JPH03232131A - 光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は光情報記録媒体にかかわるもので、とくに透光
性を有するとともにレーザー光入射側に設けた基板と、
この基板上に積層する保護層とを少なくとも有し、光学
的に書き込みおよび読み出し可能である光情報記録媒体
に関するものである。

［従来の技術］ この種の光情報記録媒体としては、記録データ、および
この記録データを再生するためのトラッキング用として
プレピットやプリグループを、あらかじめプレス等の手
段を用いて透光性のポリカーボネート製等の基板の上に
形成し、さらにこのビットを形成した面にＡｕ、　　Ａ
ｇ、　　Ｃｕ、　　Ａ１等の金属膜からなる反射膜を形
成し、さらにこの上に樹脂からなる保護層を形成した再
生専用の光情報記録媒体としてコンパクトディスク（以
下ｒＣＤＪという）が実用化されており、広く普及して
いる。

こうした再生専用のＣＤは、あらかじめデータが記録さ
れ、その後のデータの書き込みや消去を行うことができ
ない、いわゆるＲＯＭ型光情報記録媒体であり、最も代
表的には情報処理部門や音響部門においてすでに広く実
用化されている。

このＣＤの記録および再生信号に関する仕様はいわゆる
ＣＤ規格として規定されており、この規格に準拠する再
生装置は、コンパクトディスク（ＣＤプレーヤー）とし
て広く普及している。

一方、使用者側でレーザー光を照射することによりデー
タを記録することが可能な、いわゆる書き込み可能な光
情報記録媒体も知られている。

この光情報記録媒体は、透光性を有する基板上にＴｅ、
Ｂｉ、Ｍｎ等の金属層や、シアニン、メロシアニン、フ
タロシアニン等の色素層等からなる記録層を有し、さら
にはその層の背面に光反射層を有している場合もある。

そしてレーザー光の照射により、上記記録層を変形、昇
華、蒸発あるいは変性させる等の手段によってビットを
形成しデータを記録するものである。

記録したデータを再生するときには、上記基板側から記
録時よりパワーの弱いレーザー光を照射し、上記ビット
とそれ以外の部分との反射光の違いにより信号を読み取
っている。

近年においては、こうした光情報記録媒体についてもＣ
Ｄ規格を満足するものが提案されてきている。たとえば
特開昭６１−２３７２３９号、特開昭６１−２３９４４
３号、特開昭６２−１１９７５５号、特開平１−１７２
３４号、特開平１−１００７５１号、特開平１−１５０
２４８号、特開平１−１５９４８４０〜１５９８４３号
などがある。

これらの８願においては、ポリカーボネート等の樹脂ま
たはガラス上に、シアニン色素、テルル等の記録層を有
し、さらにアルミニウム、チタン等の金属３膜を形成し
、紫外線硬化樹脂、酸化ケイ素（Ｓｉ０２）、酸化チタ
ン（ＴｉＯ２）等により覆われた保護層を有している。

しかしながら、光吸収層として色素を用いた書き込み可
能ないわゆる追記形の従来の光情報記録媒体を使用する
場合には、この光情報記録媒体に記録された信号を再生
するための専用のＣＤプレーヤーを新しく別途必要とし
、再生専用のＣＤ用として一般に広く普及している市販
のＣＤプレーヤーでは再生することができないという問
題がある。

そこで、ＣＤとして市販のＣＤプレーヤーで再生を行う
ためには、世界統一規格であるＣＤ規格に準拠する再生
信号が得られなければならない。

しかしながら、従来開示されている技術においては、Ｃ
Ｄ規格を満足する再生信号を得ることができる光情報記
録媒体に関し、その保護層の条件を満足可能な構成につ
いては何等具体的な開示がなされていなかった。

このＣＤ規格を満足する光情報記録媒体の保護層に要求
される条件としては従来のＲＯＭ型のＣＤと同じ条件と
して、基板の厚さが１．　２ｍｍ±０．１ｍｍであると
きにディスクの厚さを全体で１．２ｍｍ＋０．３〜−０
．１ｎｍにすることができることである。

またＣＤ規格を満足するための光情報記録媒体特有の記
録後の条件としては、ブランクディスクの状態でＣＤ規
格が推奨するＺＡＤテスト（耐候試験、ＪＩＳ　　Ｃ５
０２４）等ヒートサイクルテストを行っても、そりが平
面反射で±０．　６度以内であること、ブランクディス
クの状態で上記ＺＡＤテスト等を行っても、基板と光吸
収層との間、および光吸収層と光反射層との間に剥離を
生じないこと、記録時の波形歪みを生じさせないような
ビットを形成することができること、およびＣＤ規格に
規定するブロックエラーレート（ＢＬＥＲ）を小さく（
具体的には０．０３以下）押さえることができること等
が挙げられる。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明は以上のようなｗｌ！ｌｐにかんがみてなされた
もので、基板上に光吸収層、光反射層、および保護層を
順次積層した構成を有し、ＣＤ規格を満足する再生信号
を得ることができる光情報記録媒体において、実用上、
適正な条件の保護層を有する光情報記録媒体を提供する
ことを課題とする。

