JPH03239414A - 不燃性放電加工における仕上加工方法 - Google Patents
不燃性放電加工における仕上加工方法Info
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- JPH03239414A JPH03239414A JP3348690A JP3348690A JPH03239414A JP H03239414 A JPH03239414 A JP H03239414A JP 3348690 A JP3348690 A JP 3348690A JP 3348690 A JP3348690 A JP 3348690A JP H03239414 A JPH03239414 A JP H03239414A
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- Japan
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- gap
- machining
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 6
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 25
- 238000009760 electrical discharge machining Methods 0.000 claims description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 abstract description 17
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、不燃性放電加工における仕上加工方法に関す
る。
る。
［従来の技術］
不燃性加工液を使用した従来の放電加工においては、比
抵抗値が１０〜５０Ｘ１０’ΩＣｍの加工液を使用して
いる。
抵抗値が１０〜５０Ｘ１０’ΩＣｍの加工液を使用して
いる。
［発明が解決しようとする課題］
従来の放電加工方法においては、加工面積が広くなると
、放電エネルギーが小さい領域では放電現象が生じ難く
、放電加工が非常に困難になる。
、放電エネルギーが小さい領域では放電現象が生じ難く
、放電加工が非常に困難になる。
仕上加工条件も放電エネルギーが小さい条件であり、し
たがって仕上加工条件では、放電加工が非常に困難であ
り、このために、仕上面粗度は１５〜３０１ＬｍＲｍａ
ｘが限度であり、それ以下の仕上面粗さにして加工する
ことができないという問題がある。
たがって仕上加工条件では、放電加工が非常に困難であ
り、このために、仕上面粗度は１５〜３０１ＬｍＲｍａ
ｘが限度であり、それ以下の仕上面粗さにして加工する
ことができないという問題がある。
本発明は、仕上面粗さを１５１ＬｍＲｍａｘ以下の値に
して加工することができる不燃性放電加工における仕上
加工方法を提供することを目的とするものである。
して加工することができる不燃性放電加工における仕上
加工方法を提供することを目的とするものである。
［１１題を解決する手段Ｊ
本発明は、比抵抗値が１００Ｘ１０４Ωｃｍ以上の不燃
性加工液を、電極とワークとのギャップに噴射するもの
である。
性加工液を、電極とワークとのギャップに噴射するもの
である。
［作用］
本発明は、比抵抗値が１００Ｘ１０４ΩＣｍ以上の不燃
性加工液を、電極とワークとのギャップに噴射するので
、仕上面粗さを１５ｇｍＲｍａｘ以下の値にして加工す
ることができる。
性加工液を、電極とワークとのギャップに噴射するので
、仕上面粗さを１５ｇｍＲｍａｘ以下の値にして加工す
ることができる。
［実施例］
第１図は、本発明の一実施例の説明図である。
加工タンク１０内にワークＷが設置され、Ｚ軸３０に電
極Ｅが固定され、電極ＥとワークＷとの間にギャップＧ
が形成されている。加工タンク１０内の加工液４０は、
ドレイン１１を介してサービスタンク２０に送られる。
極Ｅが固定され、電極ＥとワークＷとの間にギャップＧ
が形成されている。加工タンク１０内の加工液４０は、
ドレイン１１を介してサービスタンク２０に送られる。
サービスタンク２０内の加工液４０が循環ポンプＰＬに
よってホースＨ１を介してサービスタンク２０に戻り、
この経路を加工液４０が循環する。また、ホースＨ１の
連中に純水器Ｊｌが設けられ、この純水器Ｊｌを加工液
が通過するとその加工液の比抵抗値が低下する。
よってホースＨ１を介してサービスタンク２０に戻り、
この経路を加工液４０が循環する。また、ホースＨ１の
連中に純水器Ｊｌが設けられ、この純水器Ｊｌを加工液
が通過するとその加工液の比抵抗値が低下する。
一方、サービスタンク２０内の加工液４０が噴流ポンプ
Ｐ２によってホースＨ２を介してギャップＧに供給され
、その加工液がギャップＧに噴射される。
Ｐ２によってホースＨ２を介してギャップＧに供給され
、その加工液がギャップＧに噴射される。
第３図は、各所における加工液の比抵抗値を変えた場合
に、仕上面粗度がどのように違うかを示す図表である。
に、仕上面粗度がどのように違うかを示す図表である。
第３図に示すように、加工タンク、サービスタンク、ギ
ャップにおける加工液の比抵抗値が従来例では５０×１
０４Ωｃ１程度であり、この場合、仕上面粗度が２０μ
Ｈｍａｘである。
ャップにおける加工液の比抵抗値が従来例では５０×１
０４Ωｃ１程度であり、この場合、仕上面粗度が２０μ
Ｈｍａｘである。
第３図の実施例（１）においては、加工タンク１０内、
サービスタンク２０内、ギャップＧの全てにおいて、加
工液４０の比抵抗値を１００×１０４ΩｃＩＩとしてあ
り、この場合、仕上面粗度が１２ＪＬＲｍａｘとなり、
従来よりも仕上面粗度が向上する。
サービスタンク２０内、ギャップＧの全てにおいて、加
工液４０の比抵抗値を１００×１０４ΩｃＩＩとしてあ
り、この場合、仕上面粗度が１２ＪＬＲｍａｘとなり、
従来よりも仕上面粗度が向上する。
また、８３図の実施例（３）においては、加工タンク１
０内、サービスタンク２０内、ギャップＧにおける加工
