JPH0323560B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はサイクロスポリン類、就中サイクロス
ポリンＡとその誘導体の全合成に関する。本発明
はまたかゝる全合成法によつて製造されたサイク
ロスポリン類並びに該法において得られる新規中
間体特に新規アミノ酸類に関する。

サイクロスポリン類は、免疫抑制作用や抗炎症
作用の如き貴重な薬理作用を有する、一群の環状
ポリ−Ｎ−メチル化ウンデカペプチド類を包括的
に指称し、たとえばサイクロスポリンＡ、Ｂ、
Ｃ、Ｄ、Ｇなど、それらに対応するジヒドロサイ
クロスポリン類などが知られている（米国特許第
4117118号）、第4210518号および第4108985号、西
ドイツ国公開第2819094号および2941080号参照）。
これらの中でも、特にサイクロスポリンＡはその
優れた免疫抑制活性の故に多大の注目を沿びてお
り、現に各種器官の移植手術において拒否反応を
抑制するのに有用であることが広く報告されてい
る。サイクロスポリンＡがいかに興味深い物質で
あるかを示すものとして、たとえば次の如き文献
を挙げることが出来る：トランスプラント・プロ
シーデイングス（Transplant Proceedings）12
巻２号（1980年）233〜293頁「器官移植における
薬理的免疫抑制に関するシンポジウム」；アー
ル・ワン・カルネ（R.Y.Calne）、ネフロン（Ne
−phron）26巻（1980年）57〜63頁「サイクロス
ポリン（Cyclosporin）」；アール・ワイ・カルネ
（R.Y.Calne）、トレンド・イン・フアーマコロジ
カル・サイエンシス：インミユノサプレシヨン・
イン・クリニカル・オーガン・グラフテイング
（Trends in Pharmacological Sci−ences：
Immunosuppression in Clinical Organ
Grafting）１巻（1979年）21〜22頁；ジエイ・エ
フ・ボレル（J.F.Borel）、同誌１巻（1980年）
146〜149頁など。

サイクロスポリン類の化学構造は公知である。
その構造分析に関する研究は、ルガー
（Ru¨egger）らが基質としてサイクロスポリンＡ、
ジヒドロサイクロスポリンＡ、イソサイクロスポ
リンＡなどを使用し、これに物理的かつ分解的分
析技術を適用して行つたものであつて、その詳細
はヘルベチカ・ヒミカ・アクタ（Helvetica
Chim.Acta）59巻４号（1976年）112、1075〜
1092頁に報告されている。しかして、その含有炭
素数に鑑み、「C₉−アミノ酸」と呼ばれる従来末
知のアミノ酸残基が存在することは早くから指摘
されたところであつた。このC₉−アミノ酸を遊
離の形で得ようとする試みは成功しなかつたが、
サイクロスポリンＡやジヒドロサイクロスポリン
Ａの加水分解、たとえばダブレーイスラム
（Dabre−Islam）法によるジヒドロサイクロスポ
リンＡの加水分解とそれに続くエステル化やアシ
ル化によつて得られた誘導体や成績体からその基
本構造を推定することは可能であつた。この方法
や結果についても前記ヘルベチカ・キミカ・アク
タ誌に報告が行われている。

サイクロスポリンＡ環を開環する企ては失敗に
帰した。無水トリフルオロ酢酸を使用する加水分
解は緩和な条件でも沢山のペプチド・フラグメン
トの混合物を与え、この混合物から個々のペプチ
ドを充分あるいは効果的に単離することが出来な
かつたからである。

サイクロスポリンＡの基本的な配列の解析は、
C₉−アミノ酸に不安定な非ペプチド結合を有す
るイソ−サイクロスポリンＡに関するエドマン
（Edman）分解変法を適用して行われた。この分
解はジヒドロメチルチオヒダントイン誘導体の状
態でC₉−アミノ酸を脱離せしめることによつて
始まるが、同時に前記の不安定な結合が開裂し、
ペプチド・サイクルが開環する。

C₉−アミノ酸の絶対配置は、結局、カンビー
（Cambie）らの方法によりI₂とタリウム（）ア
セテートを反応させて得られた他のサイクロスポ
リンＡ誘導体をＸ線分析に対して決定された。こ
のC₉−アミノ酸は、今日、サイクロスポリンＡ
について〔2S，3R，4R，6E〕−３−ヒドロキシ
−４−メチル−２−メチルアミノ−−６−オクテ
ン酸、ジヒドロサイクロスポリンＡについて
〔2S，3R，4R〕−３−ヒドロキシ−４−メチル−
２−メチルアミノ−６−オクタン酸であることが
確認されている。

上記のことから、C₉−アミノ酸やそのジヒド
ロ誘導体の構造は知られているものの、それら自
体は現実のものとしては知られていないことが理
解されよう。すなわち、それらは現実に単離され
たこともなければ、単離し得る形で製造されたこ
ともなかつたのである。更に、これまで、これら
の合成法も知られておらず、立体化学的にあるい
は実質的に純粋な形でこれらを収得する方法も知
られていなかつたのである。

これまでサイクロスポリン類は主として微生物
的方法、たとえばトリポクラジウム・インフラタ
ム・ガムス（Tolypocladium inflatum、gams）
（旧名トリコデルマ・ポリスポラム
（Trichodermapolysplorum））の如きカビを使用
してその醗酵生産物として得られて来た。かゝる
方法の詳細については文献に報告がある。

天然に生成するサイクロスポリン類、たとえば
サイクロスポリンＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｇなどの限ら
れた化学的修飾は可能であつて、対応するジヒド
ロ−およびイソ−誘導体が提供されている。しか
しながら、サイクロスポリン類の製造にせよ、新
規サイクロスポリン誘導体の製造にせよ、微生物
学的方法や半合成法に頼らねばならなかつたので
あり、このためその一層の発展には厳しい制限が
存在した。

サイクロスポリン類の全合成がこれまで行われ
なかつた理由としては次の３つが考えられる。第
１はC₉−アミノ酸自身に由来する問題であるが、
これには３つの光学活性中心があるため、立体化
学的に純粋な成績体が得られるような合成法を見
出す必要がある。第２はサイクロスポリン分子の
複雑なポリ−Ｎ−メチル化構造に由来する問題で
ある。よく知られているように、ペプチド合成に
は多数の方法があるが通常の手段でＮ−メチル化
アミノ酸の結合を企てたのでは収率が悪く、関与
するＮ−メチル化反応物のエピマー化が起つて光
学活性ペプチド異性体の混合物が形成される。合
成過程に数個のＮ−メチル化アミノ酸部分の結合
が含まれれば、当然のことながら得られるジアス
テレオアイソマーの数は飛躍的に増大する。カラ
ムクロマトグラフイーや薄層クロマトグラフイー
のような通常の分離操作によつて個々の異性体を
単離することは多大の労力を必要とし、現実に不
可能と云つても過言ではない。仮にこれを行い得
たとしても製品中に高い割合の不純物の混在を免
れない。本質的に純粋な状態で、しかもあらゆる
点で天然品に相当するサイクロスポリン類を得る
ためには、基本的なサイクロスポリン構造の開環
形が光学的に純粋に得られるような厳格な実験計
画を必要としたのである。第３は最後の閉環工程
の問題である。仮に満足すべき開環形のサイクロ
スポリン構造が得られていたとしても、閉環によ
つてその本質的な特性、就中立体化学的特性が損
われることなく保持されるか否かは不明であつ
た。本発明においては、閉環を実施する位置をし
かるべく選択することによつてこの点の問題を克
服したのであつて、上記選択は本発明の目的達成
のうえで、極めて重要である。更に、最終収率を
維持しようと思えば、もちろん、反応条件の選択
にも注意を払う必要がある。

本発明は、〔2S，3R、4R、6E〕−３−ヒドロキ
シ−４−メチル−２−メチルアミノ−６−オクテ
ン酸と〔2R、3S、4R〕−３−ヒドロキシ−４−
メチル−２−メチルアミノ−オクタン酸並びに対
応する〔2R.3S，4S〕−エナンチオマーの遊離形
および保護形ないし活性形を含む一定範囲の誘導
体の合成法を提供する。得られる異性体は立体異
性的に実質上純粋である。本発明は、また、上記
新規アミノ酸を出発原料として使用するサイクロ
スポリン類、特にサイクロスポリンＡの全合成法
を提供する。これらの方法は以下に記載される
が、特にサイクロスポリンＡを例に挙げて具体的
に説明する。なお、本発明方法で得られたサイク
ロスポリンＡが単離された天然品に一致する点は
特に注目されてよい。

上記の記述から明らかなように、本発明は、サ
イクロスポリン類製造のための公知の微生物的お
よび半合成的技術に代る方法を提供するものであ
るが、それに加え、新しい種類のサイクロスポリ
ン類、サイクロスポリン誘導体、サイクロスポリ
ン様活性化合物など開発の道を開くものでもあ
る。かゝる誘導体は、公知の天然サイクロスポリ
ン類に存在するC₉−アミノ酸類を本発明にかゝ
る新規C₉−アミノ酸で置換することによつて提
供されてもよく、公知の天然ペプチド類に関する
展開の場合と同様、サイクロスポリン鎖を巡る基
本的ペプチド鎖を修飾することによつて提供され
てもよい。その他基本的サイクロスポリン分子を
適宜に変換する他の方法については当業者にとつ
て明白であろう。サイクロスポリン類の薬理学的
活性に対する関心に鑑み、本発明は重要な意義を
有するものである。

サイクロスポリン全合成 一般に、ペプチド類は適当な合成経路によつて
合成的に構成されてよく、経路の選定は単純さと
経済性を考慮して、例えば必要な反応工程の数に
よつて通常定められる。最も通常のアプローチ
は、適当な部分配列を有するより小さなペプチド
単位を連結することである。サイクロスポリン類
（例、サイクロスポリンＡ）では、合成経路の選
定は制限されるようである。勿論、第一の制限は
環化を行う位置の選定にある。しかし、開放鎖形
のサイクロスポリンを得るための合成配列の選定
においても制限があるようである。本発明は必要
な開放鎖形の合成用特定方策を提供し、それは各
合成工程用の高度な特定反応条件の選定に関連し
て使用される。

ペン型鎖形態の製造用に開発された合成方策
を、フローチヤートにおいてサイクロスポリン
Ａ用に示す。（このフローチヤートにおいて、C₉
−アミノ酸基は生成サイクロスポリンの１位置を
占めるように示されており、分子の残りの基は右
回りで番号を付され配列されている。標準法によ
れば、ここに示すすべての基の配列はＮ−末端基
で始まる。）この方策は、次の工程から成るもの
として認識できる。

１ 配列４〜７を有し、７で始まり、他の６、５
および４のＮ−末端への連続連結によつて進行
するテトラペプチドの製造、 ２ 配列２〜７を有するヘキサペプチドを得るた
めの、配列２〜８を有するジペプチドの製造、
および工程１を経て得られるテトラペプチドの
Ｎ−末端への該ジプベチドの連結、 ３ 配列１〜７を有するヘプタペプチドを得るた
めの、工程２を経て得られるヘキサペプチドの
Ｎ−末端へのC₉−アミノ酸の連結、および ４ 配列８〜７を有する線状ウンデカペプチドを
得るための、配列８〜11を有するテトラペプチ
ドの製造、および工程８を経て得られるヘプタ
ペプチドのＮ−末端への該テトラペプチドの連
結。

C₉−アミノ酸のキラリチイ（Chirality）（即
ち、鏡像体が存在すること）工程３で維持するこ
とを確実にするために、該アミノ酸は式に関し
て後述の如く（特に実施例1kで述べる如く）、２
−Ｎ官能基と３−０官能基間を架橋し、６員環ま
たはより好ましくは５員環を完成する保護基を有
する形態で導入することが好ましい。

この方法は、選定したＣ−末端基７から出発す
るペプチド鎖の段階的延長を経て本質的に進行す
ることがわかる。

合成における各工程の反応条件の選定、特に温
度と塩基の選定は重要である。合成の各工程のた
めに実施例1a〜ｓに述べる特定条件を使用する
と、前述のエピ化問題は大きく解消され、そして
反応は所望異性体を実質的純粋体（即ちエピ化生
成物を実質的に含まない）で生成して進行するこ
とが判明した。所望異性体は、単一クロマトグラ
フイー工程を使用して良収率で反応媒体から単離
される。

この後者の点について、ここに述べる混合無水
物カルボキシ活性基を使用する合成では、トリエ
チルアミンおよびエチルジイソプロピルアミンの
如き比較的強塩基を使用し、且つＮ−メチルモル
ホリンおよびピリジンの如き弱塩基を回避するこ
とによつて、エピ化が最小となることが特に注目
される。これは、文献の教示と逆である。

最終の環化は、所望の配列を有する。線状ウン
デカペプチドを遊離Ｎ−およびカルボキシ−活性
体（即ち、Ｃ−末端として活性基およびＮ−末端
で遊離−アミノ基を有するもの）で反応させるこ
とによつて実施できる。好適には、反応は塩基の
存在下で行う。

勿論、反応温度の選定は選定された特定のカル
ボキシ−活性基に依存するが、該温度は−20〜30
℃の範囲が一般的である。適当な塩基としては、
たとえばエチルジイソプロピルアミンが挙げられ
る。適当なカルボキシ−活性体としては、例えば
１−ヒドロキシ−ベンゾトリアゾールエステル、
好ましくはカルボニルアジドが挙げられる。

カルボニルアジド類は、遊離−Ｎおよび遊離−
カルボキシ体の線状ウンデカペプチドから、例え
ばジメタチルホルムアミドおよび塩基（例、トリ
エチルアミン）の存在下にジフエニルホスホン酸
アジドとの反応によつて直接製造できる。反応
は、−10〜30℃の温度で実施するのが有利であり、
同時に環化を伴つて直接進行する。

カルボニルアジド類はまた、Ｎ−保護（例、Ｎ
−ブトキシカルボニル保護）およびカルボキシ−
エステル−保護（例、カルボキシ−C_1-4アルキル
−またはカルボキシ−ベンジル−エステル−保
護）体の線状ウンデカペプチドから、以下の方法
によつて製造してもよい。

(i) Ｎ−保護，カルボキシ−エステル−保護のウ
ンデカペプチドとヒドラジン水和物の、要すれ
ばジメチルホルムアミドに溶解し、例えば０〜
30℃の温度での反応、 (ii) 例えば、トリフルオロ酢酸の存在下、例えば
約０℃の温度での、酸処理によるＮ−保護基
（例、Ｎ−ブトキシカルボニル保護基）の除法、
および (iii) 例えば、HCIの如き酸（今や非保護となつた
アミノ基の酸化防止用）の存在下例えば−20〜
０℃の温度での亜硝酸ｔ−ブチルによる処理に
よつて、 ヒドラジドの酸化。