［課題を解決するための手段］ すなわち第一の発明は、透光性を有するとともにレーザ
ー光入射側に設けた基板と、この基板上に積層する保護
層とを有する光情報記録媒体であって、上記保護層は、
そのえんぴつ硬度が２Ｈ以上であるとともに、環境温度
が一１５℃〜７０℃の範囲において熱膨張係数αが１．
５Ｘ１０−’≦α≦９，０×１０−’　（１／’Ｃ）　
であルコとを特徴とする光情報記録媒体である。

また第二の発明は、透光性を有するとともにレーザー光
入射側に設けた基板と、この基板上に設けるとともに前
記レーザー光を吸収する有機色素から構成した光吸収層
と、この光吸収層上に設けるとともに上記レーザー光を
反射する光反射層と、この光反射層の上に設けた保護層
とを有する光情報記録媒体であって、上記保護層は、そ
のえんぴつ硬度が２Ｈ以上であるとともに、環境温度が
一１５℃〜７０℃の範囲において熱膨張係数αが１．５
Ｘ１０−’≦α≦９．０Ｘ１０づ（１／’Ｃ）であるこ
とを特徴とする光情報記録媒体である。

つぎに、第１図ないし第６図にもとづき本発明をより具
体的に説明する。

１８１図は、本発明による光情報記録媒体１の一部切り
欠き斜視図、第２図は同光情報記録媒体１の記録前の要
部縦断面図、第３図は同光情報記録媒体１の記録後の要
部縦断面図である。

この光情報記録媒体１は透光性の基板２と、この基板２
上に形成した光吸収層３と、この光吸収層３の上に形成
した光反射層４と、この光反射層４の上に形成した保護
層５とを有する。なお、必要に応じて基板２と光吸収層
３との間、および光吸収層３と光反射層４との間には中
間層（図示せず）を設けることもある。

上記基板２にはスパイラル状にプリグループ６を形成し
である。このプリグループ６の左右には、このプリグル
ープ６以外の部分すなわちランド７が位置している。

なお、基板２と光吸収層３とは第一の層外８により互い
に接している。光吸収層３と光反射層４とは第二の層外
９により接している。光反射層４と保護層５とは第三の
層外１０により接している。

なお、保護層５と基板２とはその円周部においてこれら
を一体化させることにより、光情報記録媒体１全体の強
度を向上させるとともに、内部の光吸収層３および光３
反射層４をより確実に保護することができる。

第３図に示すように、光情報記録媒体１に記録光（記録
用レーザー光）ＬＬを照射したときに、光吸収層３がそ
のレーザー光Ｌ１のエネルギーを吸取することにより発
熱し基板２側に熱変形が生じてビット１１を形成してい
る。あるときには、光吸収層３に光学的変化が生じる場
合もある。

とくに第２図に示すように、光吸収層３の複素屈折率の
実数部をｎａｂｓとする。

光吸収層３の平均膜厚をｄａｖとする。なお、ここでい
う平均膜厚ｄａｖとは（光吸収層３の体積）／（光吸収
層３が形成された領域の面積）で表される。

光吸収層３の複素屈折率の虚部をｋａｂｓとする。

また、再生光（再生用レーザー光）Ｌ２の波長をλとす
る。

つぎに、ρ＝　ｎａｂｓ−ｄａｖ／λにより定義される
光学的パラメーターについて説明する。

本発明者らによる実験およびシュミレーションの結果か
ら、ρ＝ｎａｂｓ−ｄａｖ／λが非常に重要なパラメー
ターであることに着目した。すなわち、基板２上に光吸
収層３および光反射層４を設けた構成を有する光情報記
録媒体１において、ＣＤ規格に規定している反射率が７
０％以上、かつ変調度として示されるＩ　１１／　Ｉ　
ｔ、ｏｐが６０％以上、および変調度Ｉ３／Ｉ七ｏｐが
０．３〜０．　７という出力信号を得るためには、光吸
収層３の複素屈折率の実数部ｎ　ａｂｓと、その平均膜
厚ｄａｖと、再生光の波長λとで与えられるρ＝ｎａｂ
ｓ−ｄａｖ／λを０．０５≦ρ≦１．６の範囲内に設定
することにより、容易に反射率をＣＤ規格に適合する反
射率７０％以上とすることができることがわかっている
。

上記ρが０．０５よりも小さい場合には、光吸収層３の
膜厚ｄａｖを０．０５μｍ以下と、相当薄くしなければ
ならないため、製造上実用的ではない。

したがって、０．０５≦ρ≦０．６の範囲においては、
０．３０≦ρ≦０．　６の範囲が実用的であり、十分な
変調度を取るためには、０．１以上の範囲が望ましく、
変調度の大きい安定した記録特性を得るためには０．４
５±０．１の範囲が最も望ましい範囲であるということ
ができる。

