JPH0323513A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、低温スパッタ法によって優れた磁気特性を得
ることができる磁気記録媒体及びその製造方法に関する
。

（従来の技術） 一般に、ハードディスクを製造する際に用いられるドラ
イプロセスによる製造方法としては、尺別すると蒸着法
とスパッタ法とが知られている。

上記蒸着法においては、一般に基盤の表面に１１４′；
ｉ子を斜め方向から蒸着させる斜め蒸着の技術を用いる
必要があるが、この方法では原料となる磁性金属の使用
効率が極めて悪く、また、ディスク状の基盤に成膜する
場合には、円周方向の膜厚分ｎｉの制御及び配向方法の
制御の点から大変難かしいものであった。

これに対して、上記スパッタ法を用いた場合には、クロ
ム（Ｃ『）下地の表面にコバルト（Ｃｏ）合金を成膜す
ることによって優れた磁気特性をｆｆする磁気記録媒体
が得られることが知られている。

ただし、このスパッタ法を用いる場合には、Ｃｒによる
下地膜の結品性を向上させるとともに、この下地膜の表
面に成模するＣｏ合金のエビタキシャル成長を促進して
保磁力（Ｉ｛ｃ）の高い記録媒体を得ようとすると、ス
パッタ時における基盤の加熱温度をある程度高くする必
要がある。

そこで、従来は例えばニッケル・リン（Ｎ　ｉ　Ｐ）基
盤上にＣ　ｏＡ金等を成膜する場合には、この基盤温度
を２００℃程度に加熱している。

また、基盤の材料としても、このように加熱する必要が
あることから、ＮｉＰのみならずガラス（Ｓｉ０２）、
アルミニウム（ｉ）、アルマイト等の耐熱性に優れたも
のが用いられている。

（発明が解決すべき課題） ところで、最近に至って、ハードディスクの基盤として
プラスチックを用いたフレキシブル基盤に金届薄膜を形
戊しようとする試みが行なわれている。

しかしながら、従来の技術においては、ブラスチソクや
フレキシブル基盤のような耐熱性の小さな基盤に加熱す
ることな（Ｃｏ合金等の磁性材料を成膜しても充分な磁
気特性を得ることができないという問題があった。

（課題を解決するための手段） 本発明は上述のような実状に鑑みてなされたものであり
、低温スパッタによって製造されたにもかかわらず、充
分な磁気特性を得ることができる磁気記録媒体及びその
製造方法を提供することを目的とする。

そして、本発明は、この目的を達或するために非磁性基
盤の表面にクロム、チタン、あるいはアルミニウムの下
地膜を介してコバルト・サマリウム合金による磁性膜を
設けて或る磁気記録媒体であって、上記下地膜を１　０
　０Å〜３０００人の厚さにするとともに、上記コバル
ト・サマリウム合金におけるサマリウムの量を１０ａｔ
％〜３０ａｔ％にしたことを特徴とする磁気記録媒体を
提供するものである。

（実施例） 以下、本発明に係る磁気記録媒体及びその製造方法につ
いての好適な実施例を第１図ないし第５図を用いて詳細
に説明する。

本実施例は６φのＣｏ夕一ゲット上にサマリウム（Ｓｍ
）チップを任意数置いてＳｍＪ１（ａｔ％）を調整した
状態でＤＣマグネトロンスパッタを用いて基盤上に磁性
膜を成膜した。

（丈施例】） Ａ＆　ｆｆｉとしてＮｉＰにテクスチュア処理を施した
ものを用い、この基盤にＣｒ下Ｈ！！膜をＩＯＯＯＡ成
膜するとともに、スベツタガス圧を７ｍＴｏｒｒ，．！
！Ｊｉ盤温度７０℃に設定し、ＣｏＳｍ合金を６５０人
或膜した際のＳｍの添加量と保磁力（ｌｉｅ）及び飽和
磁化ｆｆｉ（Ｘｓ）との各関係を調べた。

この結果、Ｓｍの添加量とＨｅとの関係は、第１図に示
すように約２５ａｔ％で最高（約１．３０００ｅ）とな
り、約１０〜３２ａｔ％の範囲内で極めて優れた磁気特
性（　６　０　０　［Ｏｅｌ以上）を得た。

また、Ｓｍの添加量とＭＳとの関係は、第２図に示すよ
うにＳｍの添加量に反比例して減少し、約：３０ａｔ％
以下の範囲内で極めて優れた磁気特性（約５　０　０　
［ｅｍｕ／ｃｃ］）を得た。

これらの結果から、Ｓｍの添加量は１０〜３０ａｔ％に
設定すれば良いことが判明した。

（実施例２） 実施例１におけるＳｍの添加量を１０ａｔ％、２５ａｔ
％、３０ａｔ％に設定して基盤温度を変化させたときの
Ｈｅを１凋べた。

この結果、Ｓｍの添加量を１０〜３０ａｔ％に段定した
場合においては、第３図に示すように、基盤温度を高く
すればするほどＨｃは低下し、基盤温度を約１７０℃以
下に設定した場合に極めて優れた磁気特性（　６　０　
０　［Ｏｅ］）以上を得た。