その後、カルボニルアジドの最終の環化は、ト
リエチルアミンまたはエチルジイソプロピルアミ
ドの如き塩基の添加によつて、例えば−20〜０℃
の温度で行う。

１−ヒドロキシ−ベンゾトリアゾールエステル
類は、遊離−Ｎおよび遊離−カルボキシ体の線状
ウンデカペプチドから、トリエチルアミンの如き
塩基の存在下、例えば−20〜30℃の温度でクロロ
ホルムの如き不活性溶媒中でベンゾトリアゾリル
−Ｎ−オキシド−トリス（ジメチルアミノ）−ホ
スホニウムヘキサフルオロホスフエートとの反応
によつて製造できる。反応は同時に環化を伴つて
進行する。

カルボキシ活性基の選定はクリチイカルでない
けれども、適当な反応条件の選定は重要であると
考えられる。実施例1vに記述の反応条件を使用
すると、副生成物の形成が避けられず、最終の環
化でのサイクロスポリンＡの収率は低い。しか
し、指示される反応パラメーターは概して適当で
あり、サイクロスポリンＡは取得反応媒体から実
質的純粋体で回収され得る。サイクロスポリンＡ
の収率は、反応条件の適当且つ常時に調整によつ
て、例えば関係反応体の比率と溶媒選定の調整お
よび反応温度とPHの精密制御によつて増大され得
る。

環化反応には、ペプチドは要すればＯ−保護体
であつてよい。即ち、後述の如く、C₉−アミノ
酸部分でおよび／またはサイクロスポリンＣまた
はその誘導体の場合には２−スレオニン部分でＯ
−保護基を有していてよい。かかるＯ−保護基
は、例えば(i)０〜80℃の温度でメタノール／水の
如き溶媒中でトリフルオロ酢酸またはHClの如き
酸との処理によつてｔ−ブチルの如きアルキル基
を除去するための、または(ii)０〜30℃の温度でア
ルコール性アルカリ金属−またはアルカリ土類金
属−アルコーラートの存在下加水分解によつてア
セチルの如きエステル基を除去するための、また
は(iii)０〜30℃の温度でエタノールの如き不活性溶
媒中でパラジウム／木炭の如き金属触媒の存在下
水素化することによつて、または例えば約35℃の
温度で液体アンモニア中ナトリウムで処理するこ
とによつてペンジル基を除去するための、当該分
野で公知の方法により除去され、次いで閉環され
る。

上記水素化方法(iii)を使用し、ウンデカペプチド
のC₉−アミノ酸部分が二重結合を有するときは、
該二重結合は同時に還元されて、対応するジヒド
ロ−サイクロスポリンを最終生成物として得る。
不飽和C₉−アミノ酸を含む当初取得サイクロス
ポリン類は、いずれの場合にあつても、例えば天
然生成サイクロスポリン類（例、サイクロスポリ
ンＣおよびＤ）を例えば接触還元によつて還元す
るのに当該分野で述べられた公知方法に従つて、
または例えば英国特許明細書第1567201号に述べ
られている一般法に従つて、還元により対応する
ジヒドロサイクロスポリン誘導体に変換され得
る。還元は、20〜30℃の温度で大気圧または若干
加圧下で白金、好ましくはパラジウム（例、パラ
ジウム／木炭）の如き触媒の存在下酢酸エチルの
如き不活性溶媒または希釈剤の存在下中性PH条件
下で行うのが適当である。

フーチヤートは、サイクロスポリンＡ製造用
全合成経路を示す。しかし、同じ基本方策が、例
えば、サイクロスポリンＣ、ＤおよびＧを得るた
めに２位でα−アミノ酪酸に代えてスレオニン、
バリンまたはノルバリンを用いることによつて、
または１位で（2S，3R，4R，6E）−３−ヒドロ
キシ−４−メチル−２−メチルアミノ−オクト−
６−エン酸をここに述べるその誘導体と交換する
ことによつて、他のサイクロスポリン類およびサ
イクロスポリン誘導体を得るのに適用され得る。

C₉−アミノ酸の合成 立体化学的純粋体のC₉−アミノ酸を合成する
ための本発明方法は、フローチヤートに図式表
示されている。合成の各工程は次のように実施し
得る。

(a) Ｏ−保護_1-4アルキルまたはC_7-11アラルキル
基X′およびX″を導入するためのエステル化
（式XV）。好ましくは、X′およびX″は同一で
ある。エステル化は式Ｘの化合物とアルキル
−またはアラルキル−ハライド（例、ハロゲン
化ベンジル、特に臭化ベンジル）との反応によ
つて、好適には縮合剤の存在下、例えばアルカ
リ金属水酸化物（特に水酸化カリウム）の存在
下で行い得る。反応は無水条件下例えば20〜
100℃の温度で行うのが好ましい。式の出
発物質は公知であり（例えばJ.Chem.Soc.，
Chem.Commun.1975．（20）pp.833〜835参
照）、また公知方法によつて製造され得る。

(b) 例えば−10〜30℃の温度でのＮ−クロロ−
〔Hal＝Cl〕またはＮ−ブロモ−〔Hal＝Br〕−
スクシンイミドとの反応。反応は溶媒として四
塩化炭素を使用して暗所で行うのが好ましい。
式の化合物は公知である（J.Chem.Soc.，
Supra.）。

(c) 例えば、水性アルカリ（特に水性アルカリ金
属水酸化物、殊に水酸化カリウム）の存在下、
加水分解およびエポキシ化。反応は20〜60℃の
温度で行うのが好ましい。

(d) エポキシ環の開環を行うためのメチル化。

この工程は第一銅塩（特にハロゲン化第一銅
（例、ヨウ化第一銅）の存在化低温で式の
化合物とメチルリチウムの反応によつて実施し
得る。

有利には、メチルリチウムと第一銅塩は−20
〜０℃の温度で加え、次いで反応混合物は更に
−60〜−20℃に冷却する。

(e) 保護基X′およびX″を除去するためのエーテ
ル分解。X′およびX″がアラルキルであるとき、
分解は例えば、触媒として例えば10％パラジウ
ム／木炭を使用し０〜30℃の温度で常圧または
若干加圧で接触水素化により、還元的に行い得
る。

X′およびX″がｓ−またはｔ−アルキルであ
るとき、分解は例えば、トリフルオロ酢酸また
は塩酸の存在下例えば０〜30℃の温度で加水分
解的に行う。

(f) 保護基（R₃）₂C〈〔式中、R₃＝メチルまたはエ
チル〕の導入、例えば、式の化合物とアセ
トンまたは２，２−ジメトキシプロパン（R₃
＝CH₃の式XIIの化合物の製造）、またはジ−エ
チルケトン（R₃＝C₂H₅の式XIIの化合物の製造）
との反応による。反応は酸性媒体（例、ｐ−ト
ルエンスルホン酸）の存在下、例ば40℃の加熱
温度で還流下行う。

(g) 式XI〔式中、R₄＝トシル、特にｐ−トシル）
の化合物製造のための、例えばトシル（特にハ
ロゲン化ｐ−トシル−スルホニル（例、塩化ｐ
−トルエン−スルホニル））との反応による、
トシル化。反応はピリジンの如き有機塩基の存
在下例えば−20〜20℃の温度で実施する。

(h) 無水条件下シアン化アルカリ金属（特にシア
ン化カリウム）との反応。反応は溶媒としてジ
メチル−スルホキシドを使用して実施するのが
好ましく、また不活性雰囲気下で行うのが適当
である。反応は例えば20〜70℃の加熱または若
干加熱温度で最良に進行する。

(i) 例えば、水素化ジイソブチルアルミニウムを
使用し、テトラヒドロフラン、ヘキサンまたは
トルエンの如き中性溶媒の存在下、還元および
加水分解。反応は不活性雰囲気下−80〜−20℃
の温度で実施するのが好ましい。

(j) 例えば、臭化エチルトリフルエニルホスホニ
ウムまたはその類似物であつてアルキル部分に
炭素数３〜５を有するものの存在下、または
Schlosser〔Ann.Chem.708，１，（1967）〕によ
つて述べられている方法に従う臭化エチルトリ
フエニルホスホニウムの存在下、ｎ−ブチルリ
チウムによる縮合。反応はテトラヒドロフラン
および／またはエーテルの如き中性溶媒または
希釈剤中で実施することが適当である。ｔ−ブ
タノールの存在下約−90〜−30℃の温度で行う
とき、反応はトランス形の式の生成物を導
く、反応をｔ−ブタノールの不存在下に周囲温
度、例えば０〜30℃で実施すると、対応するシ
ス形が得られる。

(k) 例えば塩酸の如き希鉱酸水溶液の存在下例え
ば加水分解によつて、保護基（R₃）₂C〈の除去。
反応は０〜30℃の温度で行うのが適当である。

(l) Ｏ−保護基X₃（例、１−メトキシエチル、１
−エトキシエチルまたは２−メトキシイソプロ
ピル基）の導入。反応は次の３つの工程操作に
よつて実施するのが有利である。即ち、(i)例え
ば、弱有機塩基（特にピリジン）の存在下ハロ
ゲン化ベンゾイル（特に塩化ベンゾイル）との
反応によつて、第１級アルコール官能基のエス
テル化（特にベンゾイル化）、(ii)例えば、触媒
量の酸、特にトリフルオロ酢酸の如き有機酸の
存在下（C_1-4アルコキシ）−ビニルエーテル
（例、エトキシ−ビニルエーテル）との反応に
よつて、第２級アルコール官能基のケタール
化、そして(iii)例えば、水酸化ナトリウムの如き
塩基水溶液の存在下、第１級アルコール官能基
での保護ベンゾイル基の除去と共に加水分解。
反応順序(i)→(ii)→(iii)は０〜30℃の温度で実施す
るのが有利である。

（ｍとm′） 例えば、ジメチルスルホキシドお
よびジシクロヘキシルカルボジイミドの存在下
ピリジンおよびトリフルオロ酢酸の添加による
Moffat〔J.A.C.S.87，5661（1965）および88，
1762（1966）〕に述べられている方法による、酸
化。この反応は０〜30℃の温度で行うのが適当
である。

（ｎとn′） 反応は、Streker合成の第１工程に
相当し、HCNまたは好ましくはアルカリ金属
シアン化物、特にKCNおよびアンモニアまた
は塩化アンモニウム（R₁＝Ｈの式VaまたはVb
の化合物の製造）またはメチルアミン（R₁＝
CH₃の式VaまたはVbの化合物の製造）との反
応によつて行い得る。反応は０〜30℃の温度で
行うのが適当である。

（l′とl″） 例えば、トリフルオロ酢酸の如き酸
およびジシクロヘキシルカルボイミドの存在下
０〜30℃の温度での脱ケタール化による、Ｏ−
保護基X₃の除去。保護基X₃の導入（式ｂ〜
ｂ）なくして、工程ｍおよびｎを経て式ａ
の化合物から式ａの化合物に直接進行させる
ことは可能であるが、工程１、m′、n′′および
l″を経る合成が望ましい。

（ｏ） 例えば、式Vaの化合物とアセトンまた
は２，２ジメトキシ−プロパン〔（X₂＋X₃）＝
（CH₃）₂C〈の式の化合物の製造〕またはカル
ボニル−もしくはチオカルボニル−ジイミダゾ
ールまたはホスゲン〔（X₂＋X₃）＝−CO−また
は−CS−の式の化合物の製造〕との反応に
よる、保護基（X₂＋X₃）の導入と６員環また
は好ましくは５員環の完成。反応は溶媒として
塩化メチレンまたはトルエンの存在下例えば０
〜30℃の温度で実施するのが好ましい。

（ｐとp′） 例えば、水酸化ナトリウム水溶液の
如き水性アルカリ媒体中で（式b¹の遊離酸の
生成−工程ｐ）または引き続きアルコール性ア
ルカリ金属−またはアルカリ土類金属−アルコ
ーレートまたはカーボネート懸濁液および酸
（例、HCl）の存在下（式a¹のエステルの生
成−工程p′）、選択的加水分解および異性化。
アルコール性成分の変化によつて、R₅＝C_1-4
アルキルの式a¹の化合物を得てよい。好まし
くは、反応はエタノール性ナトリウム−または
カリウム−カーボネート懸濁液を使用して実施
して、R₅＝C₂H₅の式a¹の化合物を得る。反
応は熱力学的に進行して、カルボニル基が隣接
するアルキル置換基Ｚ−CH（CH₃）−に関して
トランス位置を取る。有利には、反応は０〜20
℃の温度で実施する。

（ｑとq′） 例えば、パラジウム／木炭触媒を使
用し例えば−５〜40℃の温度で常圧または若干
加圧下、水素化（例、接触水素化）。工程ｑま
たはq′を含むことによつて、−ｘ−ｙ−＝−
CH₂−CH₂−の式のアミノ酸が生成される。
フローチヤートに示す如く工程ｐまたはp′に
続いて水素化を実施することが有利であるが、
工程ｊ〜ｏのいずれかに続いて水素化を行うこ
とも等しく可能である。明らかな如く反応過程
の早期段階で水素化を使用して、基CH₃−CH
＝CH−CH₂−（＝Ｚ）が基CH₃−CH₂−CH₂−
CH₂−によつて置換される式〜の対応する
化合物を製造し得る。

（ｒ） 例えば水性アルカリ金属−またはアルカ
リ土類金属−水酸化物、特にNaOHまたは
KOHの存在下、選択的加水分解。反応は０〜
20℃の温度で行うのが適当である。最初に取得
の塩は、例えば希鉱酸（例、HCl）の添加によ
つて、式b¹またはb²の遊離酸に変換し得
る。PH６〜７で遊離塩は沈殿し、純粋で反応媒
体から容易に回収できる。

（ｓ） 保護基（X₂＋X₃）の除去。（X₂＋X₃）
が例えばカルボニルまたはチオカルボニルであ
るとき、例えば水性アルカリ金属またはアルカ
リ土類金属の水酸化物の存在下工程ｒと同様に
例えば40〜70℃の温度でアルカリ性加水分解す
ることによつて除去を行うのが有利である。
（X₂＋X₃）が例えば式（CH₃）₂C＜の基である
とき、例えば希鉱酸（例、HC）の存在下10
〜40℃の温度で酸性加水分解することによつて
除去を行う。

最初に取得の塩（例、酸性加水分解の場合には
最初に取得の酸付加塩）は、PH約６〜７に調整す
ることによつて、適当量のアルカリの添加によつ
てまたは工程ｒと同様に酸の添加によつて、遊離
アミノ酸に変換し得る。等電点で遊離アミノ酸は
沈殿し、実質的純粋体で反応媒体か回収できる。

