して光学面とすることにより製造されている。
以上の様な光学素子の製造においては、研削及び研磨に
より所望の表面精度（即ち表面形状及び表面粗さ等の精
度）を得るためには、熟練した作業者が相当の時間加工
を行なうことが必要であった。また、機能面が非球面で
ある光学素子を製造する場合には、−層高度な研削及び
研磨の技術が要求され且つ加工時間も長くならざるを得
なかった。
より所望の表面精度（即ち表面形状及び表面粗さ等の精
度）を得るためには、熟練した作業者が相当の時間加工
を行なうことが必要であった。また、機能面が非球面で
ある光学素子を製造する場合には、−層高度な研削及び
研磨の技術が要求され且つ加工時間も長くならざるを得
なかった。
そこで、最近では、上記の様な伝統的な光学素子製造方
法に代って、所定の表面精度を有する成形用金型内に光
学素子材料を収容して加熱しながら加圧することにより
プレス成形にて直ちに機能面を含む全体的形状を形成す
る方法が行なわれる様になってきている。これによれば
、機能面が非球面である場合でさえも比較的簡単且つ短
時間で光学素子を製造することができる。この様なプレ
ス成形法は光学素子の連続製造に適する。
法に代って、所定の表面精度を有する成形用金型内に光
学素子材料を収容して加熱しながら加圧することにより
プレス成形にて直ちに機能面を含む全体的形状を形成す
る方法が行なわれる様になってきている。これによれば
、機能面が非球面である場合でさえも比較的簡単且つ短
時間で光学素子を製造することができる。この様なプレ
ス成形法は光学素子の連続製造に適する。
以上の様な光学素子のプレス成形には、成形時の高温下
で光学素子材料と型部材とが反応、融着を起こさないこ
とが要求される。
で光学素子材料と型部材とが反応、融着を起こさないこ
とが要求される。
そこで、従来、このようなプレス成形には、型部材との
反応防止用の薄膜が表面に形成された光学素子材料等が
用いられていた。また、この反応防止用の薄膜を形成す
る方法としては、例えば特開昭６２−２９７２２５号公
報に真空蒸着法、イオンブレーティング法、スパッタリ
ング法等が開示されている。
反応防止用の薄膜が表面に形成された光学素子材料等が
用いられていた。また、この反応防止用の薄膜を形成す
る方法としては、例えば特開昭６２−２９７２２５号公
報に真空蒸着法、イオンブレーティング法、スパッタリ
ング法等が開示されている。
［発明が解決しようとしている課題］
しかしながら、真空蒸着法では、使用する真空蒸着装置
が高価であり、更に、蒸着のために（蒸着）前洗浄、装
置への出しれ、（蒸着）後洗浄等の工程が必要であり、
製造工程が多く製造装置が複雑になるという欠点があっ
た。また、イオンブレーティング法およびスパッタリン
グ法では、使用する装置が高価であり、レンズの周辺部
の成膜が困難であり、成膜に長時間を要し、製造工程が
多くなるという欠点があった。
が高価であり、更に、蒸着のために（蒸着）前洗浄、装
置への出しれ、（蒸着）後洗浄等の工程が必要であり、
製造工程が多く製造装置が複雑になるという欠点があっ
た。また、イオンブレーティング法およびスパッタリン
グ法では、使用する装置が高価であり、レンズの周辺部
の成膜が困難であり、成膜に長時間を要し、製造工程が
多くなるという欠点があった。
従って、本発明の目的は、薄膜の形成に使用する装置が
安価で、製造工程が少な（製造装置が簡易で、周辺部の
成膜が容易で、成膜時間が短く、しかも成形用素材及び
成形済光学素子と型部材との反応を防止して、長期にわ
たり融着、くもり等の発生しない良好な成形を行うこと
のできる光学素子製造方法を提供することにある。
安価で、製造工程が少な（製造装置が簡易で、周辺部の
成膜が容易で、成膜時間が短く、しかも成形用素材及び
成形済光学素子と型部材との反応を防止して、長期にわ
たり融着、くもり等の発生しない良好な成形を行うこと
のできる光学素子製造方法を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
本発明に従って、前記課題を解決するものとして、成形
用素材の表面に薄膜を形成してブランクとし、該ブラン
クを成形用型内に収容して加熱下でプレス成形すること
により光学素子を製造する方法において、上記ブランク
を成形用型内に収容する前に減圧下で加熱処理すること
を特徴とする光学素子の製造方法が提供される。
用素材の表面に薄膜を形成してブランクとし、該ブラン