よって、同一条件の場合には、基盤温度が低くければ低
いほど優れた磁気特性が得られることが判明した。

なお、ＭＳについては、基盤温度と関係ないため同様な
実験を行なわなかった。

（実施例３） 実施例１において、基盤温度が７０℃と１７０℃の場合
におけるスパッタ時のガス圧を変化させて、このガス圧
とＩｌｃとの関係を調べた。

この結果、第４図に示すように、基盤温度の上限である
１７０℃の場合に、ガス圧を約３〜１５ｍＴｏｒｒの範
囲内に設定することによって極めて優れた磁気特性（　
６　０　０　［Ｏｅコ）を得、特に約７ａＴｏｒｒのと
きに最高であった。

よって、スパッタ時におけるガス圧を３−１　５ｍＴｏ
ｒｒ（特に、７　ｓＴｏｒｒ）に設定すれば良いことが
判明した。

（実施例４） 実施例１において、基盤としてＮｉＰの代わりにポリエ
チレンテレフタレート（ＰＥＴ）を用いた。

この結果、ｌｉｅが１　７　４　０　［Ｏｅｌ、Ｍｓが
５　０　０　［ｅｓｕ／ｃｃ］　，角型比（Ｒｓ）が０
．７８、保磁力角型比（Ｓ本）が０．８４となり、極め
て優れた磁気特性を有する磁気記録媒体を得ることがで
きた。

（実施例５） ・実施例１において、Ｃ『下地膜の代わりにチタン（Ｔ
ｉ）を用い、５００人の下地膜を成膜した。

この結果、Ｉｌｃが２　０　８　０　［Ｏｅ］、ＭＳが
５　０　０　［ｅｗｕ／ｅｃ］、角型比（Ｒｓ）が０．
７４、保磁力角型比（Ｓ本）が０．８７となり、極めて
優れた磁気特性を有する磁気記録媒体を得ることができ
た。

また、Ｔｉの代わりにＡＮを用いて５００人の下地膜を
成膜した場合にも同桟な優れた磁気記緑媒体を得ること
ができた。

よって、下地膜の材料としては、Ｃｒ，Ｔｉ、Ａｊ７の
いずれかを用いればよいことが判明した。

（実施例６） 実施例５において、Ｔｉ下地膜の厚さをスパッタガス圧
（３ｓＴｏｒｒ　，　　７ｍＴｏｒｒ　，　　１　５ｎ
Ｔｏｒｒ　）　ｆｉに変化させてｔｉｅとの関係を１苅
べた。

この結果、第５図に示すようにＴｉ下地膜が約１００〜
３０００人の範囲内のときに、極めて優れた磁気特性（
　６　０　０　［Ｏｅ］）を得ることができた。

特に、各ガス圧を通じて、下地膜を約１０００人程度と
したときに最高のｔｌｃ（ガス７　ｉＴｏｒｒで約２　
３　０　０　［Ｏｅｌ）を得ることができた。

以上の各実施例において、成膜したＣｏＳｍ合金はアモ
ルファスであることがＸ線Ａｑ折によって確認された。

また、下地膜を成膜した後に、一度大気中に取り出して
から再び真空槽に入れてＣｏＳｍ合金を成膜しても同一
条件で連続的に成膜したものに比して磁気特性の劣化は
なく、このことからＣｏＳｍ合金が下地膜にエビタキシ
ャル成長するしのではないことが確認された。

（比較例１） テクスチャ処理を施したＮｉＰ基盤にＣ「下地膜を１０
００人、ＣｏＣｒＴａを７５０人、スパッタガス圧を７
１ＩＩＴｏｒｒ，基盤温度を２５℃で製造した磁気記録
媒体におけるＨｃは３　０　０　［Ｏｅ］と低い値であ
った。

（比較例２） 比較例１において、ＣｒＴ地膜を成膜しなかった場合に
は、ｔｌｃが５　０　［Ｏｅ］と低い値であった。

（発明の効果） 上述の各実施例及び比較例から明らかなように、本発明
に係る磁気記録媒体によれば、その磁気特性を極めて優
れたものとすることができる。

また、本発明に係る磁気記Ｕ媒体の製造方法によれば、
低温スパッタ広により、優れた磁気特性を有する磁気記
な媒体を得ることができ、基盤として耐熱性が低いプラ
スチック等を用いることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る磁気記録媒体のサマリウムの量と
保磁力との関係を示すグラフ、第２図は同じくサマリウ
ム量と飽和磁化量との関係を示すグラフ、第３図は本発
明に係る磁気記録媒体の製造方法における基盤温度と保
磁力との関係を示すグラフ、第４図は同じくスパッタガ
ス圧と保磁力との関係を示すグラフ、第５図は本発明に
係る磁気記録媒体の下地膜の厚さと保磁力との関係を示
すグラフである。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基盤の表面にクロム、チタン、あるいはア
   ルミニウムの下地膜を介してコバルト・サマリウム合金
   による磁性膜を設けて成る磁気記録媒体であって、 上記下地膜を１００Å〜３０００Åの厚さにするととも
   に、 上記コバルト・サマリウム合金におけるサマリウムの量
   を１０ａｔ％〜３０ａｔ％にしたことを特徴とする磁気
   記録媒体。
2. （２）請求項（１）記載の磁気記録媒体のスパッタ法に
   る製造方法であって、 スパッタガス圧を３ｍＴｏｒｒ〜１５ｍＴｏｒｒにする
   とともに、 スパッタ時における基盤温度を１７０℃以下にしたこと
   を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。