上記反応工程ａ〜ｓの各々は、不活性溶媒また
は希釈剤の存在下実施するのが適当である。特に
明示しない限り、それは選定反応条件下反応成分
に不活性である適当な溶媒または希釈剤のいずれ
であつてもよい。適当な溶媒および希釈剤は実施
例に例示されている。

両不斉炭素原子がＳ配位を有する式の化合
物から出発すると、２−，３−および４−位がそ
れぞれＳ，ＲおよびＲ配位を有する式のアミノ
酸が得られる。２−，３−および４−位がそれぞ
れＲ，Ｓおよび配位を有する鏡像体は、両不斉炭
素原子がＲ配位を有する式の化合物から出発
して得られる。

合成用途では、式のアミノ酸は例えば後述の
如く保護体および／または活性体の形態で一般に
使用される。かかる形態は当該分野で公知の方法
によつて得てよい。式の遊離酸およびその塩類
ならびにその保護体または活性体の合成のための
特定方法は、実施例２〜10に述べられている。

以上の記述によれば、本発明は、第１の観点に
おいて、式 〔式中、Ａは式ａ （式中、R₁は水素またはメチルであり、−ｘ−
ｙ−は−CH₂−CH₂−または−CH＝CH−であ
り、２−，３−および４−位はそれぞれＳ，Ｒお
よびＲまたはＲ，ＳおよびＳ配置をとる。） で表わされる基、Ｂはエチル、１−ヒドロキシエ
チル、イソプロピルまたはｎ−プロピルである。〕 で表わされるサイクロスポリンの製造方法を提供
し、該方法は、 (a) 対応するＯ−保護形誘導体から該Ｏ−保護基
の少くとも１つを離脱せしめ、 (b) 対応する配列をもつた保護形または非保護形
の直鎖ウンデカペプチドでＮ末端のＨ−（Ｄ）−
Ala−で始まつてＣ末端の−Ala−OHで終る
ものを閉環し、要すれば前記(a)工程を実施し、
所望に応じて (c) こゝに得られた成績体であつて−ｘ−ｙ−が
−CH＝CH−であるものを水素化して対応す
る−ｘ−ｙ−が−CH₂−CH₂−であるものに変
換する ことを特徴とする。

また、本発明は、上記定義の方法によつて製造
される式のサイクロスポリン類、および一般に
は式の「合成」サイクロスポリン類を提供す
る。

〔本発明化合物に関して（例、上記式のサイ
クロスポリン類に関して）使用する語句「合成」
は、合成化学の分野で使用される技術によつて本
質的に得られる化合物を意味する。天然生成物お
よび生物学的技術によつて得られる生成物、なら
びに生物学的に得られるサイクロスポリン類から
例えば化学変性または分解で得られる合成誘導体
類は除外される。〕 更に他の観点では、本発明は、後述の遊離体ま
たは保護体および／または活性体の式の化合物
から得られる、例えば該式の化合物から化学反
応を経て製造される。式のサイクロスポリンを
も提供する。

Ａが前記定義の式ａの基であつて、但しR₁
がメチル、−ｘ−ｙ−が−CH₂−CH₂−またはト
ランス−CH＝CH−である場合２−，３−およ
び４−位がそれぞれＲ，ＳおよびＳ配位をとる上
記式のサイクロスポリン類は、新規化合物であ
り、そ自体特許請求されている。

前述の如く、フローチヤートの式の化合物
の２つの基本構造および絶対配置、即ち、〔2S，
3R，4R〕−３−ヒドロキシ−４−メチル−２−
メチルアミノ−オクタン酸および−〔6E〕−オク
テン酸の基本部分と絶対配置は、以前に決定、記
述されているが、これらは化合物としては他の式
の化合物と同様に新規である。これらは従来単
離体または単離可能体で知られておらず、また従
来合成されておらず、更にそれらの立体化学的純
粋体での合成方法も従来開示されていない。

サイクロスポリン類（特にサイクロスポリン
Ａ）およびその誘導体類の全合成における中間体
としての、新規アミノ酸としてのそれらの価値と
は別に、式の化合物およびその活性形と保護形
（例、フローチヤートに示す式b¹とb²の化
合物）は、一般には新規な環状および非環状の化
学物質、および新規ペプチド類（即ち、特にジー
およびポリーペプチド類）の合成において、広範
に有用で重要なものである。従つて、式の化合
物およびその新規誘導体類（例、それらの保護体
および活性体）ならびにここに述べる非環状ペプ
チド中間体類は、本発明の一部を成す。

従つて、更に他の観点では、本発明は、 (A) 合成〔1S，2R，3R〕−または〔1R，2S，
3S〕−１−ニトリロ−１−カルボニル−３−メ
チル−22−オキソ−ヘプタンまたは−ヘプト−
５−エン。（上記語句「合成」は先に述べたの
と同意義を有する。本明細書を通じて使用する
語句「ニトリロ」は３価窒素原子（即ち、式＞
Ｎ−の基）、を意味する。語句「イミノ」およ
び「メチルイミノ」はそれぞれ式−NH−およ
び−Ｎ（CH₃）−の基を含む２価窒素を意味す
る。「カルボニル」は式＞Ｃ＝０の基。および
「オキシ」は式−Ｏ−の基を意味する。上記定
義の各基の１価は指示位置で上記ヘプタンまた
ヘプト−５−エン部分に結合していることが理
解される。〕上記Ａに定義の化合物中、遊離形、
保護形または活性形の１−カルボキシラジカル
または遊離形または保護形の１−アミノもしく
は１−メチルアミノ基を有するものは、式の
遊離アミノ酸として、それら自体新規物質であ
り、従来記述されておらず、合成されておら
ず、また単離体または単離可能体で得られてい
ない。従つて、 (B) 遊離形またはカルボキシ−保護形または−活
性形の〔1S，2R，3R〕−または〔1R，2S，
3S〕−１−ニトリロ−１−カルボキシ−３−メ
チル−２−オキシ−ヘプタンまたは−ヘプト−
５−エン、および (C) 遊離形またはＮ−保護形の〔1S，2R，3R〕
−または〔1R，2S，3S〕−１−アミノ−または
−１−メチルアミノ−１−カルボニル−３−メ
チル−２−オキシ−ヘプタンまたは−ヘプト−
５−エン を提供する。

Ａ，ＢおよびＣで定義される化合物の２−オキ
シ基は、例えば２−ヒドロキシであつてよい。Ａ
およびＢで定義される化合物中、１−ニトリロ基
は例えば１−イミノまたは１−メチルイミノ基で
あつてよい。かかる化合物は、例えばここに述べ
る方法または当該分野で公知の方法に従つて合成
的に得られ、そして要すれば純粋体または実質的
純粋体で回収し得る。定義化合物に存在し得るカ
ルボキシ−およびＮ−保護基としては、例えば後
に特に述べるものが挙げられる。他方、該化合物
は遊離体であつてよい。

より一層特別な観点においては、本発明は式 〔式中、R₁は水素またはメチル、−ｘ−ｙ−は
−CH₂−CH₂−または−CH＝CH−であり、２
−，３−，および４−位はそれぞれＳ，Ｒおよび
ＲまたはＲ，Ｓおよび７配位をとる。〕 の化合物をも遊離形または保護および／または活
性形で提供する。

遊離形の上記式の化合物は、フローチヤート
の式の化合物である。本発明によれば、これ
ら化合物は保護形の式の化合物から保護基を除
去することによつて合成的に得ることができる。
保護基の除去は公知技術に従つて行うことができ
る。遊離形の式の化合物は、特にフローチヤー
トの工程ｓまたは（ｒ＋ｓ）の方法に従つて製
造できる。生成物化合物は純粋体または実質的純
粋体で単離することができる。

一般に、合成化学（例、ペプチド合成）用に
は、例えばここに述べるサイクロスポリンＡの全
合成用には、式の化合物は保護および／または
活性形形態、特に保護形または保護活性形で使用
することが好ましい。かかる形態は、公知タイプ
で、公知アミノ酸、特にセリンおよびスレオニン
の如き公知ヒドロキシ−アミノ酸に関して通常使
用されるものに相当する。かかる化合物は、遊離
−または活性−カルボキシ形とＮ−保護形、また
はカルボキシ−保護形と遊離−Ｎ形で、各々の場
合のヒドロキシ基は要すればＯ−保護形であるこ
とが好ましい。かかる保護形および活性形として
は、式のものが包含される。

〔式中、−ｘ−ｙ−は−CH₂−CH₂−または−
CH＝CH−、R₁は水素またはメチル、X₁はヒド
ロキシまたはカルボキシ−保護基もしくは活性
基、X₂は水素またはＮ−保護基、X₃は水素また
はＯ−保護基、または（X₂＋X₃）は２−Ｎ官能
基と３−Ｏ官能基間の架橋保護基、または〔X₂
＋X₁〕は２価Ｎ−保護基であつて、少なくとも
１つの保護基が存在し、２−，３−および４−位
はそれぞれＳ，ＲおよびＲまたはＲ，ＳおよびＳ
配置をとる。〕 標準合成法によれば、式の化合物は、X₁が
ヒドロキシまたはカルボキシ−活性基で２−Ｎ官
能基がＮ−保護体であるか、またはX₁がカルボ
キシ−保護基で２−Ｎ官能基が遊離体であるもの
が通常使用される。従つて、式の好ましい化合
物は、 （1a） R₁は水素またはメチル、X₁はヒドロキ
シまたはカルボキシ−活性基、X₂はＮ−保護
基、X₃は水素またはＯ−保護基、または（X₂
＋X₃）は２−Ｎ官能基と３−Ｏ官能基間の架
橋保護基、または（X₂＋X₁）は２価Ｎ−保護
基であり、特に （1b） R₁は水素またはメチル、X₁はヒドロキ
シまたはカルボキシ−活性基、（X₂＋X₃）は２
−Ｎ官能基と３−０官能基間の架橋保護基であ
り、または (2) R₁は水素またはメチル、X₁はカルボキシ−
保護基、X₂は水素、X₃は水素またはＯ−保護
基である、 ものである。

２−Ｎ官能基とカルボキシ官能基の両者が保護
形である式の化合物を使用することはやはり、
例えば、式の化合物を反応媒体中へ非反応性先
駆物質形で導入し、カルボキシ−保護基またはＮ
−保護基をその場所で例えば反応操作中の特定段
階で除去することが望まれる状況においても適当
である。

フローチヤートの式a¹、a²、b¹および
b²の中間体は、それ自体式化合物の保護形で
あり、式の範囲に包含される。

このようにして式a¹およびa²、特に式b¹
およびb²の化合物は、式の遊離アミノ酸自体
を製造採取せずして、合成（例、ペプチド誘導体
の合成）におて直接使用され得る。式、特に式
の化合物の保護および／または活性形は、遊離
形の式の化合物から出発し、１つまたはそれ以
上の保護および／または活性基（例、１つまたは
それ以上の保護基）および要すればカルボキシ−
活性基を導入することによつて製造され得る。こ
のようにして式の化合物は、遊離形の式の化
合物から、カルボキシ−保護基または−活性基
X₁および／または(i)Ｎ−保護基X₂または（X₂＋
R₁）および／またはＯ−保護基X₃、または(ii)２
−Ｎ官能基と３−Ｏ官能基間の架橋保護基（X₂
＋X₃）を導入することによつて得られる。

上記定義の好ましい式の化合物は、遊離形の
式の化合物から、 (i) Ｎ−保護基X₂または（X₂＋R₁）および要す
ればＯ−保護基X₃を導入することによつて、
または２−Ｎ官能基と３−Ｏ官能基間の架橋保
護基（X₂＋X₃）を導入することによつて、お
よび要すればカルボキシ−活性基X₁を導入す
ることによつて、または (ii) カルボキシ−保護基X₁および要すればＯ−
保護基X₃を導入することによつて、 製造し得る。

上述の保護および／または活性基の導入は、公
知で、アミノ酸分野、特にペプチド化学で通常使
用される技術のいずれによつても実施し得る。

また、式、特に式の化合物の保護形および
活性形は、保護形および要すれば活性形の、少な
くとも２つの保護基を有する式の化合物から、
少なくとも１つの保護基を残すように少なくとも
１つの保護基を選択的に除去することによつて製
造し得る。ここでも、保護基の除去（例、分解）
は、当該分野で公知の技術（例、フローチヤート
の工程ｒ）に従つて行われ得る。

また、R₁が水素またはメチル、−ｘ−ｙ−が−
CH₂−CH₂−または−CH＝CH−、X₁がヒドロ
キシまたはC_1-4アルコキシであり、（X₂＋X₃）が
２−Ｎ官能基と３−Ｏ官能基間を架橋し且つ６員
環または好ましくは５員環を作り上げる保護基、
特にカルボニル基、チオカルボニル基またはイソ
プロピリデン基を表わし、２−，３−および４−
位がそれぞれＲ，ＳおよびＳまたはＳ，Ｒおよび
Ｒ配位をとるところの上記式の化合物は、フロ
ーチヤートの工程ｐまたはP′に従つて製造され
得る。即ち、式 〔式中、R₁および−ｘ−ｙ−は上記と同意義、
（X₂＋X₃）は１−Ｎ官能基と２−Ｏ官能基間を架
橋する上記定義の保護基を表わし、２−および３
−位はそれぞれＲおよびＲまたはＳおよびＳ配置
をとる。〕 の化合物をアルカリ性水性媒体中でまたはアルコ
ール性アルカリ金属−またはアルカリ土類金属−
アルコーラートの存在下で選択的加水分解および
異性化することによつて製造されてよい。生成化
合物は、例えばHC₁による酸性化によつて塩形態
または遊離形態で反応媒体から直接単離され得
る。

適当な保護基および活性基は当該分野で公知の
ものであり、ここで語句「保護基」は保護される
前の遊離形の基をもたらすと共に保護される前の
化合物の本質的同一性に影響を与えることなく有
利に除去し得る基を意味するものと理解される。

上記方法の生成物は実質的に純粋な形態で単離
され得る。

適当なカルボキシ−保護および−活性基（X₁）
としては、例えばｔ−ブトキシ（ｔ−ブチルエス
テル）、ジフエニルメトキシ（ベンズヒドリルエ
ステル）、ベンジルオキシ（ベンジルエステル）、
Ｐ−メトキシベンジルエステル、ｏ−ニトロフエ
ニルエステル、エトキシ（エチルエステル）、１
−ヒドロキシ−ベンゾトリアゾールエステル、Ｎ
−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカ
ルボキシイミド、３−ヒドロキシ−４−オキソ−
３，４−ジヒドロ−１，２，３−ベンゾトリアニ
ツクエステル、８−ヒドロキシキノリンエステ
ル、イソブチルエステル、メトキシ（メチルエス
テル）、ｐ−ニトロベンジルエステル、ｐ−ニト
ロフエノキシ（Ｐ−ニトロフエニルエステル）、
フエニルアゾフエニルエステル、ペンタクロロフ
エニルエステル、ペンタフルオロフエニルエステ
ル、フエニルエステル、ｐ−クロロフエニルエス
テル、２−ベンジルオキシフエニルエステル、ｏ
−メトキシフエニルエステル、４−ピコリルエス
テル、ペンタメチルベンジルエステル、１−フエ
ニル−３−メチル−４−ニトロソ−５−（Ｎ−ベ
ンジルオキシカルボニルグリシル）−アミノ−ピ
ラゾールエステル、４−メチルチオフエニルエス
テル、ｎ−スクシンイミドエステル、２，４，５
−トリクロロフエニル、２，４，６−トリメチル
ベンジルエステル、ポリエチレングリコールエス
テル、ｐ−ニトロフエニルチオエステル、フエニ
ルチオールエステル、トリメチルシリル、トリメ
チルシリルエチルオキシ、トリメチルシリルオキ
シの基が挙げられる。