さらに、第４図に示すようにρが０．　６以上の範囲で
あっても、グラフ上でのピーク点であれば、反射率が７
０％を越えることが可能である。

０．６〈ρ〈１．６の範囲においては、ピーク点は２点
あり、常に０．６〈ρ＜１．１０の範囲と、１．１０＜
ρ〈１．６の範囲とにあり、そ九らのピーク点において
高い反射率を得ることができることがわかっている。

ρ〉１．６の時には膜厚が厚くなるため、膜厚の制御が
困難になり、製造上実用的ではない。

このρと反射率との関係を示すグラフは、指数関数と、
周期関数との組み合わされた関数として表され、ρが大
きくなるにしたがって、周期関数の振幅が大きくなる。

こうした周期関数の振幅は、光情報記録媒体１を構成す
る層の複素屈折率、膜厚、それらの均質性等をパラメー
ターとして変化する。たとえば、光吸収層３から光が入
射する側にある層の屈折率が小さいと、反射率はグラフ
全体として反射率が高くなる方向にシフトする等である
。

また、このグラフは光吸収層３の複素屈折率の虚部ｋ　
ａｂｓ、およびｄａｖをパラメーターとする指数関数で
表され、第５図に示すようにｋ　ａｂｓが大きくなるほ
どグラフ全体の反射率の減衰が大きくなるということも
わかっている。

高い反射率を得るためにはこのｋ　ａｂｓが０．３以下
であることが必要である。

同図から判明するように、このｋ　ａｂｓは０．　３以
下であれば、０に近くなるほど反射率は向上する。した
がって、この範囲が最も望ましい。しかしＯに近づくほ
ど記録感度が悪くなるため、Ｏより大きいことが必要で
ある。具体的には０．０１以上の範囲が望ましく、実際
には０．０５前後が望ましい。

光吸収層３が均質であり、その複素屈折率の実部ｎ　ａ
ｂｓ、膜厚ｄａｖに不均一な分布がない限り、第４図の
上記グラフのピークを示す点の周期には変化がないこと
が本発明者らのシミュレーションによりわかっている。

なお、条件により、第４図におけるグラフのボトム点の
反射率についても、上記パラメーター条件をｉｇ御する
ことによりこれを高くすることが可能であるが、ρをボ
トム点付近に設定した場合には、変調度を大きく取るこ
とが困難であり、ある場合には、記録前よりも反射率が
上昇してしまう場合も生じる。したがって、ρはピーク
点付近に設定することが望ましい。

つぎに、各層の材質ないし物性等について説明する。

まず、透光性の基板２は、レーザー光に対する屈折率が
１．４〜１，６の範囲内の透明度の高い材料で、耐衝撃
性に優れた主として樹脂により形成したもの、たとえば
ガラス板、アクリル板、エポキシ板等を用いる。また、
基板２上に他の層、たとえばＳｉ２等の耐溶剤層やエン
ハンス層をコーティングしておいてもよい。

これらの材料を射出成型法等の手段により成型する。基
板２の厚さは、ＣＤ規格に準拠するように、１．１ｍｍ
〜ｌ、５ｍｍが望ましい。

なお、本発明の効果を十分に得るためには、基板２の材
料はポリカーボネートが望ましい。また基板２の熱膨張
係数αの値が、５．０×１０づ〜７．０Ｘ１０づ（１／
’Ｃ）程度のものが望ましい。

こうした基板２の光吸＊Ａ１３側の表面には、トラッキ
ングガイド手段を設けである。このトラッキングガイド
手段としては、所定間隔に一形成されたビットからなる
アドレスビット、いわゆるサンプルサーボでもよいが、
スパイラル状に形成したプリグループ６（第２図、第３
図）が望ましい。

スパイラル状のプリグループ６は、データ信号を記録す
るときのトラッキングをガイドするために用いられる。

上記プリグループ６の深さは通常考えられる条件のもの
であればどのようなものでもよいが、３０〜２５０ｎｍ
の深さが好適であり、さらに望ましくは、６０〜１８０
ｎｍの深さであることが望ましい。また、プリグループ
６の櫂は、０．　３〜１．３μｍが望ましい。

プリグループ６とプリグループ６との間の間隔、いわゆ
るトラッキングピッチは、１．６μｍが望ましい。

また、プリグループ６等のトラッキング手段には、時間
コード情報（ＡＴ　Ｉ　Ｐ：　Ａｂ　ｓ　ｏ　ｌ　ｕｔ
ｅ　　Ｔｉｍｅ　　Ｉｎ　　Ｐｒｅｇｒｏｏｖｅ）をプ
リグループ６のエツジに入れておいてもよい。