クを成形用型内に収容して加熱下でプレス成形すること
により光学素子を製造する方法において、上記ブランク
を成形用型内に収容する前に減圧下で加熱処理すること
を特徴とする光学素子の製造方法が提供される。
本発明においては、上記薄膜が浸種法により形成された
ものである形態がある。
ものである形態がある。
本発明においては、上記薄膜の主成分がＳ ｉ Ｏｚで
ある形態がある。
ある形態がある。
本発明においては、上記薄膜の膜厚が１０〜１００００
人である形態がある。
人である形態がある。
本発明においては、上記加熱処理時の真空度が１×ｌ０
−５〜１×１０−２Ｔｏｒｒである形態がある。
−５〜１×１０−２Ｔｏｒｒである形態がある。
本発明においては、上記加熱処理時の加熱温度が３００
℃以上プレス成形時の温度以下である形態がある。
℃以上プレス成形時の温度以下である形態がある。
本発明においては、上記成形用素材として光学素子の形
状に対応した形状のものを用いる形態がある。
状に対応した形状のものを用いる形態がある。
本発明の方法では、まず成形用素材の表面に薄膜を形成
し成形用のブランクとし、次いでブランクを減圧下で加
熱処理（成形前に通常行なわれる加熱処理を兼ねる）す
ることにより薄膜を焼成し、次いで加熱下プレス成形す
る。上記薄膜は、焼成により、高温においてもブランク
及び成形済光学素子と成形用型部材との反応を防止し得
る所謂反応防止膜になる。
し成形用のブランクとし、次いでブランクを減圧下で加
熱処理（成形前に通常行なわれる加熱処理を兼ねる）す
ることにより薄膜を焼成し、次いで加熱下プレス成形す
る。上記薄膜は、焼成により、高温においてもブランク
及び成形済光学素子と成形用型部材との反応を防止し得
る所謂反応防止膜になる。
［実施例］ 以下、本発明の実施例について図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
実施例１
第１図は本発明による光学素子の製造方法の実施される
装置の一例の概略構成を示す縦断面模式図である。図に
おいて、２は加熱室、４は表面に薄膜が形成されている
ブランク、６はブランクの載置台、８，１０はブランク
を加熱するヒータ、１２はゲートバルブ、１４は成形室
、１６は上型部材、１８は下型部材、２０．２２はシリ
ンダ、２４．２６はヒータ、２８は成形済光学素子であ
る。
装置の一例の概略構成を示す縦断面模式図である。図に
おいて、２は加熱室、４は表面に薄膜が形成されている
ブランク、６はブランクの載置台、８，１０はブランク
を加熱するヒータ、１２はゲートバルブ、１４は成形室
、１６は上型部材、１８は下型部材、２０．２２はシリ
ンダ、２４．２６はヒータ、２８は成形済光学素子であ
る。
不図示の浸漬装置により成形用素材（フリント系ガラス
ＳＦ８ （オハラ製） Ｔｇ４４３°Ｃ３ｐ５６７°
Ｃ，Ａｔ４７０°Ｃ）の表面に薄膜を形成して得たブラ
ンク４を載置台６に載置する。
ＳＦ８ （オハラ製） Ｔｇ４４３°Ｃ３ｐ５６７°
Ｃ，Ａｔ４７０°Ｃ）の表面に薄膜を形成して得たブラ
ンク４を載置台６に載置する。
次に、不図示の減圧手段により加熱室２内を真空度ｌＸ
ｌ０−３Ｔｏｒｒに減圧し、ヒータ８゜１０によりブラ
ンク４を４００°Ｃで１０分間加熱処理をする。
ｌ０−３Ｔｏｒｒに減圧し、ヒータ８゜１０によりブラ
ンク４を４００°Ｃで１０分間加熱処理をする。
次に、不図示の不活性ガス供給系により加熱室２内を窒
素ガス雰囲気で満した後、ブランク４を５３０℃に加熱
する。
素ガス雰囲気で満した後、ブランク４を５３０℃に加熱
する。
次に、ゲートバルブ１２を開き、予めヒータ２４．２６
により加熱されている上型部材１６、下型部材１８の間
に不図示のハンドリング手段によりブランク４を収容す
る。
により加熱されている上型部材１６、下型部材１８の間
に不図示のハンドリング手段によりブランク４を収容す
る。
次に、シリンダ２０．２２を駆動させてブランク４を温
度５１０℃、圧力２００ｋｇ／ｃｍ”で５分間プレス成
形する。
度５１０℃、圧力２００ｋｇ／ｃｍ”で５分間プレス成
形する。
次に、成形済光学素子２８を３５０℃まで冷却した後、
不図示のハンドリング手段により型内から取り出し放冷
し、所望の光学素子を得る。
不図示のハンドリング手段により型内から取り出し放冷
し、所望の光学素子を得る。
上記薄膜の成形において塗布液として、Ｓｉ （ＯＣ２
Ｈ−） ４をＣ，Ｈａ ＯＨで希釈してＳｉＯ□含有量