適当なカルボキシ−活性基（X₁）の他の例と
しては、例えばメトキシ−、エトキシ−およびｔ
−ブチルオキシ−カルボニルオキシの如きアルコ
キシカルボニルオキシ（混合無水物）基、ピバロ
イル無水物（トリメチルアセチル無水物）および
ジメチルアセチル無水物の如きアルキルカルボニ
ル基、ｎ−プロピルホスホン酸無水物を包含する
〔Angew.Chem.92（1980）129に記述の如き〕ア
ルキルホスホン酸無水物基、およびアジド基が挙
げられる。

適当なＮ−保護基（X₂）としては、アダマン
チルオキシカルボニル、ｔ−アミルオキシカルボ
ニル、２−（ｐ−フエニルアゾフエニル）−イソプ
ロピルオキシカルボニル、５−ベンゾイソオキサ
ゾリルメチレンオキシカルボニルアミノ、ｔ−ブ
チルオキシカルボニル、２，２，２−トリフルオ
ロ−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノエチル、
２−（ｐ−ジフエニル）−イソプロピルオキシカル
ボニル、３，５−ジメトキシ（α，α−ジメチ
ル）ベンジルオキシカルボニル、ｐ−ジヒドロキ
シボリルベンジルオキシカルボニルアミノ、９−
フルオレニルメトキシカルボニル、イソボルニル
オキシカルボニル、１−メチルシクロブチルオキ
シカルボニル、メチルスルホニルエチルオキシカ
ルボニル、２−メチルスルホニルエトキシカルボ
ニル、n′−４−ピコリルオキシカルボニル、ピペ
リジノオキシカルボニル、シクロペンチルオキシ
カルボニル、２−フエニルイソプロピルオキシカ
ルボニル、ｐ−フエニルアゾベンジルオキシカル
ボニル、ｐ−トシルアミノカルボニル、β，β，
β−トリクロロエチルオキシカルボニル、ベンジ
ルオキシカルボニル、ｐ−ブロモベンジルオキシ
カルボニル、ｐ−クロロベンジルオキシカルボニ
ル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｐ−
メトキシベンジルオキシカルボニル、および２，
２，２−トリフルオロ−１−ベンジルオキシカル
ボニルアミノエチルの如き公知のウレタン型保護
基、ならびにトリメチルシラン、トリエチルシラ
ン、トリ−ｎ−ブチルシランおよびｔ−ブチル−
ジメチルシランの如きトリアルキルシラン型保護
基が挙げられる。

更に他の適当なＮ−保護基（X₂）およびＯ−
保護基としては、例えばアセチル、２，２，2.−
トリフルオロ−１−ｔ−ブチルオキシカルボニル
アミノエチル、ベンゾイル、ベンジル、α−メチ
ル−α−（５，４−ジメチル−２−フエニルアゾ
フエノキシ）プロピオニル、２，４−ジメトキシ
ベンジル、ジニトロフエニル、１−ジメチルアミ
ノナフタリン−５−スルホニル（ダンシル）、ジ
フエニルホスフインアミド、ホルミル、α−メチ
ル−α−（４−メチル−２−フエニルアゾフエノ
キシ）プロピオニル、４，4′−ジメトキシベンゾ
ヒドリル、ｏ−ニトロフエニルスルフエニル、２
−（４−トリルスルホニル）エトキシ、ペンタフ
ルオロフエニル、フタリル、α−ピコリニル、２
−ピペコリン酸、トリクロロアセチル、トリフル
オロアセチル、テトラフルオロプロピオニル、テ
トラヒドロピラニル、トシルおよびトリチルの基
が挙げられる。

２−Ｎ官能基と３−Ｏ官能基間を架橋する適当
な保護基〔（X₂＋X₃）〕としては、カルボニル、
チオカルボニルおよびイソプロピリデンの基が挙
げられる。適当な２価Ｎ−保護基〔（X₂＋R₁）〕
としては、フタリル基が挙げられる。

上述の如く式の化合物、特にその保護形およ
び／または活性形は、更に新規な化学物質を合成
することにおいて一般に重要で有用性を有するも
のである。特に、これらはペプチド合成におい
て、特に例えば上述の如くサイクロスポリン誘導
体およびその製造用中間体の合成において用途を
有する。この目的のためには、式の化合物また
はその保護形および／または活性形は、要すれば
更に反応に付す前に純粋体または実質的純粋体に
まず復活させてよく、または適当な場合にはこれ
らを製造する反応媒体中でそのまま直接使用して
もよい。反応はアミノ酸化学、特にペプチド合成
の分野で通常使用される技術のいずれに従つて
も、またはサイクロスポリンＡおよびその中間体
と誘導体の合成のために上述した特定の技術に従
つて行われてよい。

従つて、更に他の観点では、本発明は、 (D) 上記定義の遊離形または保護形および／また
は活性形の式の化合物から得られる、例えば
式の化合物の誘導体化、即ち遊離形または保
護形および／または活性形の式の化合物の化
学反応を経て製造される、〔1S，2R，3R−ま
たは〔1R，2S，3S〕−１−ニトリロ−１−カル
ボニル−３−メチル−２−オキシ−ヘプタンま
たは−ヘプト−５−エン、および、特に (E) 〔1S，2R，3R〕−または〔1R，2S，3S〕−
１−ニトリロ−１−カルボニル−３−メチル−
２−オキシ−ヘプタンまたは−ヘプト−５−エ
ンを含み、少なくとも１つの合成的に形成され
たペプチド結合、例えば上記基の１−ニトリロ
官能基の自由原子価および／または１−カルボ
ニル官能基の自由原子価を満たす結合を有す
る、遊離形または保護形のペプチド、 をも提供する。

なお更に他の観点では、本発明は、 (F) 〔1S，2R，3R〕−または〔1R，2S，３，
Ｓ〕−１−ニトリロ−１−カルボニル−３−メ
チル−２−オキシ−ヘプタンまたは−ヘプト−
５−エンを含み、遊離形または保護形であり実
質的純粋体である線状ペプチド、 (G) １−ニトリ官能基の自由原子価がペプチド結
合によつて満たされている遊離形またはＮ−保
護形の〔1S，2R，3R〕−または〔1R，2S，
3S〕−１−ニトリロ−１−カルボキシ−３−メ
チル−２−オキシ−ヘプタンまたは−ヘプト−
５−エン、および (H) １−カルボニル官能基の自由原子価がペプチ
ド結合によつて満たされている遊離形またはＮ
−保護形の〔1S，2R，3R〕−または〔1R，
2S，3S〕−１−アミノ−または１−メチルアミ
ノ−１−カルボニル−３−メチル−２−オキシ
−ヘプタンまたは−ヘプト−５−エン、 をも提供する。

上記定義ＧおよびＨは、ヘプタンまたはヘプト
−５−エン部分がそれぞれペプチド配列Ｃ−およ
びＮ−末端である。ペプチド、例えば定義Ｆによ
るペプチドに特に関係することが理解される。上
記Ｄ〜Ｈで定義される化合物において、２−オキ
シ基は例えば２−ヒドロキシであつてよい。

上記Ｄ〜Ｇで定義される化合物において、１−
ニトリロ基は１−イミノまたは１−メチルイミノ
基であつてよい。Ｄ、Ｅ、ＧおよびＨで定義され
る化合物は線状であつてよい。これらは要すれ
ば、純粋体または実質的純粋体で、例えば他のペ
プチド汚染物質を実質的に含まない形態で単離さ
れ得る。

〔ここで使用する語句「線状ペプチド」は、Ｎ
−およびＣ−末端を有し、これらが結合していな
い、即ちこれらが環状系を完成していないペプチ
ドを意味する。従つて、この語句は基本アミノ酸
配列が環状であるペプチドを除外する。アミノ酸
配列内でより少さな内部環状系を含み、非ペプチ
ド結合によつて完成されているペプチドは包含さ
れる。好ましくは、かかる「線状ペプチド」は非
環状である。勿論、線状ペプチドおよび非環状ペ
プチドの両者は、基本ペプチド鎖の長さに沿つて
１つまたはそれ以上の環状置換基を有していてよ
い。〕 上述の化合物の多くは塩形態で存在し得る。

例えば式の遊離アミノ酸は、非塩形態のみなら
ず酸塩（例、アルカリ金属塩）および酸付加塩
（例、塩酸塩）で存在する。同様に、本発明ペプ
チドは、塩形態または重金属錯体で存在してよ
い。かかる形態は当該分野でよく知られており、
通常の方法で、例えば適当な塩基（例、アルカリ
金属水酸化物）または酸（例、塩酸）との反応に
よつて非塩形態から（即ち、式の遊離アミノ酸
の場合において、等電点の上下にPHを調整するこ
とによつて）得られる。一般に、かかる形態は、
対応する非塩体または非錯体に均等である。従つ
て、本発明にあつては、前記定義化合物は非塩体
と非錯体の両者のみならず、適当な場合には塩体
および／または錯体を包含するものとして解釈さ
れるべきである。

フローチヤートの式XV〜の中間体も新規
であり、同様に本発明の一部である。これらの化
合物において、式ａおよびｂ〜のものは特
に興味あるものである。

次の実施例は本発明方法の具体例である。

実施例１：サイクロスポリンＡの合成 次の例の合成経路はフローチヤートに示され
ているものである。次の略語を使用する。

BOC＝ｔ−ブチルオキシ−カルボニル Bzl＝ベンジルオキシ Ｈ−α−Abu−OH＝α−アミノ酪酸 Ｈ−Sar−OH＝サルコシン Ｈ−C₉A−OH＝（2S，3R，4R，6E）−３−ヒ
ドロキシ−４−メチル−２−メチルアミノ−オク
ト−６−エン酸（実施例2.1参照）Oxaz−C₉A−
OH＝（4R，5S）−４−（ヘキサ−2E−エン−5R−
イル）−１，２−トリメチル−オキサゾリン−５
−カルボン酸（実施例７参照） 標準命名法によれば、すべてのアミノ酸残基
（例：−Abu−，Leu−，−Ala，−Val等）は、特
に示さない限りＬ型である。Meによつて先導さ
れる残基（例：−MeLeu−の如き）は対応する
Ｎ−メチル−残基を表わす。

(a) Boc−α−Abu−Sar−Bzl： 塩化ピバロイル10.3ml（10.18g＝84.8mモル）
とＮ−メチル−モルホリン16.4g（162mモル）を
Boc−α−Abu−OH15.66g（17.1mモル）のクロ
ロホルム500ml溶液に加え、混合物を３時間室温
で窒素雰囲気下撹拌する。次いでＨ−Sar−
Bzl16.5g（92.5mモル）のクロロホルム500ml溶液
を加え、反応混合物を更に２時間室温で再度窒素
雰囲気下撹拌する。得られる溶液をＮの
HCl300mlで洗い、水相を塩化メチレン200mlで抽
出し、有機相を合し、これを飽和炭酸カリウム溶
液200mlで２回洗う。水相を塩化メチレン200mlで
抽出し、有機相を合し、これを炭酸カリウムで乾
燥し、過し、濃縮する。溶離剤としてメタノー
ル１％を含む塩化メチレンを使用し、シリカゲル
60（0.063〜0.24mm）１Kgでもつて残渣をクロマト
グラフイーに付して、標記化合物を得る。〔α〕²⁵ _D
＝−42゜（ｃ＝1.0、クロロホルム中）。

(b) BOC−α−Abu−Sar−OH： 10％パラジウム／木炭2gを含むエタノール500
ml中のBoc−α−Abu−Sar−Bzl10.7g（29.4mmモ
ル）を２時間室温で水素化することにより脱ベン
ジル化する。生成物をタルクを通じて過し、蒸
発させ、乾燥して、標記化合物を得る。〔α〕²⁵ _D＝
−5.3゜（ｃ＝1.0、クロロホルム中）。

(c) BOC−MeLeu−Ala−Bzl： 塩化ピバロイル23.3ml（18.9g＝157mモル）と
トリエチルアミン48ml（28.9g＝286mモル）を
BOC−MeLeu−OH35g（143mモル）のクロロホ
ルム500ml溶液に加え、混合物を２時間室温で窒
素雰囲気下撹拌する。次いでクロロホルム300ml
に溶解したＨ−Ala−Bzl30.7g（171mモル）を加
え、反応混合物を更に２時間室温で再度窒素雰囲
気下撹拌する。生成物を実施例1aの技術に従つ
て精製して、標記化合物を得る。〔α〕²⁵ _D＝−59.4゜
（ｃ＝1.0、クロロホルム中）。

(d) Ｈ−MeLeu−Ala−Bzl： BOC−Meleu−Ala−Bzl46.8g（115mモル）を
０℃に予冷したトリフルオロ酢酸100mlに溶解し、
０℃で１時間そして室温で0.5時間放置する。得
られる溶液を減圧濃縮し、塩化メチレン500mlで
希釈し、氷に注ぎ、飽和炭酸カリウム溶液300ml
で洗う。水相を塩化メチレン200mlで抽出し、有
機相を合し、これを炭酸カリウムで乾燥し、過
し、濃縮する。溶離剤としてメタノール５％を含
む塩化メチレンを使用し、シリカゲル60（0.063〜
〜0.24mm）２Kgでもつて残渣をクロマトグラフイ
ーに付して、標記化合物を得る。〔α〕²⁵ _D＝−44.5゜
（ｃ＝1.0、クロロホルム中）。