こうしたプリグループ６は基板２の射出成型時にスタン
パを押し当てることによりこれを形成するのが通常であ
るが、レーザーによりカッティングすることや、２Ｐ法
（Ｐｈ　ｏ　ｔ　ｏ−Ｐｏ　ｌ　ｙｍｅｒ法）によりこ
れを製作してもよい。

つぎに、前記光吸収層３はこうした基板２のトラッキン
グガイド手段の上に形成した光吸収性の物質からなる層
で、レーザーを照射することにより、発熱、溶融、昇華
、変形または変性をともなう層である。この光吸収層３
はたとえば溶剤により溶解したシアニン系色素等を、ス
ピンコード法等の手段により、基板２の表面に一様にコ
ーティングすることによってこれを形成する。

光吸収層３に用いる材料は、公知の光記録材料である限
り、本発明の効果を得ることは可能であるが、光吸収性
の有機色素が望ましい。具体的には、ポリメチン系色素
、トリアリールメタン系色素、ビリリウム系色素、フェ
ナンスレン系色素、テトラデヒドロコリン系色素、　ト
リアリールアミン系色素、スクアリリウム系色素、クロ
コニックメチン系色素、メロシアニン系色素等の光吸収
性の有機色素を例示することができるが、これらに限定
されるものではなく、公知の光記録材料である限り本発
明の効果を得ることができる。

上記シアニン系色素からなる光吸収層３は、ｎ　ａｂｓ
、　　ｋ　ａｂｓの数値設定が容易であるため、反射率
が高くかつ変調度が高い再生信号を得ることができ、、
ＣＤ規格に準拠した光情報記録媒体１を容易に得ること
ができる。

なお、光吸収層３には他の色素、樹脂（たとえばニトロ
セルロース等の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー）
、液ゴム等を含んでもよい。

具体的には、イソブチレン、無水マレイン酸共重合体、
エチレン酩ピコポリマー　塩素化ポリプロピレン、ポリ
エチレンオキシド、ポリアミド、ナイロン、クマロン樹
脂、ケトン樹脂、酢酸ビニル、ポリスチレン、ＰＶＡ　
（ポリビニルアルコール）、ＰＶＥ　（ポリビニルエス
テル）等が挙げられる。

セルロース誘導体としては、カルボキシメチルセルロー
ス、ニトロセルロース、ＲＰＣ（ヒドロキシプロピルセ
ルロース）、ＨＥＣ（ヒドロキシエチルセルロース）、
ＭＣ（メチルセルロース）、ＥＣ（エチルセルロース）
、ＥＨＥＣ（エチルヒドロキシエチルセルロース）、Ｃ
ＭＥＣ（カルボキシメチルエチルセルロース）等が挙げ
られる。

オリゴマーとしては、オリゴスチレン、メチルスチレン
オリゴマー等が挙げられる。

エラストマーゴムとしては、スチレンブロックコポリマ
ー　ウレタン系熱可塑性エラストマー等が挙げられる。

光吸収層３は、上記の色素および任意の添加物を公知の
有機溶媒（たとえば、ケトンアルコール、アセチルアセ
トン、メチルセロソルブ、トルエン等）を用いて溶解し
たものを、プリグループ６を形成した基板２上の表面、
または基板２上のさらに他の贋をコーティングした表面
上に形成する。

この場合の形成手段としては、蒸着法、ＬＢ法、あるい
はスピンコード法等が挙げられるが、光吸収層３の濃度
、粘度、溶剤の乾燥速度等を調節することにより、層厚
を制御することができるスピンコード法が望ましい。

この光吸収層３の層厚を調節する方法として具体的には
、スピンコードの回転数を変化させる方法、粘性の異な
る物質を混在させてスピンコードを行う方法、溶剤を複
数種類用いて溶解させた光吸収物質を用いてスピンコー
ドを行う、あるいは高沸点物質を混在させてスピンコー
ドを行う方法等が挙げられる。

つぎに、前記光反射Ｎ４は金属膜であり、たとえば、金
、銀、銅、アルミニウム、あるいはこれらを含む合金を
、蒸着法、スパッタ法等の手段によりこれを形成する。

反射率７０％以上を有することが必要なため、これらの
中でも、金または金を含む合金を主体とする金属膜が望
ましい。

また、光反射層４の酸化を防止するため、光反射層４の
上に耐酸化層等の他の贋を設けてもよい。

つぎに、前記保ｎＮ５は、基板２と同様の耐衝撃性に優
れた樹脂によりこれを形成する。たとえば、紫外線硬化
樹脂をスピンコード法により塗布し、これに紫外線を照
射して硬化させることによりこれを形成する。このほか
、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン系ハードコ
ート樹脂等を使用することもある。