を５重量％とじ、更に少量の触媒を添加したものを用い
た。ここで、塗布液成分として上記化合物を用いた理由
は、一般に、塗布液の各成分が炭素数が少ない化合物で
あるほど、焼成後にガラス（ＳＦ８）の表面に純粋な５
ｉｎ２薄膜が形成され易く、 （ｉ）ガラス中のＰｂＯ
が型材料中の金属あるいは炭素と還元反応を起こす（Ｐ
ｂＯ＋Ｃ−４Ｐｂ＋ＣＯ，ＰｂＯ＋Ｍ−Ｐｂ＋ＭＯ）こ
とを防止できるため、また（ｉｉ）焼成後の薄膜中に炭
素等の不純物が残存せずガラス中のｐｂｏがｐｂｏ＋ｃ
−ｐｂ＋ｃｏで示される還元反応を起こすことを防止で
きるためである。
Ｈ−） ４をＣ，Ｈａ ＯＨで希釈してＳｉＯ□含有量
を５重量％とじ、更に少量の触媒を添加したものを用い
た。ここで、塗布液成分として上記化合物を用いた理由
は、一般に、塗布液の各成分が炭素数が少ない化合物で
あるほど、焼成後にガラス（ＳＦ８）の表面に純粋な５
ｉｎ２薄膜が形成され易く、 （ｉ）ガラス中のＰｂＯ
が型材料中の金属あるいは炭素と還元反応を起こす（Ｐ
ｂＯ＋Ｃ−４Ｐｂ＋ＣＯ，ＰｂＯ＋Ｍ−Ｐｂ＋ＭＯ）こ
とを防止できるため、また（ｉｉ）焼成後の薄膜中に炭
素等の不純物が残存せずガラス中のｐｂｏがｐｂｏ＋ｃ
−ｐｂ＋ｃｏで示される還元反応を起こすことを防止で
きるためである。
また、塗布液の濃度等を調整して薄膜の膜厚を２００人
とした。従って、薄膜は光学性能へ悪影響を及ぼさない
ので、プレス成形後に薄膜を除去する必要がな（、成形
用素材と薄膜とを一体として光学素子として使用できる
。
とした。従って、薄膜は光学性能へ悪影響を及ぼさない
ので、プレス成形後に薄膜を除去する必要がな（、成形
用素材と薄膜とを一体として光学素子として使用できる
。
実施例２
第２図は本発明による光学素子の製造方法の実施される
装置の他の例の概略構成を示す縦断面模式図である。同
図の装置では成形用素材を洗浄→浸漬塗布−加熱処理（
焼成）−ブレス成形のサイクルにより連続製造をするこ
とができる。図において、７は移送装置、３２は洗浄浸
漬室、３４洗浄槽、３６は浸漬槽、３８は成形用素材、
４０゜４１．４２はゲートバルブ、４４は成形済光学素
子ストック室である。２〜２８は第１図と同じである。
装置の他の例の概略構成を示す縦断面模式図である。同
図の装置では成形用素材を洗浄→浸漬塗布−加熱処理（
焼成）−ブレス成形のサイクルにより連続製造をするこ
とができる。図において、７は移送装置、３２は洗浄浸
漬室、３４洗浄槽、３６は浸漬槽、３８は成形用素材、
４０゜４１．４２はゲートバルブ、４４は成形済光学素
子ストック室である。２〜２８は第１図と同じである。
なお、３４の洗浄槽は、不図示であるが、光学部品用Ａ
級洗浄が可能なように洗剤、アルコール等の槽に別れて
おり、各種で超音波洗浄が可能であり、また最終槽はベ
ーパー乾燥槽になっている。
級洗浄が可能なように洗剤、アルコール等の槽に別れて
おり、各種で超音波洗浄が可能であり、また最終槽はベ
ーパー乾燥槽になっている。
成形用素材を連続的に洗浄浸漬室３２に送り込み、順次
、洗浄→乾燥−漫漬を行なう。
、洗浄→乾燥−漫漬を行なう。
洗浄、浸漬の工程はゴミ類を嫌うため洗浄浸漬室３２は
クリーンな状態に保たれている。従って、ブランク４（
浸漬後の成形素材３８）は清浄であるので成形前の所謂
前洗浄を行なう必要はな（、ゲートバルブ４０を開き、
不図示のハンドリング機構で直接加熱室２に送り込む。
クリーンな状態に保たれている。従って、ブランク４（
浸漬後の成形素材３８）は清浄であるので成形前の所謂
前洗浄を行なう必要はな（、ゲートバルブ４０を開き、
不図示のハンドリング機構で直接加熱室２に送り込む。
ここで、載置台６は移送装置７に連結しており、ブラン
ク４はヒータ８と不図示のヒータの間を加熱されながら
順次移送される。このとき、加熱室２内は真空度ｌＸｌ
０−５〜１×１０−２Ｔｏｒｒに減圧されている。また
、第３図に移送されるブランク４の温度−位置関係図を
示す。なお、同図においてＯｃｍはヒータ８のブランク
４が搬入される側の端である。
ク４はヒータ８と不図示のヒータの間を加熱されながら
順次移送される。このとき、加熱室２内は真空度ｌＸｌ
０−５〜１×１０−２Ｔｏｒｒに減圧されている。また
、第３図に移送されるブランク４の温度−位置関係図を
示す。なお、同図においてＯｃｍはヒータ８のブランク
４が搬入される側の端である。
次に、ゲートバルブ１２を開き、ブランク４を不図示の