(e) BOC−Val−MeLeu−Ala−Bzl： 塩化ピバロイル12.9ml（12.7g＝106mモル）と
Ｎ−エチル−ジイソプロピルアミン23g（212mモ
ル）をBOC−Ｌ−Val−OH23.2g（106mモル）の
クロロホルム400ml溶液に加え、混合物を２時間
室温で窒素雰囲気下撹拌する。次いでクロロホル
ム100mlに溶解したＨ−Meleu−Ala−Bzl27.37g
（89mモル）を加え、反応混合物を更に18時間60
℃で再度窒素雰囲気下撹拌する。得られる溶液を
1NのHCl300mlで洗い、水相を塩化メチレン200
mlで抽出し、有機相を合し、これを飽和炭酸カリ
ウム溶液200mlで２回洗う。水相を塩化メチレン
200mlで抽出し、有機相を合し、これを炭酸カリ
ウムで乾燥し、過し、濃縮する。残渣を溶離剤
としてのメタノール１％を含む塩化メチレンでも
つてシリカゲル60（0.065〜0.2mm）２Kgでクロマ
トグラフイーに付して、標記化合物を無色オイル
として得る。〔α〕²⁵ _D＝−97.2゜（ｃ＝1.0、クロロホ
ルム中）。

(f) Ｈ−Val−MeLeu−Ala−Bzl： トリフルオロ酢酸100mlに溶解したBOC−Val
−MeLeu−Ala−Bzl30.7g（60.8mモル）を２時間
室温で撹拌する。得られる溶液を減圧濃縮し、残
渣を塩化メチレン500mlで希釈する。該溶液を飽
和炭酸カリウム溶液200mlで３回洗い、氷を加え、
水相を塩化メチレン200mlで抽出し、有機相を合
し、これを炭酸カリウムで乾燥する。更に過、
濃縮して、標記化合物を淡黄色オイルとして得
る。〔α〕²⁵ _D＝−87.1゜（ｃ＝1.0、クロロホルム中）
。

(g) BOC−MeLeu−Val−MeLeu−Ala−Bzl： 塩化ピバロイル8.5ml（8.3g＝69.5mモル）とＮ
−メチルモルホリン12.7ml（115.8mモル）を
BOC−MeLeu−OH15.6g（63.7mモル）のクロロ
ホルム500ml溶液に加え、混合物を２時間室温で
窒素雰囲気下撹拌する。次いでクロロホルム100
mlに溶解したＨ−Val−MeLeu−Ala−
Bzl23.45g（57.9mモル）を加え、反応混合物を更
に２時間室温で再度窒素雰囲気下撹拌する。実施
例1aの方法に従つて精製して、標記化合物を淡
黄色オイルとして得る。〔α〕_25D＝−126.7゜（ｃ＝
1.0、クロロホルム中）。

(h) Ｈ−MeLeu−Val−MeLeu−Ala−Bzl： トリフルオロ酢酸100mlに溶解したBOC−
MeLeu−Val−MeLeu−Ala−Bzl31.27g（49.5m
モル）を2.5時間室温で撹拌し、生成溶液を減圧
濃縮する。残渣を炭酸メチレン溶液500mlで希釈
し、氷を加え、水相を塩化メチレン200mlで抽出
する。有機相を合し、これを炭酸カリウムで乾燥
し、過し、濃縮して、標記化合物を得る。〔α〕
²² _D＝−114.4゜（ｃ＝1.0、クロロホルム中）、エーテ
ル／石油エーテルから再結晶してm.P.66〜67℃ (i) BOC−α−Abu−Sar−MeLeu−Val−
MeLeu−Ala−Bzl： 塩化ピバロイル3.5ml（3.3g＝27.7mモル）とＮ
−メチルモルホリン5.4g（52.9mモル）をBOC−
α−Abu−Sar−OH（実施例1b）6.9g（25.2mモ
ル）のクロロホルム250ml溶液に加え、混合物を
１時間室温で窒素雰囲気下撹拌する。次いでクロ
ロホルム100mlに溶解したＨ−MeLeu−Val−
MeLeu−Ala−Bzl2.0g（22.7mモル）を加え、反
応混合物を更に15時間室温で再度窒素雰囲気下撹
拌する。得られる生成物を実施例1aの方法に従
つて精製して、標記化合物を、無色泡状物として
得る。〔α〕²⁵ _D＝−137.9゜（ｃ＝1.0、クロロホルム
中）。

(j) Ｈ−α−Abu−Sar−MeLeu−Val−Meleu
−Ala−Bzl： トリフルオロ酢酸50mlに溶解したBOC−α−
Abu−Sar−MeLeu−Val−MeLeu−Ala−
Bzl15.75g（19.9mモル）を４時間室温で撹拌す
る。溶媒を減圧蒸発さ、残渣を塩化メチレン300
mlに溶解し、得られる溶液を飽和炭酸ナトリウム
溶液200mlで３回洗い、氷を加える。水相を塩化
メチレン200mlで抽出し、有機相を合し、これを
炭酸カリウムで乾燥し、過し、濃縮して、標記
化合物を得る。〔α〕²⁵ _D＝−127.3゜（ｃ＝1.0、クロ
ロホルム中）。

(k) Oxaz−C₉A−α−Abu−Sar−MeLeu−Val
−MeLeu−Ala−Bzl： 新調製のOxaz−C₉A−OH1.5g（6.22mモル）を
テトラヒドロフラン50mlに溶解し、Ｎ−メチル−
モルホリン0.7g（6.93mモル）を直ちに加える。１
−ヒドロキシベンゾトリアゾール1.68g（12.4mモ
ル）をトルエン50mlで２回振とう濃縮して脱水
し、次いでＨ−α−Abu−Sar−MeLeu−Val−
MeLeu−Ala−Bzl4.28g（6.22mモル）と一緒に上
記溶液に加える。全体を０℃に冷却し、ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド1.34g（6.5mモル）を加え
る。得られる反応混合物を室温に加温し、次いで
15時間室温で撹拌する。得られる溶液を塩化メチ
レン300mlで希釈し、1Nの重炭酸ナトリウム溶液
200mlで振とうする。水相を塩化メチレン200mlで
再度抽出し、有機相を合し、これを硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、過し、蒸発させる。溶離剤として
メタノール３％を含む塩化メチレンを使用し、シ
リカゲル（0.063〜0.24mm）500gで残渣をクロマ
トグラフイーに付して、標記化合物を得る。〔α〕
²⁵ _D＝−117゜（ｃ＝1.0、クロロホルム中）。

(l) Ｈ−C₉A−α−Abu−Sar−MeLeu−Val−
MeLeu−Ala−Bzl： メタノール16mlに溶解したOxaz−C₉A−α−
Abu−Sar−MeLeu−Val−MeLeu−Ala−
Bzl1.5g（1.6mモル）を15時間室温で1NのHCl1.6
mlの存在下撹拌する。次いでイソプロピリデン保
護基の解離は薄層クロマトグラフイーによつて追
跡し得る。反応媒体中の酸を重炭酸ナトリウム
1g（12mモル）の添加によつて中和し、メタノー
ルを注意深く充分に蒸発除去し、温度を最高30℃
に保つ。

残渣をメタノール５％含有塩化メチレン10mlに
取り、溶離剤としてメタノール５％を含む塩化メ
チレンを使用し、シリカゲル（0.06〜0.24mm）
100gでクマトグラフイーに付す。旋光度−138゜
（ｃ＝1.0、クロロホルム中）を有する標記化合物
を得る。

（ｍ） BOC−（Ｄ）−Ala−Meleu−Bzl： Boc−（Ｄ）−Ala−OH18.9g（100mモル）をク
ロロホルム250mlに溶解し、撹拌しながら−20℃
に冷却する。次いでＮ−メチルモルホリン23.1ml
（21.2g＝210mモル）と塩化ピバロイル12.2ml
（12.0g＝100mモル）を加え、全体をなお−20℃
で２時間撹拌する。無水物形成をIRコントロー
ルによつて追跡する。無水物形成が完了すると、
クロロホルム50mlに溶解したＨ−MeLeu−
Bzl23.5g（100mモル）を得られる反応混合物に−
20℃で５分間にわたつて滴下する。ジペプチド形
成を薄層クロマトグラフイーとIRスペクトロメ
トリイを使用して追跡する。19時間後無水物は検
出できない。得られる反応溶液を水300mlに注ぎ、
クロロホルム300mlで希釈する。有機相を分別し、
水100mlで洗い、硫酸ナトリウムで乾燥し、過
し、溶媒を最大40℃で注意深く蒸発除去する。得
られる残渣をヘキサンから再結晶して、標記化合
物を得る。〔α〕²⁵ _D＝−35.3゜（ｃ＝1.05、クロロホ
ルム中）、m.p.81℃。

（ｎ） BOC−（Ｄ）−Ala−MeLeu−OH： 10％パラジウム／木炭1.6gを含むエタノール
800mlに溶解したBOC−（Ｄ）−Ala−MeLeu−
Bzl32.45g（79.92mモル）を２時間室温で水素化
することによつて脱ベンジル化する。計算量の水
素を吸収した後懸濁液をタルクを通じて過し、
溶媒を蒸発除去し、残渣をヘキサンから結晶化し
て、〔α〕²⁵ _D＝−36.7゜（ｃ＝0.8、クロロホルム中）
の旋光度を有する標記化合物を得る。

（ｏ） BOC−（Ｄ）−Ala−MeLeu−MeLeu−
Bzl： Ｎ−メチルモルホリン17.9ml（16.4g＝162.4m
モル）をBOC−（Ｄ）−Ala−MeLeu−OH24.5g
（77.3mモル）のクロロホルム200ml溶液に加え、
全体を−20℃に冷却する。次いで塩化ピバロイル
9.5ml（9.27g＝77.3mモル）を５分間で加え、反
応混合物を90分間なお−20℃で撹拌する。無水物
形成をIRコントロールによつて続いて行い、完
了するとＨ−MeLeu−Bzl18.2g（77.3mモル）の
クロロホルム50ml溶液を−20℃で５分間以内で滴
下する。もはや無水物が存在しなくなるまで−20
℃で18時間の反応時間が必要である。得られる溶
液を水300mlに注ぎ、更にクロロホルム300mlでま
ず希釈した後に分別漏斗中で抽出する。水相をク
ロロホルム300mlで抽出し、有機相を合し、これ
を硫酸ナトリウムで乾燥し、過し、蒸発する。
残渣を溶離剤として２％メタノール含有塩化メチ
レンを使用してシリカゲル（0.063〜0.24mm）１
Kgでクロマトグラフイーに付して、標記化合物を
得る。〔α〕²⁵ _D＝−101.3゜（ｃ＝0.9、クロロホルム
中）。

（ｐ） BOC−（Ｄ）−Ala−MeLeu−Meleu−
OH： 10％パラジウム／木炭1.5gを含むエタノール
800ml中のBOC−（Ｄ）−Ala−MeLeu−MeLeu−
Bzl29.3g（54.97mモル）を２時間室温で水素化す
ることによつて脱ベンジル化する。計算量の水素
を吸収した後得られる懸濁液をタルクを通じて
過し、蒸発し、残渣をヘキサンから結晶化して、
標記化合物を得る。〔α〕²⁵ _D＝−112.6゜（ｃ＝0.85、
クロロホルム中）。

（ｑ） BOC−（Ｄ）−Ala−MeLeu−MeLeu−
MeVal−Bzl： Ｎ−メチルモルホリン3.48ml（3.18g＝31.5mモ
ル）と塩化ピバロイル1.86ml（1.8g＝15.0mモル）
を−20℃に予冷したBOC−（Ｄ）−Ala−MeLeu
−MeLeu−OH6.65g（15.0mモル）のクロロホル
ム660ml溶液に加える。２時間−20℃で撹拌（IR
コントロール）後無水物への転化を完了する。次
いでクロロホルム50ml中のＨ−MeVal−
Bzl3.35g（15.0mモル）を反応混合物に−20℃で
滴下する。続いて薄層クロマトグラフイーとIR
スペクトロメトリイによつて反応を追跡し、4.5
日間後に完了する。得られる溶液を振とう機の
1Nの重炭酸ナトリウム200mlに注ぎ、クロロホル
ム300mlで希釈する。有機相を分別後水相を更に
クロロホルム100mlで抽出し、クロロホルム相を
合し、これを硫酸ナトリウムで乾燥し、過し、
蒸発する。残渣を溶離剤として２％メタノール含
有塩化メチレンを使用してシリカゲル（0.063〜
0.2mm）600gでクロマトグラフイーに付して、標
記化合物を得る。〔α〕²⁵ _D＝−143.7゜（ｃ＝0.9、ク
ロロホルム中）。

（ｒ） BOC−（Ｄ）−Ala−MeLeu−MeLeu−
MeVal−OH： 10％パラジウム／木炭0.5gを含むエタノール
500mlに溶解したBOC−（Ｄ）−Ala−MeLeu−
MeLeu−MeVal−Bzl5.53g（10.0mモル）を１時
間室温で水素化することによつて脱ベンジル化す
る。得られる懸濁液をタルクを通じて過し、蒸
発し、残渣を硫酸ナトリウムで乾燥して、〔α〕²⁵ _D
＝−187゜（ｃ＝0.88、クロロホルム中）の旋光度
を有する標記化合物を得る。

（ｓ） BOC−（Ｄ）−Ala−MeLeu−MeLeu−
MeVal−C₉A−α−Abu−Sar−MeLeu−Val
−MeLeu−Ala−Bzl： BOC−（Ｄ）−Ala−MeLeu−MeLeu−MeVal
−OH278ml（0.5mモル）続いてＨ−C₉A−α−
Abu−Sar−MeLeu−Val−MeLeu−Ala−Bzl
（実施例11参照）を塩化メチレン10mlに室温で溶
解する。次いで塩化メチレン１mlで希釈したＮ−
メチルモルホリン0.55ml（50.5mg＝0.5mモル）と
ベンゾトリアゾリル−Ｎ−オキシ．トリス（ジメ
チルアミノ）ホルホニウムヘキサフルオロホスフ
エート22.1mg（0.5mモル）を該溶液に加え、全体
を22時間室温で撹拌し、反応が完結するまで薄層
クロマトグラフイーによつて追跡する。生成溶液
を塩化メチレン200mlで希釈し、水100mlで洗い、
水相を塩化メチレン100mlで抽出する。有機相を
合し、これを硫酸ナトリウムで乾燥し、過し、
蒸発する。残渣を溶離剤として５％メタノール含
有塩化メチレンを使用してシリカゲル（0.063〜
0.24mm）200gでクロマトグラフイーに付して、標
記化合物を得る。〔α〕²⁵ _D＝−175.6゜（ｃ＝0.36、ク
ロロホルム中）。

（ｔ） BOC−（Ｄ）−Ala−MeLeu−MeLeu−
MeVal−C₉A−α−Abu−Sar−MeLeu−Val
−MeLcu−Ala−NHNH₂： BOC−（Ｄ）−Ala−MeLeu−MeLeu−MeVal
−C₉A−α−Abu−Sar−MeLeu−Val−MeLeu
−Ala−Bzl0.84g（0.59mモル）を４時間室温でジ
メチルホルムアミド３ml中のヒドラジン水和物３
mlと共に撹拌し、その後ジメチルホルムアミドと
過剰のヒドラジン水和物を室温で高減圧下蒸発除
去する。残秀を酢酸エチル250mlに溶解し、飽和
NaCl溶液50mlで２回振とうする。有機相を硫酸
ナトリウムで乾燥し、過し、蒸発し、残渣を溶
離剤として５％メタノール含有塩化メチレンを使
用してシリカゲル（0.663〜0.24mm）100gでクロ
マトグラフイーに付して、標記化合物を得る。

