JPH01153541A

JPH01153541A - 光学素子の製造方法

Info

Publication number: JPH01153541A
Application number: JP31247287A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Ito; 弘伊藤; Toshiaki Oimizu; 利明生水
Original assignee: Olympus Optical Co Ltd
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1987-12-10
Filing date: 1987-12-10
Publication date: 1989-06-15

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、光学ガラス素材を加熱軟化した後、成形型に
より加圧成形して所定の形状、精度を有する光学素子を
得ることができる光学素子の製造方法に関する。

〔従来の技術〕

従来、光学素子の製造方法としては、例えば特公昭６２
−５０４１３号公報に記載される方法が知られている。

この方法は、光学ガラス素材の表面に成形型と融着を起
こさない材料にて反射防止膜を形成し、この光学ガラス
素材を加熱軟化して成形型により加圧成形して反射防止
膜を有する光学素子を成形するものである。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、上記従来の光学素子の製造方法では、成形型の
成形面に凹凸状欠陥（型加工品質上または成形に伴って
発生する）や傷がある場合には、成形後、反射防止膜に
凹凸が反転し、外観品質上で問題があった。

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたもので、良好
な誘導体ｆｌ膜を有するとともに外観品質の優れた光学
素子を得ることができる光学素子の製造方法を提供する
ことを目的とする。

（問題点を解決するための手段〕上記従来の問題点を解決するために、本発明は、光学素
子用素材を加熱軟化した後、成形型にて加圧して光学素
子を成形する光学素子の製造方法において、上記光学素
子用素材の光学面に誘導体薄膜を形成した後、この光学
素子用素材を上記成形型により加圧成形し、その光学成
形面に前記誘導体ａ膜と同一材料からなる誘導体薄膜を
積層したものである。

〔作用］上記構成の製造方法によれば、たとえ成形型の成形面に
凹凸状欠陥があって成形直後の誘導体薄膜に凹凸が反転
されたとしても、その誘導体薄膜上にさらに同種の誘導
体薄膜を形成するので、欠陥がな（なり、外観品質の優
れた光学素子が製造される。なお、上記両誘導体薄膜に
は屈折率差がなく、境界面での反射損失もない。

また、かかる製造方法により得られた光学素子の誘導体
薄膜は、単層の反射防止膜または多層の反射防止膜の第
一層目となるものである。

〔実施例］（第１実施例）第２図から第４図は、本発明の第１実施例の光学素子の
製造する工程を示している。

まず、第２図に示す如く、ＳＦ　７　（ｎｄ−１，６４
）の光学ガラスからなる光学素子用素材の両面（光学面
）ｌａ、ｌｂを測圧切断法あるいは研削・研に加工等に
より成形型２．３（第３図参照）の成形面２ａ、３ａの
曲率と概略的に対応した鏡面形状に形成する。そして、
上記光学面Ｌａ、ｌｂに成形型２．３と融着を起こさな
いＭ　ｇ　Ｆ　ｔから成る誘導体薄膜４ａ、４ｂを真空
蒸着により膜厚４０ｎｍとなるように被膜して成形素材
５を形成する。

次に、第３図に示す如（、成形素材５を成形面２ａ、３
ａの表面粗さが０．０３μｍ以下に鏡面加工されるとと
もに、各々の概略曲率半径が＋３５０ｎｍ、＋４００ｎ
ｍに形成された一対の成形型２゜３間に配置する。そし
て、成形室マを非酸化性雰囲気とし、成形素材５をヒー
タ８により加熱軟化する。この成形素材５が加圧成形可
能である　５８０’Ｃに加熱軟化されたとき、図示しな
い加圧手段（例えばエアシリンダ等）を介して、成形型
２゜３により２　ｋｇ　／　ｃｉの圧力で３０分間加圧
成形を行なう。その後、ヒータ８による加熱保持を中止
し、成形型２，３と加圧成形された成形物を転移点以下
の温度に冷却する。そして、この冷却が完了した時点で
成形型２，３から成形物を取り出して、第４図に示す如
（、成形型２．３の成形面２ａ。

３ａの形状が反転されたＭｇＦｚ膜４ａ、４ｂの被膜去
れ対物レンズ光学面１ａ、ｌｂを有する光学素子９を得
ることができる。

しかる後、第１図に示す如く、ＭｇＦ、膜４ａ。

４ｂ上にＭ　ｇ　Ｆ　２膜厚９０ｎｍからなる反射防止
膜（誘導体薄膜）１０ａ、１０ｂを通常の真空蒸着法に
より形成し、光学面１ａ、ｌｂ上にＭ　ｇ　Ｆ　ｚ層を
計１３０ｎｍの膜厚とした。