ハンドリング機構により、窒素ガス雰囲気に満された置
換室１３に送り込む。
ハンドリング機構により、窒素ガス雰囲気に満された置
換室１３に送り込む。
次に、ゲートバルブ４１を開き、ブランク４を不図示の
ハンドリング機構により、成形室１４に送り込んだ後、
予めヒータ２４，２６により加熱されている上型部材１
６、下型部材１８の間にブランク４を収容する。
ハンドリング機構により、成形室１４に送り込んだ後、
予めヒータ２４，２６により加熱されている上型部材１
６、下型部材１８の間にブランク４を収容する。
次に、シリンダ２０．２２を駆動させてブランク４を所
望の形状に温度５１０℃、圧力２００ｋｇ／ｃｍ”で５
分間プレス成形する。
望の形状に温度５１０℃、圧力２００ｋｇ／ｃｍ”で５
分間プレス成形する。
次に、成形済光学素子２８を３５０℃まで冷却した後、
不図示のハンドリング手段により型内から取り出し放冷
し、所望の光学素子を得る。
不図示のハンドリング手段により型内から取り出し放冷
し、所望の光学素子を得る。
［発明の効果］
以上説明した様に、本発明の方法によれば、まず成形用
素材の表面に反応防止層となる薄膜を形成しブランクと
し、このブランクを減圧下で加熱処理（成形前に通常行
なわれる加熱処理を兼ねる）することにより焼成し、次
いでプレス成形を行うことにより、高価な真空蒸着装置
を必要とせずに、また前洗浄工程が省かれ少ない工程数
で済むので、低コストで光学素子を製造することができ
、周辺部の成膜が容易で、成膜時間が短く、しかも成形
用素材及び成形済光学素子と型部材との反応を防止して
、長期にわたり融着、くもり等の発生しない良好な成形
を行なうことができる。これにより光学素子製造の歩留
まりが向上し、型部材の寿命が長くなる。また、成形用
型部材として使用する材質の範囲が広がり、実用上有用
である。
素材の表面に反応防止層となる薄膜を形成しブランクと
し、このブランクを減圧下で加熱処理（成形前に通常行
なわれる加熱処理を兼ねる）することにより焼成し、次
いでプレス成形を行うことにより、高価な真空蒸着装置
を必要とせずに、また前洗浄工程が省かれ少ない工程数
で済むので、低コストで光学素子を製造することができ
、周辺部の成膜が容易で、成膜時間が短く、しかも成形
用素材及び成形済光学素子と型部材との反応を防止して
、長期にわたり融着、くもり等の発生しない良好な成形
を行なうことができる。これにより光学素子製造の歩留
まりが向上し、型部材の寿命が長くなる。また、成形用
型部材として使用する材質の範囲が広がり、実用上有用
である。
第１図は本発明による光学素子の製造方法の実施される
装置の一例の概略構成を示す縦断面模式第２図は本発明
による光学素子の製造方法の実施される連続製造装置の
一例の概略構成を示す縦断面模式図である。 第３図は連続製造装置（第２図）において加熱室を移送
されるブランクの位置−温度関係図である。 第４図は本発明による光学素子の製造方法の製造工程の
一例を示す工程図である。 ニブランク、 ：移送装置、 １２：ゲートバルブ、 １４：成形室、 １８：下型部材、 ２：加熱室、 ４ ６：載置台、 ７ ８．１０：ヒータ、 １３：置換室、 １６二上型部材、 ２０．２２ニジリンダ、 ２４．２６：ヒータ、 ２８：成形済光学素子、 ３２：洗浄浸漬室、 ３４洗浄槽、 ３６：浸漬槽、 ３８は成形用素材、４０．４１，
４２ ：ゲートバルブ、 ４４：成形済光学素子ストック室。 第３図 催７７ （ｃｍ）
装置の一例の概略構成を示す縦断面模式第２図は本発明
による光学素子の製造方法の実施される連続製造装置の
一例の概略構成を示す縦断面模式図である。 第３図は連続製造装置（第２図）において加熱室を移送
されるブランクの位置−温度関係図である。 第４図は本発明による光学素子の製造方法の製造工程の
一例を示す工程図である。 ニブランク、 ：移送装置、 １２：ゲートバルブ、 １４：成形室、 １８：下型部材、 ２：加熱室、 ４ ６：載置台、 ７ ８．１０：ヒータ、 １３：置換室、 １６二上型部材、 ２０．２２ニジリンダ、 ２４．２６：ヒータ、 ２８：成形済光学素子、 ３２：洗浄浸漬室、 ３４洗浄槽、 ３６：浸漬槽、 ３８は成形用素材、４０．４１，
４２ ：ゲートバルブ、 ４４：成形済光学素子ストック室。 第３図 催７７ （ｃｍ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、成形用素材の表面に薄膜を形成してブランクとし、