〔α〕²⁰ _D＝−170.2゜（ｃ＝1.0、クロロホルム中）
。

（ｕ） Ｈ−（Ｄ）−Ala−MeLeu−Meleu−
MeVal−C₉A−α−Abu−Sar−MeLeu−Val
−MeLeu−Ala−NHNH₂： BOC−（Ｄ）−Ala−MeLeu−MeLeu−MeVal
−C₉A−α−Abu−Sar−MeLeu−Val−MeLeu
−Ala−NHNH₂0.73g（0.55mモル）を１時間室
温でトリフルオロ酢酸３ml中で無水条件下撹拌
し、次いでトリフルオロ酢酸を室温で水流減圧下
充分蒸発除去する。残渣を塩化メチレン200mlに
溶解し、直ちに飽和重炭酸ナトリウム溶液100ml
で振とうする。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥
し、過し、蒸発し、得られる残渣を溶離剤とし
て10％メタノール含有塩化メチレンを使用してシ
リカゲル100gでクロマトグラフイーに付して、
標記化合物を得る。〔α〕²⁰ _D＝−189.2゜（ｃ＝0.87、
クロロホルム中）。

（ｖ） サイクロスポリンＡ： 2MのHCl／ジオキサン0.2mlと亜硝酸ｔ−ブチ
ル22.8mg（0.22mモル）をジメチルホルムアミド
５mlに溶解したＨ−（Ｄ）−Ala−MeLeu−Meleu
−MeVal−C₉A−α−Abu−Sar−MeLeu−Val
−MeLeu−Ala−NHNH₂136mg（0.11ｍモル）
に−20℃で加え、全体を45分間−20℃で撹拌す
る。次いで更に亜硝酸ｔ−ブチル22.8mg（0.22m
モル）を加え、反応混合物を更に２時間−20℃で
撹拌し、次いでジメチルホルムアミド20mlで希釈
する。次いでエテルジイソプロピルアミン0.051g
（0.4mモル）を加え、混合物を更に２時間−20℃
で撹拌する。生成溶液をHClの100mlにPH３で注
ぎ、ジエチルエーテル200mlで振とうする。エー
テル相を水50mlで洗い、硫酸ナトリウムで乾燥
し、過し、蒸発し、残渣を溶離剤として２％メ
タノール含有塩化メチレンを使用してシリカゲル
（0.063〜0.24mm）50gでクロマトグラフイーに付
す。薄層クロマトグラフイーによつてサイクロス
ポリンＡとして認められるフラクシヨンを収集
し、アセトンから再結晶する。得られる生成物は
m.p.150℃と 〔α〕²⁰ _D＝−245゜（ｃ＝0.8、クロロホルム中）を有
する。天然生成物化合物サイクロスポリンＡとの
同一性は、NMR分光によつて確認される。

実施例2.1：（2S，3R，4R，6E）−３−ヒドロ
キシ−４−メチル−２−メチルアミノ−オクト−
６−エン酸の合成、フローチヤート、式
〔R₁＝CH₃、−Ｘ−Ｙ−＝トランス−CH＝CH
−〕、方法工程：ｓ （4R，5R）−４−（ヘキサ−2E−エン−5R−イ
ル）−１−メチル−２−オキソ−オキサゾリン−
５−カルボン酸（実施例2rの生成物）172mg
（0.76mモル）を2NのKOH2.0mlに溶解する。溶
液を３時間80℃で加温し、冷却し、1NのHCIの
添加によつてPH５に調整し、ロータリーエバポレ
ータで濃縮する。残渣をメタノールに取り、
SePhadexLH20の50gを通じて過し、蒸発す
る。残渣をエタノールから再結晶して、標記化合
物を純粋体で得る。m.P.240〜241℃、 〔α〕²² _D＝＋13.0゜（ｃ＝0.46、水中）。

実施例2.2：（2S，3R，4R）−３−ヒドロキシ−
４−メチル−２−メチルアミノ−オクタン酸の合
成、フローチヤート、式〔R₁＝CH₃、−Ｘ−
Ｙ−＝−CH₂−CH₂−〕、方法工程ｓ （4R，5S）−４−（2R−ヘキシル）−１−メチル
−２−オキソ−オキサゾリン−５−カルボン酸
（実施例2r′の生成物）110mg（0.48mモル）を2N
のKOH1.4mlに溶解する。溶液を２時間80℃で加
温し、冷却し、1NのHCIの添加によつてPH４に
調整し、溶媒としてメタノールを使用して
SePhadexLH20の50gを通じて過する。液を
蒸発し、残渣を水25mlに取り、アニオンン交換樹
脂〔Biorad AG3−X₄（100〜200メツシユ）〕3g
を通過させて汚染HCIを除去し、蒸発し、エタノ
ールから再結晶して、標記化合物を純粋体で得
る。m.P.248〜249℃、〔α〕²² _D＝＋170゜（ｃ＝0.44、
水中）。

上記実施例2.1および2.2で使用する出発物質
は、次の如く製造する。

実施例2a：（4S，5S）−４，５−ジベンジルオ
キシメチル−２−フエニル−１，３−ジオキソラ
ン、フローチヤート、式〔X′およびX″＝
φ−CH₂−〕 （4S，5S）−４，５−ジヒドロキシメチル−２
−フエニル−１，３−ジオキソラン15g（71.4mモ
ル）をトルエン300mlで２回蒸発させることによ
り完全に無水物にし、反応容器に残る油状物をト
ルエン150mlに溶解する。粉末KOH30g（535mモ
ル）と臭化ベンジル71.5g（418mモル）を加え、
反応混合物を15時間80℃で撹拌する。混合物を冷
却し、残留トルエン相をデカントし、トルエン
200mlで２回撹拌しデカントすることによつて残
留相から無機成分を除去する。トルエン相を台
し、これをタルクを通じて過し、蒸発し、残留
油状物を溶媒として塩化メチレンを使用してシリ
カゲル60の２Kgを通じて分別過する。臭化ベン
ジルを含むフラクシヨンを処分する。標記化合物
を〔α〕²⁰ _D＝＋10.1（±１）。（ｃ＝1.4、クロロホル
ム中）の旋光度を有する淡黄色液体として得る。

実施例2b：（2S，3R）−２−ベンゾイルオキシ
−１，４−ジベンジルオキシ−３−ブロモブタ
ン、フローチヤート、式〔X′およびX″＝
φ−CH₂−〕 Ｎ−ブロモスクシンイミド10.9g（61.2mモル）
をテトラクロロメタン150mlに懸濁し、懸濁液を
４℃に冷却し、テトラクロロメタン250mlに溶解
した（4S，5S）−４，５−ジベンジルオキシメチ
ル−２−フエニル−１，３−ジオキソラ23.9g
（61.2mモル）を同温度で50分間にわたつて滴下
する。冷却浴を除き、反応フラスコをアルミニウ
ム箔で包み、反応混合物を３日間室温で撹拌す
る。得られるオレンジ着色懸濁液を塩化メチレン
１で希釈し、飽和重炭酸ナトリウム溶液200ml
で振とうする。水相を塩化メチレン300mlで抽出
し、有機相を合し、これを硫酸ナトリウムで乾燥
し、タルク層を通じて過し、減圧蒸発する。残
渣をシリカゲル60の１Kgと溶離剤としての塩化メ
チレンを使用してクロマトグラフイーに付す。標
記化合物を無色オイルとして得る。〔α〕²² _D＝＋
18.7゜（ｃ＝1.3、クロロホルム中）。

実施例2c：（2S，3S）−ジベンジルオキシメチ
ル−オキシラン、フローチヤート、式
〔X′およびX″＝φ−CH₂−〕 10N水酸化カリウム水溶液16.5mlを（2S，3R）
−２−ベンゾイルオキシ−１，４−ジベンジルオ
キシ−３−ブロモ−ブタン25.7g（54.8mモル）の
エタノール330ml溶液に加え、実質的に同時に生
ずる沈殿物KBrを得る。反応混合物を30分間室
温で撹拌し、次いで10NのHCIの添加によつてPH
５に調整する。水−エタノール性混合物を減圧蒸
発し、残渣を塩化メチレン500mlに取り、水200ml
で洗い、水相を塩化メチレン200mlで２回抽出す
る。有機相を合し、これを硫酸ナトリウムで乾燥
し、タルク層を通じて過し、蒸発し、残渣を減
圧蒸留して、標記化合物を得る。b.p.164〜168℃
（0.2トル）、 〔α〕²⁰ _D〕−8.7゜（ｃ＝1.1、クロロホルム中）。
生
成物をエーテル／ペトロエーテルで結晶化する。
m.p.24℃。

実施例2d：（2R，3R）−１，４−ジベンジルオ
キシ−２−ヒドロキシ−３−メチル−ブタン、フ
ローチヤート、式〔X′およびX″＝φ−
CH₂−〕真空乾燥ヨウ化第一銅4.64g（24.38mモ
ル）を無水ジエチルエーテル100mlに乾燥窒素ガ
スを通じながら懸濁する。メチルリチウムの4.4
％エーテル溶液23.6ml（47.52mモル）を０℃で速
かに加え、得られる透明なオレンジ色−褐色溶液
をドライアイス冷却浴を使用して直ちに−60℃に
冷却する。次いで無水エーテル25mlに溶解した
（2S，3S）−ジベンジルオキシメチル−オキシラ
ン3.0g（10.56mモル）を加え、反応混合物を１時
間更に−60℃で撹拌する。次いで過剰のメチルリ
チウムを分解するためにメタノール５mlを加え
る。次いで冷却浴を除き、反応混合物を室温に加
温し、水５mlを加える。反応混合物を塩化メチレ
ン300mlで希釈し、水200mlで３回洗い、水性銅着
色沈殿物を塩化メチレン200mlで更に３回抽出す
る。有機相を台し、これを硫酸ナトリウムで乾燥
し、タルク層を通じて過し、減圧蒸発し、残渣
を溶離剤として塩化メチレンを使用するシリカゲ
ル60の90gによるクロマトグラフイーによつて精
製して、標記化合物を淡ベージユ色オイルとして
得る。〔α〕²⁰ _D＝−4.4゜（ｃ＝1.5、クロロホルム中
。

実施例2e：（2R、3R）−１，２，４−トリヒド
ロキシ−３−メチル−ブタン、フローチヤート
、式 （2R，3R）−１，４−ジベンジルオキシ−２
−ヒドロキシ−３−メチル−ブタン4.5g（15mモ
ル）を10％パラジウム／木炭0.5gを含むエタノー
ル120ml中で２時間室温で水素化することにより
脱ベンジル化する。生成物をタルク層を通じて
過し、蒸発し、溶離剤としての塩化メチレン／メ
タノール（８：２）でもつてシリカゲル60の
120gでクロマトグラフイーに付す。標記化合物
を無色粘稠油状物として得る。

実施例2f：（4R）−４−（１−ヒドロキシ−2R−
プロピル）−２−ジメチル−１，３−ジオキソラ
ン、フローチヤート、式XII ベンゼン180mlに溶解した（2R，3R）−１，
２，４−トリヒドロキシ−３−メチル−ブタン
30.5g（0.254モル）を２時間２，２−ジメトキシ
プロパン39.8g（0.381モル）とｐ−トルエンスル
ホン酸・水和物180mgで還流する。

溶媒をータリーエバポレータで除去し、残留油状
物をアセトン600mlに取り、Ｐ−トルエンスルホ
ン酸・水和物0.6gを加え、得られる溶液を16時間
還流沸騰する得られる黄色溶液をロータリーエバ
ポレータで100ml濃縮し、溶離剤として２％メタ
ノール性塩化メチレンを使用し、中性Alox（活性
度）１Kgでクロマトグラフイーに付す。標記化
合物を油状物として得る。

〔α〕²² _D＝−19.8゜（ｃ＝1.0、クロロホルム中）、
b.P.56℃（0.1トル）。

実施例2g：（4R）−４−（１−Ｐ−トシルオキシ
−2R−プロピル）−２−ジメチル−１，３−ジオ
キソラン、フローチヤート、式XI ｐ−トルエンスルホニルクロリド14.3g（75m
モル）を室温で（4R）−４−（１−ヒドロキシ−
2R−プロピル）−２−ジメチル−１，３−ジオキ
ソラン10.0g（62.5mモル）のクロロホルムム65ml
溶液に加える。無水ピリジン10.1mlを加える。そ
の結果温度は31℃に上昇する。温度が低下を開始
する以前に発熱反応を更に45分間続行する。それ
に続いて反応混合物を更に３時間35℃で撹拌し
て、反応を完結させる。得られる溶液を塩化メチ
レン300mlで希釈し、飽和炭酸ナトリウム溶液150
mlで１回、飽和硫酸第−銅溶液150mlで２回洗う。
水相を塩化メチレン200mlで抽出し、有機相を合
し、これを硫酸ナトリウムで乾燥し、タルクを通
じて過し、蒸発する。溶離剤として塩化メチレ
ンを使用し、中性Alox（活性度）400gで残渣を
クロマトグラフイーに付す。ペトロールエーテル
から結晶化後、〔α〕²⁰ _D＝＋14.2゜（ｃ＝1.0、クロロ
ホルム中）を有する標記化合物を得る。m.p.39〜
40℃。

実施例2h：（4R）−４−（１−シアノ−2R−プ
ロピル）−２−ジメチル−１，３−ジオキソラン、
フローチヤート、式Ｘ 実施例2gに従つて得られる（4R）−４−（１−
ｐ−トシルオキシ−2R−プロピル）−２−ジメチ
ル−１，３−ジオキソラン（17.0g＝54，1mモ
ル）結晶は吸湿性であるので、これを直ちにジメ
チルスルホキシド90mlに溶解し、KCN4.38g
（70.4mモル）を加え、得られる反応混合物を３
目間室温で窒素雰囲気下撹拌する。得られる妄液
をトルエン250mlで希釈し、水125mlで振とうし、
水相を塩化メチレン300mlで２回抽出し、蒸発し、
残渣を水100mlに取る。トルエン200mlで１回振と
う後有機相を最初のトルエン相と合し、硫酸ナト
リウムで乾燥し、過し、濃縮し、高減圧下蒸留
して、標記化合物を無色油状物として得る。b.
p.60〜63℃（0.03トル）、〔α〕²² _D＝＋11.2゜（ｃ＝1
0、
クロロホルム中）。