保護層５は、一般には重合してポリマーとなり得る有機
化合物のモノマーおよびオリゴマーを塗布後、架橋反応
させることによりこれを得ることができる。しかしなが
ら、材質は有機化合物に限らず、無機物をスパッタ法あ
るいは蒸着法等公知の手段により形成してもよい。

なお、架橋反応により有機ポリマーとしてこれを得る場
合には、作業性の面から分子中にひとつ以上の反応性ア
クリロイル基（−ＣＨ＝ＣＨ２）を持つ有機重化合物の
モノマーおよびオリゴマーの混合物に反応開始剤、反応
触媒を少量加え、液状のこれらの混合物を塗布し、紫外
線もしくは電子線を照射することにより架橋させる方法
が有利である。

しかしながら、架橋の方法はこれに限られるわけではな
く、エポキシ樹脂やウレタン樹脂のように、熱によって
架橋が進むものであってもよいし、ジアルコキシシラン
カップリング剤のように空気中の水分で重合反応が進む
ものであってもよい。

こうして得ら抗た架橋物の主鎖および側鎖は、飽和もし
くは不飽和系の直鎖状炭化水素であってもよいし、メラ
ミン、ビスフェノール系等の環状化合物を含んでいても
よい。また、この架橋物の主鎖または側鎖の途中に一個
以上のエーテル結合を含むポリエーテル、エステル結合
を含むポリエステル、ウレタン結合を含むポリウレタン
、イオン結合を含むアイオマー、アミド結合を含むポリ
アミド、イミド結合を含むポリイミド、スルホン結合を
含むポリスルホン、スルフィド結合を含むポリスルフィ
ド等に例示されるその他の結合を含んでいてもかまわな
い。これらの結合をふたつ以上含む共重合化合物であっ
てもよいし、ブロックポリマーであってもかまわない。

また、これらの架橋物の防湿性を向上させるために、側
鎖にフルオロカーボン等を含んでいてもよいし、ハロゲ
ン化水素による劣化を防止するためにエポキシ樹脂を含
んでいてもよい。

また、光反射層４との密着性を向上させるために、側鎖
にヒドロキシル基、カルボキシル基、アクリル基、アミ
ノ基、酢酸ビニル基等を含んでいてもよいし、主鎖また
は側鎖に塩基酸が含まれていてもよい。

保護層５の形成の際には、塗布中に樹脂とその反応剤、
反応開始剤等のほかに、塗布性を向上させるために、溶
剤、希釈剤が含まれていてもよい。また、塗膜の安定化
を図るために、レベリング剤や、可塑剤、酸化防止剤、
帯電防止剤、等が含まれていてもよい。また、必要に応
じて、顔料や染料により着色してあってもかまわない。

なお、樹脂の硬度は、架橋構造の架橋密度ないしは反応
性アクロイル濃度によってこれを変えることができ、主
鎖となり得るオリゴマー自体の分子回転の自由度によっ
ても変わってくる。

また本発明による光情報記録媒体１では、基板２に対し
て、光吸収層３の背後側の層、たとえば光反射層４や保
護層５等を、ビット１１を形成した層に比較して熱変形
温度が高く、かつ硬度が高いものにより形成することが
望ましい。背後側の層を硬度の高い層により形成するこ
とは、ＣＤ規格に規定する記録信号のブロックエラーレ
ートの低減に効果が認められる。

ＣＤ規格に明記されている使用環境温度内つまり一１５
℃〜７０℃の範囲内においては、保護層５の硬度をえん
ぴつ硬度で２Ｈ以上とすることにより、光吸収層３の光
反射層４側の第二の層外９の変形を小さく抑えることが
できる。その結果、波形歪みを抑えることができ、ブロ
ックエラーレート（ＢＬＥＲ）の小さな良好な記録を行
うことができる。

第６図に示すように、保護層５の硬度を小さくするにし
たがって、ＢＬＥＲは増加する傾向がある。本発明者ら
の検討によれば、えんぴつ硬度Ｈ以下では、耐候試験後
にはＣＤ規格上限をこえるＢＬＥＲの大きな光情報記録
媒体しか得ることができない。

つぎに、当該保護層５の熱膨張係数αを、使用環境温度
−１５℃〜７０℃の範囲内において、１．５Ｘ１０−Ｉ
Ｓ〜９．０×１０づ（１／’Ｃ）（７）範囲内にするこ
とにより、この保護層５が基板２と同様の熱体積変化を
示すため、熱を加えた場合にも光情報記録媒体１全体と
してそりを生じさせ難くなる。

αが１．５Ｘ１０−’未満の場合には、加熱時の膨張に
より基板２の方が大きく膨張するため、光情報記録媒体
１が保護層５側にそり、基板２の各層に引張り張力が生
じ、記録ビット１１のジッターが増加する原因となる。

αが９．０×１０−’よりも大きい場合には、加熱時の
膨張により保護層５の方が大きく膨張するため、保護層
５がたるみ、光吸収Ｎ３と光反射層４との間、および光
反射層４と保護層５との間に眉間剥離を生ずる。