該ブランクを成形用型内に収容して加熱下でプレス成形
することにより光学素子を製造する方法において、上記
ブランクを成形用型内に収容する前に減圧下で加熱処理
することを特徴とする光学素子の製造方法。 ２、上記薄膜が浸漬法により形成されたものである請求
項１に記載の光学素子の製造方法。 ３、上記薄膜の主成分がＳｉＯ＿２である請求項１に記
載の光学素子の製造方法。 ４、上記薄膜の膜厚が１０〜１００００Åである請求項
１に記載の光学素子の製造方法。 ５、上記加熱処理時の真空度が１×１０＾−＾５〜１×
１０＾−＾２Ｔｏｒｒである、請求項１に記載の光学素
子の製造方法。 ６、上記加熱処理時の加熱温度が３００℃以上プレス成
形時の温度以下である、請求項１に記載の光学素子の製
造方法。 ７、上記成形用素材として光学素子の形状に対応した形
状のものを用いる、請求項１に記載の光学素子の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3627490A JPH03242332A (ja) | 1990-02-19 | 1990-02-19 | 光学素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3627490A JPH03242332A (ja) | 1990-02-19 | 1990-02-19 | 光学素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03242332A true JPH03242332A (ja) | 1991-10-29 |
Family
ID=12465197
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3627490A Pending JPH03242332A (ja) | 1990-02-19 | 1990-02-19 | 光学素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03242332A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6156243A (en) * | 1997-04-25 | 2000-12-05 | Hoya Corporation | Mold and method of producing the same |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59116136A (ja) * | 1982-12-20 | 1984-07-04 | Canon Inc | 光学素子の製造方法 |
| JPS62202824A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-07 | Hoya Corp | プレスレンズの製造方法 |
| JPS62297234A (ja) * | 1986-06-16 | 1987-12-24 | Minolta Camera Co Ltd | ガラスレンズの成形方法 |
| JPS6335424A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-16 | Minolta Camera Co Ltd | ガラスレンズの成形方法 |
| JPS63315526A (ja) * | 1987-06-15 | 1988-12-23 | Olympus Optical Co Ltd | 光学素子の製造方法 |
| JPH01153541A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-06-15 | Olympus Optical Co Ltd | 光学素子の製造方法 |
| JPH01239030A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-25 | Asahi Optical Co Ltd | 光学素子用成形型の製造方法 |
-
1990
- 1990-02-19 JP JP3627490A patent/JPH03242332A/ja active Pending
Patent Citations (7)
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