実施例2i：（3R）−３−（4R−２−ジメチル−
１，３−ジオキソラニル）−ブチルアルデヒド、
フローチヤート、式 （4R）−４−（１−シアノ−2K−プロピル）−
２−ジメチル−１，３−ジオキソラン41g（243m
モル）をヘキサン１に溶解し、溶液を−78℃に
冷却する。水素化ジイソブチルアルミニウム205
ml（20％ヘキサン溶液）を窒素雰囲気下30分間で
温度が−7.0℃を越えないように滴下する。その
後反応混合物を更に1.5時間−78℃で撹拌する。
次いで水15mlを含むテトラヒドロフラン60mlを−
70℃で窒素雰囲気下添加して、過剰の還元剤を分
解する。得られる反応混合物を水１に注ぎ、振
とうする。リチウムアルミニウム沈殿物を吸引
過器で除去する。液を分別漏斗で水相から分
け、塩化メチレン300mlで２回振とうする。有機
相を合し、これを硫酸ナトリウムで乾燥し、過
し、減圧下ロータリーエバポレータで濃縮し、溶
離剤として２％メタノール性塩化メチレンを使用
し、シリカゲル60の３Kgでクロマトグラフイーに
付す。窒素雰囲気下高減圧蒸留によつて、標記化
合物を無色油状物として得る。b.p.45〜50℃
（0.03トル）。

実施例2j：（4R）−４−（ヘキサ−2E−エン−
5R−イル）−２−ジメチル−１，３−ジオキソラ
ン、フローチヤート、式 臭化エチルトリフエニルホスホニウム19.0g
（51.1mモル）を高減圧下110℃で一夜乾燥し、窒
素雰囲気下テトラヒドロフラン250mlとエーテル
250mlの溶液にする。次いでｎ−ブチル−リチウ
ム1.1モル当量（15％ヘキサン溶液31.2ml）を窒
素ガスを通じながら20分間以内で温度が30℃を越
えないように加える。反応混合物は濃赤色着色を
呈し、これを更に30分間室温で撹拌し、次いで−
78℃に冷却する。次いで無水ジエチルエーテル50
mlに溶解した（3R）−３−（4R−２−ジメチル−
１，３−ジオキソラニル）−ブチルアルデヒド
8.0g（46.5mモル）を温度が−73℃を越えないよう
に滴下する。次いで反応混合物を更に30分間撹拌
する。該混合物は淡黄色に着色する。次いでヘキ
サンに溶解したｎ−ブチルリチウム31.2ml
（51.1mモル）を−78℃で更に加え、反応混合物
を30分間再度撹拌する。反応混合物を−30℃に加
温し、ｔ−ブタノール6.5ml（69.7mモル）を10分
間以内で滴下する。反応混合物を更に10分間−30
℃で撹拌し、次いでｔ−酪酸カリウム7.8g（69.7m
モル）を一気に加える。今や黄色である反応溶液
を室温に加温し、1.5時間撹拌し、水１に注ぐ。
水相を分別漏斗で除去し、エーテル200mlで４回
振とうする。有機相を合し、これを硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、別し、減圧下ロータリーエバポレ
ータで濃縮して、標記化合物を得る。これは中間
精製することなく次の反応に直接使用する。

実施例2k：（2R，3R.5E）−２−ヒドロキシ−
３−メチル−５−ヘプテン−１−オール、フロー
チヤート、式ａ〔Ｚ＝トランスCH₃−CH＝
CH−CH₂−〕 水40mlと1NのHC140mlを（4R）−４−（ヘキサ
−2E−エン−5R−イル）−２−ジメチル−１，３
−ジオキソラン6.5g（35mモル）のテトラヒドロ
フラン300ml溶液に加え、反応混合物を２日間室
温で放置する。次いで反応混合物を飽和重炭酸ナ
トリウム溶液の添加によつてPH６〜７に調整し、
ロータリーエバポレータでテトラヒドロフランを
蒸発除去し、ジオール類存在試験を行つたときに
陰性反応するまで水相を塩化メチレンで抽出す
る。有機相を合し、これを硫酸ナトリウムで乾燥
し、過し、ロータリーエバポレータで濃縮し、
溶離剤として10％メタノール性塩化メチレンを使
用し、シリカゲル60の500gを通じて過して、
標記化合物を無色油状物として得る。〔α〕²² _D＝−
5.7゜（ｃ＝1.0、クロロホルム中）、トランス二重結
合の特徴である970cm^-1で強いIR吸収を示す。

実施例2l：（2R，3R，5E）−２−〔（１−エトキ
シエチル）−１〕オキシ−３−メチル−５−ヘプ
テン−１−オール、フローチヤート、式ｂ
〔Ｚ＝トランスCH₃−CH＝CH−CH₂−、X₃＝
C₂H₅O−CH（CH₃）−〕 塩化ベンゾイル6.81ml（58.62mモル）を０℃に
予冷した（2R，3R.5E）−２−ヒドロキシ−３−
メチル−５−ヘプテン−１−オール9.0g（55.8mモ
ル）のピリジン90ml溶液に10分間にわたつて加え
る。反応混合物を40分間室温で撹拌し、塩化メチ
レン600mlで希釈し硫酸第一銅200mlで３回洗う。
水相を塩化メチレン200mlで抽出し、有機相を合
し、硫酸ナトリウムで乾燥し、過し、蒸発し、
溶離剤として１％メタノール性塩化メチレンを使
用し、シリカゲル60の500gでクロマトグラフイ
ーに付す。得られる（2R，3R.5E）−１−ベンジ
ルオキシ−２−ヒドロキシ−３−メチル−５−ヘ
プテンを塩化メチレン200mlに溶解する。エチル
ビニルエーテル14.4gと触媒量のトリフルオロ酢
酸を加え、反応混合物を３日間室温で撹拌する。
得られる溶液を溶離剤として１％メタノール性塩
化メチレンを使用して塩基性Alox（活性度）
800gでクロマトグラフイーに付し、得られる
（2R，3R，5E）−２−〔（１−エトキシエチル）−
１〕オキシ−１−ベンゾイルオキシ−３−メチル
−５−ヘプテンをエタノール150mlに溶解する。
次いで10Nの水酸化カリウム溶液30mlを加え、反
応混合物を90分間室温で撹拌する。得られる溶液
を塩化メチレン１で希釈し、水400mlで洗い、
水相を塩化メチレン400mlで抽出する。有機相を
合し、これを硫酸ナトリウムで乾燥し、過し、
蒸発して、標記化合物を無色油状物として得る。
これは精製することなく次の反応に使用する。

実施例2m′：（2R，3R.5E）−２−〔（１−エトキ
シエチル）−１〕オキシ−３−メチル−５−ヘプ
テン−１−アルデヒド、フローチヤート、式
ｂ〔Ｚ＝トランスCH₃−CH＝CH−CH₂−、X₃＝
C₂H₅O−CH（CH₃）−〕 ジメチルスルホキシド／ベンゼン（１：１）
120mlに溶解した（2R，3R，5E）−２−〔（１−エ
トキシエチル）−１〕オキシ−３−メチル−５−
ヘプテン−１−オール6.3g（21.3mモル）を２時間
室温でトリフルオロ酢酸0.8ml（10.65mモル）と
ジシクロヘキシルカルボジイミド18.5g（89.67mモ
ル）と共に撹拌する。得られる懸濁液を吸引過
器で過し、液をエーテル500mlに取り、水250
mlで洗う。水相をエーテル300mlで抽出し、有機
相を硫酸ナトリウムで乾燥し、過し、蒸発す
る。残渣を溶離剤とて0.5％メタノール性塩化メ
チレンを使用してシリカゲル60でクロマトグラフ
イーに付して、標記化合物を無色油状物として得
る。

実施例2l′：（2R，3R，5E）−２−ヒドロキシ−
３−メチル−５−ヘプテン−１−アルデヒド、フ
ローチヤート、式ａ〔Ｚ＝トランスCH₃−CH
＝CH₂−〕 1NのHCl1.0mlを（2R，3R，5E）−２−〔（１−
エトキシエチル）−１〕オキシ−３−メチル−５
−ヘプテン−１−アルデヒド1.7g（7.9mモル）の
テトラヒドロフラン20ml溶液に加え、反応混合物
を1.5時間室温で放置する。得られる溶液を水100
mlと塩化メチレン200mlで振とうし、有機相を分
別し、再度水100mlで洗う。水相を塩化メチレン
200mlで抽出し、有機相を合し、これを硫酸ナト
リウムで乾燥し、過し、蒸発して、標記化合物
を無色油状物として得る。生成物は次の反応に直
ちに使用する。

実施例2n：（1RS，2R，3R，5E）−１−シアノ
−２−ヒドロキシ−３−メチル−１−メチルアミ
ノ−５−ヘプテン、フローチヤート、式ａ〔Ｚ
＝トランスCH₃−CH＝CH−CH₂−、R₁＝CH₃〕 KCN0.52g（7.9mモル）とメチルアミン塩酸塩
0.54g（7.9mモル）をメタノール50mlに溶解した
（2R，3R，5E）−２−ヒドロキシ−３−メチル−
５−ヘプテン−１−アルデヒド1.1g（7.7mモル）
に撹拌しながら20℃で加える。水7.5ml添加後反
応混合物を更に２時間室温で撹拌し、次いで最大
40℃の水浴温度でロータリーエバポレータで0.5
容に濃縮する。得られる溶液を塩化メチレン300
mlと水200mlで振とうし、分別有機相を更に水100
mlで振とうする。水相を塩化メチレン２×100ml
を使用して交互に抽出し、塩化メチレンフラクシ
ヨンを最初の有機抽出液と合し、全体を硫酸ナト
リウムで乾燥し、G₃フリツトを通じて過し、
蒸発して、標記化合物をジアステレオマー混合物
として得る。これは更に精製することなく直接使
用する。

実施例2n′：（1RS，2R，3R，5E）−２−〔（１−
エトキシエチル）−１〕オキシ−１−シアノ−３
−メチル−１−メチルアミノ−５−ヘプテン、フ
ローチヤート、式Vb〔Ｚ＝トランスCH₃−CH
＝CH−CH₂−、X₃＝C₂H₅O−CH（CH₃）−、R₁
＝CH₃〕 KCN33.1mg（4.81mモル）とメチルアミン塩酸
塩322g（4.76mモル）を（2R，3R，5E）−２−
〔（１−エトキシエチル）−１〕オキシ−３−メチ
ル−５−ヘプテン−１−アルデヒド1.0g（4.67mモ
ル）のメタノール40ml溶液に加える。水６ml添加
後反応混合物を２時間室温で撹拌し、20mlに蒸発
し、残渣を塩化メチレン200mlと水500mlで振とう
する。水相を塩化メチレン50mlで抽出し、有機相
を合し、これを硫酸ナトリウムで乾燥し、過
し、蒸発して、標記化合物をジアステレオマー混
合物として得る。これは更に精製することなく直
接使用する。

実施例2l″：（1RS，2R，3R，5E）−１−シアノ
−２−ヒドロキシ−３−メチル−１−メチルアミ
ノ−５−ヘプテン、フローチヤート、式Va
〔R₁＝CH₃） ジオキサン20mlに溶解した（1RS，2R，3R，
5E）−２−〔（１−エトキシエチル）−１〕オキシ
−１−シアノ−３−メチル−１−メチルアミノ−
５−ヘプテン1.7g（6.7mモル）を20時間室温で窒
素雰囲気下2NのH₂SO₄3mlと共に撹拌する。次い
で反応混合物を水100mlに注ぎ、塩化メチレン200
mlで抽出する。水相を1NのNaOH6mlの添加によ
つてアルカリ性にし、塩化メチレ200mlで２回振
とうし、硫酸ナトリウムで乾燥し、過し、蒸発
して、標記化合物を得る。これは更に精製するこ
となく次の反応に使用する。

実施例2o：（4R，5RS）−５−シアノ−４−（ヘ
キサ−2E−エン−5R−イル）−１−メチル−２−
オキソ−オキサゾリン、フローチヤート、式
〔Ｚ＝トランスCH₃−CH＝CH−CH₂−、（X₂＋
X₃）＝＞Ｃ＝Ｏ、R₁＝CH₃〕 カルボニルジイミダゾール840mg（5.2mモル）
を（1RS，2R，3R，5E）−１−シアノ−３−メ
チル−１−メチルアミノ−２−ヒドロキシ−５−
ヘプテン（実施例2nと2l″参照）630mg（3.46mモ
ル）の塩化メチレン30ml溶液に加え、反応混合物
を一夜室温で撹拌する。得られる溶液を塩化メチ
レン100mlで希釈し、水50mlで振とうする。水相
を塩化メチレン100mlで抽出し、有機相を硫酸ナ
トリウムで乾燥し、過し、蒸発する。残渣を溶
離剤として１％メタノール性塩化メチレンを使用
してシリカゲル60の110gでクロマトグラフイー
に付して、標記化合物をジアステアレオマー混合
物として得る。

実施例2p′：（4R.5S）−４−（ヘキサ−２−Ｅ−
エン−5R−イル）−１−メチル−２−オキソ−オ
キサゾリン−５−カルボン酸エチルエステル、フ
ローチヤート、式a¹〔（X₂＋X₃）＝＞Ｃ＝Ｏ、
R₁＝CH₃、R₂＝C₂H₅−〕 KOH800mg（２モル当量）を（4R，5RS）−５
−シアノ−４−（ヘキサ−2E−エン−5R−イル）
−１−メチル−２−オキソ−オキサゾリン600mg
（2.88mモル）の95％エタノール溶液に加え、混
合物を６時間室温で撹拌する。得られる懸濁液を
塩化メチレン300mlと水100mlで振とうし、水相を
塩化メチレン100mlで抽出する。有機相を合し、
これを硫酸ナトリウムで乾燥し、過ち、蒸発す
る。残渣を95％エタノール58mlに溶解し、1Nの
HCl2.9mlと共に1.5時時間室温で撹拌する。得ら
れる溶液のPHを1N重炭酸ナトリウムの添加によ
つて７に調整し、塩化メチレンで抽出する。有機
相を合し、これを硫酸ナトリウムで乾燥し、過
し、蒸発して、標記化合物を得る。〔α〕²² _D＝＋
29.5゜（ｃ＝1.0、クロロホルム中）。