液４０の比抵抗値を全て１５０Ｘ１０４ΩＣ■としてあ
り、この場合、仕上面粗度が８μＲ謬ａＸとさらに向上
する。
０内、サービスタンク２０内、ギャップＧにおける加工
液４０の比抵抗値を全て１５０Ｘ１０４ΩＣ■としてあ
り、この場合、仕上面粗度が８μＲ謬ａＸとさらに向上
する。
第２図は、第１図に示す実施例の変形例の説明図である
。
。
この実施例は、第１図に示す実施例と比較すると、噴流
ポンプＰ２の後に純水器Ｊ２を設けた点が異なる。この
構成を採用すれば、第３図に示す実施例（２）、（４）
に対応できる。
ポンプＰ２の後に純水器Ｊ２を設けた点が異なる。この
構成を採用すれば、第３図に示す実施例（２）、（４）
に対応できる。
第３図の実施例（２）の場合、ギャップＧに噴射される
加工液４０のみを１００Ｘ１０４ΩＣ厘にし、加工タン
ク１０内、サービスタンク２０内の加工液４０の比抵抗
値を、従来と同様に５０×１０４Ωｃ１にしであるが、
この場合の仕上面粗度は１２！Ｒ■ａ！であり、従来例
よりも仕上面粗度が向上している。
加工液４０のみを１００Ｘ１０４ΩＣ厘にし、加工タン
ク１０内、サービスタンク２０内の加工液４０の比抵抗
値を、従来と同様に５０×１０４Ωｃ１にしであるが、
この場合の仕上面粗度は１２！Ｒ■ａ！であり、従来例
よりも仕上面粗度が向上している。
第３図の実施例（４）の場合、ギャップＧに噴射される
加工液４０のみを１５０Ｘ１０４ΩＣ１にし、加工タン
ク１０内、サービスタンク２０内の加工液４０の比抵抗
値を、従来と同様に５０Ｘ１０４ΩＣＩｌにしであるが
、この場合の仕上面粗度は８ｇＲｍａｉであり、従来例
よりも仕上面粗度が向上している。
加工液４０のみを１５０Ｘ１０４ΩＣ１にし、加工タン
ク１０内、サービスタンク２０内の加工液４０の比抵抗
値を、従来と同様に５０Ｘ１０４ΩＣＩｌにしであるが
、この場合の仕上面粗度は８ｇＲｍａｉであり、従来例
よりも仕上面粗度が向上している。
つまり、少なくともギャップＧに、ｉｏｏｘ１０４０ｃ
ｍ以上の比抵抗値を有する加工液を噴射すれば、従来例
よりも仕上面粗度が向上する。
ｍ以上の比抵抗値を有する加工液を噴射すれば、従来例
よりも仕上面粗度が向上する。
上記実施例においては、比抵抗値が１００Ｘ１０４Ωｃ
ｍ、１５０Ｘ１０’Ωａｍ（７）加工液をギャップＧに
噴射しているが、１００Ｘ１０４ΩＣＭより大きな比抵
抗値を有する加工液を、ギャップＧに噴射するようにし
ても仕上面粗度の向上を図ることができる。
ｍ、１５０Ｘ１０’Ωａｍ（７）加工液をギャップＧに
噴射しているが、１００Ｘ１０４ΩＣＭより大きな比抵
抗値を有する加工液を、ギャップＧに噴射するようにし
ても仕上面粗度の向上を図ることができる。
［発明の効！Ｊ］
本発明によれば、仕上面粗さを１５１ＬｍＲｍａｘ以下
の値にして加工することができるという効果を奏する。
の値にして加工することができるという効果を奏する。
ｔｓ１図は、本発明の一実施例の説明図である。
第２図は、第１図に示す実施例の変形例の説明図である
。 第３図は、不燃性加工液の比抵抗値を各所で変化させた
場合における面粗度の違いを示す図表である。 ＩＯ・・・・・・加工タンク、 ２０・・・・・・サービスタンク、 ４０・・・・・・加工液、 Ｇ・・・・・・ギャップ、 Ｗ・・・・・・ワーク、 Ｅ・・・・・・電極。
。 第３図は、不燃性加工液の比抵抗値を各所で変化させた
場合における面粗度の違いを示す図表である。 ＩＯ・・・・・・加工タンク、 ２０・・・・・・サービスタンク、 ４０・・・・・・加工液、 Ｇ・・・・・・ギャップ、 Ｗ・・・・・・ワーク、 Ｅ・・・・・・電極。
Claims (1)
- 比抵抗値が１００×１０＾４Ωｃｍ以上の不燃性加工液
を、電極とワークとのギャップに噴射することを特徴と
する不燃性放電加工における仕上加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3348690A JPH03239414A (ja) | 1990-02-14 | 1990-02-14 | 不燃性放電加工における仕上加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3348690A JPH03239414A (ja) | 1990-02-14 | 1990-02-14 | 不燃性放電加工における仕上加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03239414A true JPH03239414A (ja) | 1991-10-25 |
Family
ID=12387886
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3348690A Pending JPH03239414A (ja) | 1990-02-14 | 1990-02-14 | 不燃性放電加工における仕上加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03239414A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5464959A (en) * | 1992-04-28 | 1995-11-07 | Sodick Co., Ltd. | Ion exchange treatment method in producing and recycling aqueous EDM fluid |
-
1990
- 1990-02-14 JP JP3348690A patent/JPH03239414A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5464959A (en) * | 1992-04-28 | 1995-11-07 | Sodick Co., Ltd. | Ion exchange treatment method in producing and recycling aqueous EDM fluid |
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