なお、当該保護層５の硬化時における収縮率を１２％以
下とすることにより、これを硬化させた後に、樹脂の歪
みが残らないようにヒートサイクル試験を行ったときで
も、保護層５には割れが生じないことがわかった。。

機械的強度を考慮すると、保護層５の収縮率は１０％以
下であることが望ましい。

なおまた、光反射層４と保護層５との間に。

光反射層４の酸化を防止する耐酸化層を介在させること
もできる。

［作用］ 本発明による光情報記録媒体は公知の光情報記録装置に
よって記録を行うことができる。以下Ｉｉｆ説する。す
なわち、光情報記録装置のレーザー照射手段すなわちピ
ックアップを設けた側に透光性の基板２の表面が面する
ように光情報記録媒体１を配置する。この光情報記録媒
体１をスピンドルモータにより回転させながら、ＣＤ規
格に準拠した信号に変調されたレーザースポットを、前
記トラッキングガイド手段にしたがってトラッキングし
ながら、ピックアップにより光情報記録媒体１の光吸収
層３に照射することによって、ピット１１を形成する。

当該光情報記録媒体には波長λが７８０ｎｍ付近のレー
ザースポットを照射することが望ましい。またＣＤ規格
との関連から、線速度は１．２〜１．４ｍ／ｓｅｃであ
る必要があり、記録パワーは６〜９ｍＷ程度でよい。す
なわち市販のＣＤプレーヤーにおいてその記録パワーを
再生時よりも大きくすることによって記録を行うことが
できる。

かくして、ＣＤ規格を満足する再生信号を得ることがで
きる光情報記録媒体１を容易に作成可能となる。

なお本発明による光情報記録媒体１は、第３図に示すよ
うに、光吸収層３に基板２側から記録用レーザー光Ｌ１
を照射したとき、この光吸収層３がレーザー光Ｌ１を吸
収して熱を発生し、基板２の表面が局部的に変形し、基
板２表面にピット１１が形成されるものが望ましい。

あるいは、光吸収層３が光学的変化を起こし、これによ
ってピット１１が形成されるものでもよい。

さらに、上記レーザー光Ｌ１の照射により融解、分解し
た成分が軟化した基板２の中に拡散し、基板２を形成す
る成分と部分的に混合して、化合し、そこに光吸収＃３
や基板２の他の部分とは光学的に異なった部分が生成し
て、ピット１１が形成される場合もある。

記録信号の再生は、基板２側から再生用レーザー光Ｌ２
を照射することにより、ピット１１部分の反射光とピッ
ト１１以外の部分の反射光との光学的位相差の明暗の差
を読み取ることによって行われる。

また本発明では、光吸収層３が基板２のほぼ全面に形成
された光情報記録媒体１のほか、基板２の一部が光吸収
層３を有する記録可能領域であり、その他の部分がＣＤ
フォーマット信号が再生可能なピット１１を有するＲＯ
Ｍ領域である光情報記録媒体にも適用が可能である。こ
のような光情報記録媒体はたとえば基板２の表面のＲＯ
Ｍ領域となる部分に信号再生用のピットをスタンパ等に
より、あらかじめ形成しておき、その外側の記憶可能領
域にのみ光吸収層３を形成したものである。

こうした光情報記録媒体では、ＲＯＭ領域にあらかじめ
プレス等により大量に画一的なデータを記録しておくこ
とができ、しかもここには光吸収層３がないため、誤消
去や、別のデータの誤記録のおそれがない。また、光吸
収層３を有する領域では使用者独自のデータを任意に記
録することができる。そして、この記録されたデータが
ＣＤ規格に準じた信号をもって再生することができるた
め、上記ＲＯＭ領域の情報と同様に市販のＣＤプレーヤ
ーにより再生することができる。

［実施例コ つぎに本発明による光情報記録媒体についてその実施例
を以下に説明する。

（実施例１） 幅０．５μｍ、深さ０．０８ｕｍ、およびピッチ１．６
μｍのスパイラル状のプリグループ６を形成した厚さ１
．　２ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍのポリカー
ボネート基板を射出成形法により成形した。

つぎに光吸収層を形成するための有機色素として、０．
６５ｇの１，１′−ジブチル３，３゜３′　　３′テト
ラメチル４．　５．　４’、　　５’　−ジベンゾイン
ドジカーボシアニンパークロレート（日本感光色素株式
会社製、ＮＫ−３２１９）をジアセトンアルコール溶剤
１０ｍ１に溶解し、これを上記基板上に回転数を適当に
変化させながらスピンコードすることによって平均膜厚
ｄａｖが０゜１３μｍの色素膜からなる光吸収層を形成
した。