実施例2q：（4R.5S）−４−（2R−ヘキシル）−１
−メチル−２−オキソ−オキサゾリン−５−カル
ボン酸エチルエステル、フローチヤート、式
² _a〔（X₂＋X₃）＝＞Ｃ＝Ｏ、R₁＝CH₃、R₂＝C₂H₅〕 10％パラジウム／木炭23mgを窒素雰囲気下
（4R，5S）−４−（ヘキサ−２−エン−5R−イル）
−１−メチル−２−オキソ−オキサゾリン−５−
カルボン酸エチルエステル210mg（0.82mモル）
の無水エタノール10ml溶液に加える。水素雰囲気
下反応時間３時間で水素化を行う。得られる溶液
をタルクを通じて過し、蒸発し、溶離剤として
２％メタノール性塩化メチレンを使用してシリカ
ゲル60の60gでクロマトグラフイーに付して、標
記化合物を無色油状物として得る。〔α〕²² _D＝＋
32.5゜（ｃ＝0.93、クロロホルム中）。

実施例2r.1：（4R，5S）−４−（ヘキサ−2E−エ
ン−5R−イル）−１−メチル−２−オキソ−オキ
サゾリン−５−カルボン酸、フローチヤート、
式b¹〔（X₂＋X₃）＞Ｃ＝Ｏ、R₁＝CH₃〕 実施例2p′に従つて得られる（4R，5S）−４−
（ヘキサ−2E−エン−5R−イル）−１−メチル−
２−オキソ−オキサゾリン−５−カルボン酸エチ
ルエステルをジオキサン18mlに溶解し、１時間室
温で0.1NのNaOH50mlと共に撹拌する。得られ
る溶液を1NのHClの添加によつてPH２に調整し、
塩化メチレン300mlで２回抽出する。有機相を硫
酸ナトリウムで乾燥し、過し、蒸発し、得られ
る残渣をエーテルから再結晶して、標記化合物を
純粋なエナンチオマー体で得る。m.p.81〜82℃、
〔α〕²² _D＝＋33.5′（ｃ＝1.0、クロロホルム中）。

実施例2r.2：（4R，5S）−４−（2R−ヘキシル）
−１−メチル−２−オキソ−オキサゾリン−５−
カルボン酸、フローチヤート、式² _b〔（X₂＋
X₃）＝＞Ｃ＝Ｏ、R₁＝CH₃〕 0.1NのNaOH17mlを（4R.5S）−４−（2R−ヘ
キシル）−１−メチル−２−オキソ−オキサゾリ
ン−５−カルボン酸エチルエステル130mg
（0.50mモル）のジオキサン７ml溶液に加え、反
応混合物を１時間室温で撹拌する。得られる溶液
を塩化メチレン150mlで希釈し、1NのHCl添加に
よつてPH２に調整し、水相を塩化メチレン100ml
で抽出する。有機相を合し、これを硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、過し、蒸発する。エーテルから再
結晶して標記化合物を得る。m.p.109℃。

実施例 ３ 実施例２と同様にし、相当する（4S，5S）−異
性体（実施例2a参照）に代えて（4R，5R）−4.5
−ジヒドロキシメチル−２−フエニル−１，３−
ジオキソランから出発し、次のものを得る。

（a1） 工程p′で（4S，5R）−４−（ヘキサ−2E
−エン−5S−イル）−１−メチル−２−オキソ
−オキサゾリン−５−カルボン酸エチルエステ
ル、〔α〕²² _D＝−29.5゜（ｃ＝1.0、クロロホルム
中）。

（b1） 工程q′で（4S，5R）−４−（2S−ヘキシ
ル）−１−メチル−２−オキソ−オキサゾリン
−５−カルボン酸エチルエステル、〔α〕²² _D＝−
32.5゜（ｃ＝0.93、クロロホルム中）。

（a2） 工程ｒで、（4S，5R）−４−（ヘキサ−
2E−エン−5S−イル）−１−メチル−２−オキ
ソ−オキサゾリン−５−カルボン酸、 〔α〕²² _D＝−33.5゜（ｃ＝1.0、水中）。

（b2） 工程r′で（4S，5R）−４−（2S−ヘキシ
ル）−１−メチル−２−オキソ−オキサゾリン
−５−カルボン酸、m.p.110℃。

従つて、 （a3） （2R，3S，4S，6E）−３−ヒドロキシ
−４−メチル−２−メチルアミノ−オクト−６
−エン酸、m.p.240〜241℃、〔α〕²² _D＝−13.0゜
（Ｃ＝0.46、水中）。

（b3） （2R，3S，4S）−３−ヒドロキシ−４
−メチル−２−メチルアミノ−オクタン酸、
m.p.249℃、〔α〕²² _D＝−17゜（ｃ＝0.44、水中）。

実施例 ４ 工程ｎまたはn′でメチルアミン塩酸塩の代わり
に塩化アンモニウムを用いる以外は実施例２およ
び実施例３と同様にして、次のものを得る。

工程p′で （a1） （4R，5S）−４−（ヘキサ−2E−エン−
5R−イル）−２−オキソ−オキサゾリン−５−
カルボン酸エチルエステル。

（b1） （4S，5R）−４−（ヘキサ−2E−エン−
5S−イル）−２−オキソ−オキサゾリン−５−
カルボン酸エステル。

工程ｒで、 （a2） （4R，5S）−４−（ヘキサ−2E−エン−
5R−イル）−２−オキソ−オキサゾリン−５−
カルボン酸。

（b2） （4S，5R）−４−（ヘキサ−2E−エン−
5S−イル）−２−オキソ−オキサゾリン−５−
カルボン酸。

従つて、 （a3） （2S，3R，4R，6E）−３−ヒドロキシ
−４−メチル−２−アミノ−オクト−６−エン
酸、m.p.188〜192℃、〔α〕²⁰ _D＝＋22.6゜（ｃ＝
0.265、0.1NのHCl中）。

（b3） （2R，3S，4S，6E）−３−ヒドロキシ
−４−メチル−２−アミノ−オクト−６−エン
酸、m.p.189〜191℃、〔α〕²⁰ _D＝−22.6゜（ｃ＝
0.265、0.1NのHCl中）。

実施例５：（2S，3R，4R，6Z）−３−ヒドロキ
シ−４−メチル−２−メチルアミノ−オクト−６
−エン酸の合成 上記と同一化合物を実施例２と同様にし、下記
工程5j、5rおよび５を実施例2j、2rおよび2.1とそ
れぞれ置換して製造する。

5j：（4R）−４−（ヘキサ−2Z−エン−5R−イ
ル）−２−ジメチル−１，３−ジオキソラン： フエニル−リチウム40mlを室温で撹拌しながら
12分分間で臭化トリフエニルホスホニウム30.0g
の無水テトラヒドロフラン270mlとジエチルエー
テル70ml懸濁液に加える。このとき温度は27℃に
上昇する。得られる赤色着色懸濁液を1.5時間室
温で撹拌し、次いで（3R）−３−〔4R−（２−ジ
メチル）−１，３−ジオキソラニル〕−ブチルアル
デヒド6.92g（40.2mモル）のジメチルエーテル130
ml溶液を室温で加える。そうすると反応媒体の色
は赤色からオレンジ色に変化する。更に５時間室
温で撹拌後、反応混合物を水1000mlに注ぎ、塩化
メチレン750mlで２回抽出する。有機相を合し、
これを硫酸ナトリウムで乾燥し、ガラスフリツト
を通じて過し、低減圧下蒸発する。得られる沈
殿物を過除去し、濃縮溶液を溶離剤として１％
メタノール性塩化メチレンを使用してシリカゲル
60の250gでクロマトグラフイーに付して、標記
化合物を得る。これはシス二重結合の特徴である
970cm^-1で低IR吸収を示す。

5r：（4R，5S）−４−（ヘキサ−2Z−エン−5R
−イル）−１−メチル−２−オキソ−オキサゾリ
ン−５−カルボン酸： （4R，5S）−４−（ヘキサ−2Z−エン−5R−イ
ル）−１−メチル−２−オキソ−オキサゾリン−
５−カルボン酸エチルエステル185g（0.81mモル）
をジオキサン９ml中の0.1NのNaOH25mlに加え、
反応混合物を２時間室温で撹拌する。反応生成物
を水100mlに注ぎ、1NのHClの添加によつてPH２
に調整する。酸性水相を塩化メチレン150mlで２
回抽出し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、
過し、蒸発して、標記化合物を得る。

５：（2S，3R，4R，6Z）−３−ヒドロキシ−４−
メチル−２−メチルアミノ−オクト−６−エン
酸： （4R，5S）−４−（ヘキサ−2Z−エン−５−Ｒ
−イル）−１−メチル−２−オキソ−オキサゾリ
ン−５−カルボン酸67mg（0.3mモル）を70℃で
８時間2NのKOH2.0ml中で加熱する。得られる
反応混合物を冷却し、1NのHClの添加によつて
PH６に調整し、ジクロロメタン50mlで２回抽出し
て、非反応出発物質を回収する。水溶液をロータ
リーエバポレータで蒸発乾固し、結晶残渣をメタ
ノール50mlに取る。非溶解部分を過して除去
し、メタノール性溶液を10mlに濃縮し、溶離剤と
してメタノールを使用してSePhadexLH20の40g
でクロマトグラフイーに付す。溶離液を８mlフラ
クシヨンで収集し、1NのHCl3滴の添加によつて
フラクシヨン９から15を通じて結晶化して（PH
５）、標記化合物を回収する。m.p.228〜233℃、
〔α〕²² _D＝＋8゜（ｃ＝0.38、水中）。

実施例 ６： 実施例５と同様にし、実施例2aの対応する
（4S，5S）−異性体に代えて（4R，5R）−４，５
−ジヒドロキシメチル−２−フエニル−１，３−
ジオキソランから出発し、次のものを得る。

（a1） （4S，5R）−４−（ヘキサ−2Z−エン−
5S−イル）−１−メチル−２−オキソ−オキサ
ゾリン−５−カルボン酸エチルエステル。

（a2） （4S，5R）−４−（ヘキサ−2Z−エン−
5S−イル）−１−メチル−２−オキソ−オキサ
ゾリン−５−カルボン酸。

（a3） （2R，3S，4R，6Z）−３−ヒドロキシ
−４−メチル−２−メチルアミノ−オクト−６
−エン酸、〔α〕²² _D＝−8゜（ｃ＝0.42、水中）。

実施例 ７：（6R，5S）−４−（ヘキサ−2E−エ
ン−5R−イル）−１，２−トリメチル−オキサゾ
リン−５−カルボン酸の製造〔式、X₁＝OH、
（X₂＋X₃）＝＞Ｃ（CH₃）₂、R₁＝CH₃、−ｘ−ｙ−
＝トランス−CH＝CH−〕 無水アセトン80mlに懸濁した（2S，3R，4R，
6E）−３−ヒドロキシ−４−メチル−２−メチル
アミノ−オクト−６−エン酸201ml（1mモル）を
透明溶液が得られるまで48時間加熱還流する。ア
セトンを減圧下完全に蒸発し、残留オイルを塩化
メチレン100mlに取り、水30mlで洗い、硫酸ナト
リウムで乾燥し、室温で蒸発する。得られる標記
化合物は更に精製することなく合成目的、例えば
ペプチド合成に直接使用することができる。

実施例 ８：（2S，3R，4R，6E）−２−（Ｎ−ｔ
−ブチルオキシ−カルボニル）−メチルアミノ−
３−ヒドロキシ−４−メチル−オクト−６−エン
酸の製造〔式、X₁＝OH、X₂＝（H₃）₃C−CO
−、X₃＝Ｈ、R₁＝CH₃、−ｘ−ｙ−＝トランス−
CH＝CH−〕 （2S，3R，4R，6E）−３−ヒドロキシ−４−
メチル−２−メチルアミノ．オクト−６−エン酸
201mg（1mモル）を1NのNaOH2.2mlとビス−
（ｔ−ブチル）−ジカーボネート0.33g（1.5mモル）
を含むジオキサン５mlとから成る溶液に溶解し、
反応混合物を２日間室温で撹拌する。得られる溶
液を塩化メチレン200mlに取り、水相を2Nの
H₂SO₄添加によつてPH３に調整し、抽出する。
有機相を水30mlで２回洗い、硫酸ナトリウムで乾
燥し、過し、蒸発する。得られる無色オイルを
溶離剤として２％メタノール性塩化メチレンを使
用してシリカゲル60の15gでクロマトグラフイー
に付して、標記化合物を得る。

〔α〕²⁰ _D＝＋7.20（±2゜）（ｃ＝1.0、クロロホル
ム中）。この化合物は合成目的、例えばペプチド
合成に直接使用することができる。

実施例 ９： 実施例７および８と同様にし、出発物質として
対応する（2R、3S、4S）−オクテン酸異性体から
出発し、次のものを得る。

（a1） （4S，5R）−４−（ヘキサ−2E−エン−
5S−イル）−１，２−トリメチル−オキサゾリ
ン−５−カルボン酸。

（a2） （2R，3S，4S，6E）−２−（Ｎ−ｔ−ブ
チルオキシ−カルボニル）−メチルアミノ−３
−ヒドロキシ−４−メチル−オクト−６−エン
酸、回転〔α〕²² _D＝−7.2゜（±2゜）（ｃ＝1.0、クロ
ロホルム中）。

実施例 10： （2S，3R，4R，6E）−および（2R.3S，4S，
6E）−３−ヒドロキシ−４−メチル−２−アミノ
−オクト−６−エン酸から出発する以外は実施例
７および実施例８と同様にし、次のものを得る。

(a) （2S，3R，4R，6E）−２−（Ｎ−ｔ−ブチル
オキシ−カルボニル）−アミノ−３−ヒドロキ
シ−４−メチル−オクト−６−エン酸、回転
〔α〕²⁰ _D＝＋2.2゜（ｃ＝1.0、クロロホルム中）。

(b) （2R，3S，4S，6E）−２−（Ｎ−ｔ−ブチル
オキシ−カルボニル）−アミノ−３−ヒドロキ
シ−４−メチル−オクト−６−エン酸、回転
〔α〕²⁰ _D＝−2.2゜（ｃ＝1.0、クロロロホルム中）。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 式： 〔式中、Ａは式： （式中、R₁は水素またはメチルであり、−ｘ−
   ｙ−は−CH₂−CH₂−または−CH＝CH−であ
   り、２−，３−および４−位はそれぞれＳ，Ｒお
   よびＲまたはＲ，ＳおよびＳ配置をとる。） で表わされる基、Ｂはエチル、１−ヒドロキシエ
   チル、イソプロピルまたはｎ−プロピルである。〕 で表わされるサイクロスポリンを製造するにあた
   り、 (a) 対応する配列をもつたＯ−保護形または非保
   護形の直鎖ウンデカペプチドでＮ末端のＨ−
   （Ｄ）−Ala−で始まつてＣ末端の−Ala−OH
   で終るものを閉環し、 所望に応じて (b) こゝに得られた成績体であつて−ｘ−ｙ−が
   −CH＝CH−であるものを水素化して対応す
   る−ｘ−ｙ−がCH₂−CH₂−であるものに変換
   することを特徴とするサイクロスポリン類の製
   法。