上記方法により成形された光学素子９は、橿めて良好な
反転性と外観品質を有し、成形面の形状精度が所定形状
に対して０．１　μｍ以内であり、欠陥が認められない
良好な結果が得られ、さらに、反射率特性は第５図に示
すとおり、良好なものであり、カメラレンズ等の光学素
子として十分な機能を有するものであった。

なお、成形前に被覆するＭｇＦ、の膜厚を４０゜８０．
１２０，１６０ｎｍとした時の成形後の成形面の状観察
した結果、１２０ｎｍでは微細な膜の割れが生じ、１６
０ｎｍではその割れが顕著となって外観状の問題があっ
たが、４０ｎｍ、８０ｎｍでは良好であった。

（第２〜５実施例）以下の実施例は、成形後に誘導体薄膜を多層化すること
により、より一層反射率特性が向上した光学素子を得る
例である。第２実施例〜第５実施例は成形前にあらかじ
め光学素子用素材に被膜する誘導体薄膜（以下、プレコ
ートという）材料としてＭｇＦ２を用いた場合の実施例
であり、光学素子用素材の屈折率に応して表１のような
構成をとることにより、第６図に示すような良好な反射
率特性を得ることができた（成形後、光学面に積層する
誘導体薄膜をスタックコートと称した）。

このように、通常用いられる屈折率の光学素子素材に実
施することができる。

（第６〜８実施例）第６実施例〜第８実施例は、プレコートとしてＡ２□０
３を用いた例であり、表２に示すプレコート、スタック
コートの構成をとることにより、同じく第６図に示す良
好な反射率特性を得ることができた。

なお、プレコートのＡ　ｌ　ｚ　Ｏｙ膜厚を４０．８０
゜１２０．１６０ｎｍとした時の成形後の成形面の状態
を観察した結果、表３に示すように、１２０゜１６０ｎ
ｍでは微細な膜の割れが顕著に生じ、外観上の問題があ
ったが、４０ｎｍ、８０ｎｍでは良好であった。

表　　　３０良、Δやや問題あり、Ｘ問題あり〔発明の効果）以上のように、本発明の光学素子の製造方法によれば、
光学素子用素材の光学面に誘導体薄膜を形成した後、こ
の光学素子用素材を成形型により加圧成形し、その光学
成形面に前記誘導体薄膜と同一材料からなる誘導体薄膜
を積層するので、たとえ成形型の成形面に凹凸状欠陥が
あって成形直後の誘導体薄膜に凹凸が反転されたとして
も、その欠陥がなくなり、外観品質の優れた光学素子を
得ることができる。また、このとき、プレコート面とス
タックコート面との間には、屈折率差を生じず、境界面
での反射損失もない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１実施例で得た光学素子の縦断面図
、第２図から第４図までは本発明の第１実施例の製造工
程を示し、第２図は成形用素材の縦断面図、第３図は成
形用素材の加圧成形時の縦断面図、第４図は加圧成形後
の成形物の縦断面図、第５図は本発明の第１実施例で得
た光学素子の反射率特性を示すグラフ、第６図は本発明
の他の実施例で得た光学素子の反射率特性を示すグラフ
である。１・・・光学素子用素材ｌａ、ｌｂ・・・光学素子用素材の光学面２．３・・・
成形型４ａ、５ａ・・・誘導体薄膜５・・・成形用素材９・・・光学素子１０ａ、１０ｂ・・・反射防止膜（誘導体′ａ膜）第２
図　第１図第４図第５図ぐ／、）第６図Ｃ・ム）波長

Claims

【特許請求の範囲】

（１）光学素子用素材を加熱軟化した後、成形型にて加
圧して光学素子を成形する光学素子の製造方法において
、上記光学素子用素材の光学面に誘導体薄膜を形成した
後、この光学素子用素材を上記成形型により加圧成形し
、その光学成形面に前記誘導体薄膜と同一材料からなる
誘導体薄膜を積層することを特徴とする光学素子の製造
方法。
（２）前記光学素子用素材の光学面および加圧成形後の
光学成形面に形成する誘導体薄膜がＭｇＦ＿２から成る
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光学素子
の製造方法。