このディスクの全面に真空蒸着法により膜厚５０ｎｍの
Ａｕ膜を成膜し光反射層を得た。さらに、この光反射層
の上に紫外線硬化樹脂（サンノプコ社製ＳＳＮ３Ｘ−９
６８５）３をスピンコード法により塗布し、これに１２
０Ｗ／ｃｍの低圧水銀灯からの紫外線を６ｍ／ｍｉｎで
照射して硬化させ、厚さ８μｍの保護層を形成した。

この条件におけるこの保護層のガラス面上表面硬度はえ
んぴつ硬度４Ｈである。

また温度範囲一１５〜７０℃における熱膨張係数αは、
１．５Ｘ１０−５≦α≦６．５Ｘ１０（１／’Ｃ）であ
る。

さらに、硬化時の収縮率は１０．８％であつた。

こうして得た光情報記録媒体に、波長７８０ｎｍの半導
体レーザーを線速１．２ｍ／ｓｅｃ、記録パワー６．０
ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記録した。

この光情報記録媒体を市販のＣＤプレーヤー（Ａｕｒｅ
ｘ　　ＸＲ−Ｖ７３、再生光の波長７８０ｎｍ、再生パ
ワー０．５ｍＷのレーザー）で再生したところ、ブロッ
クエラーレートが１．８×１０″３であった。

この後、この光情報記録媒体を温度７０℃、湿度５５％
ＲＨで２５０時間の耐候試験を行った。

常温に戻した上で、ＢＬＥＲを再度測定すると、５．２
Ｘ１０−４であった。この値はＣＤ規格のひとつである
レッドブックの規格値を十分に満足している。

またこのときの光情報記録媒体のそり角度は０、　４度
であった。この角度も上記レッドブックの規格値を満足
している。

上述の試験の後、合計１０００時間まで同条件の耐候試
験を行ったが、その後のＢＬＥＲおよびそりにはほとん
ど変化がなかった。

（比較例１） 実施例１と同様に成形したポリカーボネート製基板に、
光吸収層を形成するための有機色素として、実施例１と
同様の色素を同様の濃度でスピンコードし、平均膜厚ｄ
ａｖが０．１３μｍの色素膜からなる光吸収層を形成し
た。

このディスクの全面に真空蒸着法により膜厚５０ｎｍの
Ａｕ膜を成膜し光反射層を得た。

さらに、この光反射層の上に単官能アクリレートモノマ
ーおよび多官能アクリレートオリゴマー（東亜合成化学
工業社製、アロニックス）数種類を配合し、このアクリ
レート混合物の２ｗｔ％の１−ヒドロキシシクロへキシ
ルフェニルケトン（チバガイギー社製、イルガキュアー
−１８４）を光反応開始剤として加えた。この塗料３ｇ
を実施例と同様にスピンコード法により上記光反射層状
に塗布し、これに１２０Ｗ／ｃｍの低圧水銀灯からの紫
外線を４ｍ／ｍｉｎで照射して硬化させ、厚さ６μｍの
保護層を形成した。

この条件におけるこの保護層のガラス面上表面硬度はえ
んぴつ硬度６Ｈである。

また温度範囲一１５〜７０℃における熱膨張係数αは、
０．８Ｘ１０−’≦α≦３．０×１０−５（１／℃）で
あった。

さらに、硬化時の収縮率は１３．８％であった。

こうして得た光情報記録媒体を実施例１と同様にして記
録、再生を行ったところ、ブロックエラーレートが３．
　　ｌＸｌ０−３であった。

この後、この光情報記録媒体を温度７０℃、湿度５５％
ＲＨで２５０時間の耐候試験を行った。

常温に戻した上で、ＢＬＥＲを再度測定すると、４．８
Ｘ１０−２であった。この値はＣＤ規格を満足していな
い。

またこのときの光情報記録媒体のそり角度は１．２度で
あった。この角度も上記ＣＤの規格値を満足していない
。

（実施例２） 上記実施例１と同様に成形したポリカーボネート基板に
、実施例１と同様にして光吸収層を形成し、さらに同様
にして光反射層を形成した。

この光反射層の上に紫外線硬化樹ｎ（大日本インキ工業
社製ＥＸ−７０８）３ｇをスピンコード法により塗布し
、これに１２０Ｗ／ｃｍの低圧水銀灯からの紫外線を６
ｍ／ｍｉｎで照射して硬化させ、厚さ１０μｍの保護層
を形成した。

この条件におけるこの保護層のガラス面上表面硬度はえ
んぴつ硬度２Ｈである。

また温度範囲一１５〜７０℃における熱膨張係数αは、
１．５Ｘ１０−’≦α≦６．５Ｘ１０（１／℃）である
。

さらに、硬化時の収縮率は９．２％であった。

こうして得た光情報記録媒体に、実施例１と同様にして
記録、再生を行ったところ、ブロックエラーレートが２
．０×１０−３であった。

この後、この光情報記録媒体を温度２５℃、湿度５５％
ＲＨから、２時間で温度７０℃、湿度６５％ＲＨへと変
化させた。この状態を４時間保持した後、２時間で温度
２５℃、湿度５５％ＲＨへと戻し１時間後に再び昇温す
る耐候試験を１０回繰り返し行った。この後、ＢＬＥＲ
を再度測定すると、１．ｌＸｌ０−２であった。この値
はＣＤ規格のひとつであるレッドブックの規格値を十分
に満足している。

またこのときの光情報記録媒体における保護層上でのク
ラックやふくらみ、その他の贋における変化は見られな
かった。

（比較例２） 実施例１と同様に成形したポリカーボネート製基板に、
同様に光吸収層を形成し、さらに光反射層を形成し、さ
らに、この光反射層の上に紫外線硬化樹脂（サンノプコ
社製ＳＳＮ−８３９５）３をスピンコード法により上記
光反射層状に塗布し、これに１２０Ｗ／ｃｍの低圧水銀
灯からの紫外線を６ｍ／ｍｉｎで照射して硬化させ、厚
さ８μｍの保護層を形成した。

この条件におけるこの保護層のガラス面上表面硬度はえ
んぴつ硬度５Ｈである。

また温度範囲一１５〜７０℃における熱膨張係数αは、
０．８Ｘ１０−５≦α≦３．０Ｘ１０（１／℃）であっ
た。

さらに、硬化時の収縮率は１５％であった。

こうして得た光情報記録媒体を実施例１と同様にして記
録、再生を行ったところ、ブロックエラーレートが１．
７Ｘ１０−３であった。

この後、この光情報記録媒体を温度２５℃、湿度５５％
ＲＨから、２時間で温度７０℃、湿度６５％ＲＨへと変
化させ、この状態を４時間保持した後、２時間で温度２
５℃、湿度５５％ＲＨへと戻し１時間後に再び昇温する
の耐候試験を１０回繰り返した。

この後、この光情報記録媒体を観察すると、保＃１７Ｗ
には剥がれをともなうクラックが生じ、その割れは光吸
収層まで達していた。

またこのときの割れのためＢＬＥＲ値を測定することは
不可能となっていた。

［発明の効果コ 以上のように本発明によれば、保護層のえんぴつ硬度、
および熱膨張係数を所定の値に設定することにより、と
くにＣＤ規格に定められたブロックエラーレート値の規
格値を満足することが可能であるとともに耐候性にすぐ
れた光情報記録媒体を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による光情報記録媒体１の一部切り欠き
斜視図。 第２図は同、光情報記録媒体１の要部縦断面図、 第３図は同、プリグループ６にピット１１を形成した状
態の要部縦断面図、 第４図はｐ　（＝ｎａｂｓ−ｄａｖ／λ）と１反射率と
の関係のグラフ、 第５図は光吸収層３の複素屈折率ｋａｂｓと、反射率と
の関係のグラフ、 第６図は保護層のえんぴつ硬度と、ブロックエラーレー
ト（ＢＬＥＲ）との関係のグラフである。 １　、、、、、、光情報記録媒体 ２　、、、、、、透光性の基板 ３　、、、、、、光吸収層 ４・・・・・・光反射層 ５　、、、、、、保護層 ６、、、、、、プリグループ ７　、、、、、、ランド ８　、、、、、、第一の層外 ９　、、、、、、第二の層外 １０　、、、、、、第三の層外 １１　、、、、、、ピット ｎａｂｓ、、、、、光吸収層３の複素屈折率の実数部ｋ
ａｂｓ、、、、、光吸収層３の複素屈折率の虚数部ｄａ
ｖ・・・・・・光吸収層３の平均膜厚λ０６０００００
．再生光の波長

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）透光性を有するとともにレーザー光入射側に設け
   た基板と、 この基板上に積層する保護層とを有する光情報記録媒体
   であつて、 前記保護層は、そのえんぴつ硬度が２Ｈ以上であるとと
   もに、環境温度が−１５℃〜７０℃の範囲において熱膨
   張係数αが１．５×１０＾−＾５≦α≦９．０×１０＾
   −＾５（１／℃）であることを特徴とする光情報記録媒
   体。
2. （２）透光性を有するとともにレーザー光入射側に設け
   た基板と、 この基板上に設けるとともに前記レーザー光を吸収する
   有機色素から構成した光吸収層と、この光吸収層上に設
   けるとともに前記レーザー光を反射する光反射層と、 この光反射層の上に設けた保護層とを有する光情報記録
   媒体であって、 前記保護層は、そのえんぴつ硬度が２Ｈ以上であるとと
   もに、環境温度が−１５℃〜７０℃の範囲において熱膨
   張係数αが１．５×１０＾−＾５≦α≦９．０×１０＾
   −＾５（１／℃）であることを特徴とする光情報記録媒
   体。