JPH03230419A - 巻線導体用高表面品質銅線の製造方法 - Google Patents
巻線導体用高表面品質銅線の製造方法Info
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- JPH03230419A JPH03230419A JP2337190A JP2337190A JPH03230419A JP H03230419 A JPH03230419 A JP H03230419A JP 2337190 A JP2337190 A JP 2337190A JP 2337190 A JP2337190 A JP 2337190A JP H03230419 A JPH03230419 A JP H03230419A
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- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 20
- 239000004020 conductor Substances 0.000 title claims abstract description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000005491 wire drawing Methods 0.000 claims description 19
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 14
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 14
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 abstract 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 14
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- 238000004534 enameling Methods 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N phenolphthalein Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C(=O)O1 KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCTMTFRHKVHKIS-BMFZQQSSSA-N (1s,3r,4e,6e,8e,10e,12e,14e,16e,18s,19r,20r,21s,25r,27r,30r,31r,33s,35r,37s,38r)-3-[(2r,3s,4s,5s,6r)-4-amino-3,5-dihydroxy-6-methyloxan-2-yl]oxy-19,25,27,30,31,33,35,37-octahydroxy-18,20,21-trimethyl-23-oxo-22,39-dioxabicyclo[33.3.1]nonatriaconta-4,6,8,10 Chemical compound C1C=C2C[C@@H](OS(O)(=O)=O)CC[C@]2(C)[C@@H]2[C@@H]1[C@@H]1CC[C@H]([C@H](C)CCCC(C)C)[C@@]1(C)CC2.O[C@H]1[C@@H](N)[C@H](O)[C@@H](C)O[C@H]1O[C@H]1/C=C/C=C/C=C/C=C/C=C/C=C/C=C/[C@H](C)[C@@H](O)[C@@H](C)[C@H](C)OC(=O)C[C@H](O)C[C@H](O)CC[C@@H](O)[C@H](O)C[C@H](O)C[C@](O)(C[C@H](O)[C@H]2C(O)=O)O[C@H]2C1 PCTMTFRHKVHKIS-BMFZQQSSSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100342332 Mus musculus Klf16 gene Proteins 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Metal Extraction Processes (AREA)
- Insulated Conductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はピンホール、高圧均一性及び絶縁破壊電圧の優
れた巻線導体用高表面品質銅線の製造方法に関するもの
である。
れた巻線導体用高表面品質銅線の製造方法に関するもの
である。
〔従来の技術と発明が解決しようとする課題］巻線溝体
の一般的な製造法は、直径８ｍｍ程度の銅荒引線を伸線
加工によって所望の線径とし、その後エナメリングする
ものである。場合によっては伸線加工の途中て皮剥や中
間焼鈍を施している。
の一般的な製造法は、直径８ｍｍ程度の銅荒引線を伸線
加工によって所望の線径とし、その後エナメリングする
ものである。場合によっては伸線加工の途中て皮剥や中
間焼鈍を施している。
近年伸線加工技術の向上によって線材表面の欠陥もかな
り減少してはいるが、完全ではないため巻線での欠陥と
なり、しばしば問題となっていた。そこで表面品質改善
の１手法として巻線となる線径で線材に電解研磨を施す
ことが行われ、かなりの効果を上げていた。しかし工業
上問題もあった。即ち電解研磨によって線材表面のソゲ
やめくれ、あるいはキズをかなりきれいに除去しなけれ
ばならず、そのため電解研磨の時間もかかり、また電解
研磨装置も大型となり、かなりのスペースを必要として
いた。
り減少してはいるが、完全ではないため巻線での欠陥と
なり、しばしば問題となっていた。そこで表面品質改善
の１手法として巻線となる線径で線材に電解研磨を施す
ことが行われ、かなりの効果を上げていた。しかし工業
上問題もあった。即ち電解研磨によって線材表面のソゲ
やめくれ、あるいはキズをかなりきれいに除去しなけれ
ばならず、そのため電解研磨の時間もかかり、また電解
研磨装置も大型となり、かなりのスペースを必要として
いた。
またソゲやめくれなどの欠陥除去に時間がかかれば、そ
の分正常な部分も研磨され、歩留りが悪くなる。それば
かりか、電解液の劣化も速くなり、経済的にも問題があ
った。
の分正常な部分も研磨され、歩留りが悪くなる。それば
かりか、電解液の劣化も速くなり、経済的にも問題があ
った。
本発明はこれに鑑み種々検討の結果、ピンホール、高圧
均一性及び絶縁破壊電圧を向上し、かつ経済的な巻線導
体用高表面品質銅線の製造方法を開発したものである。
均一性及び絶縁破壊電圧を向上し、かつ経済的な巻線導
体用高表面品質銅線の製造方法を開発したものである。
即ち本発明製造方法は、巻線導体用銅線の伸線加工工程
において、銅線に電流密度１０〜２００＾／ｄｒｄで０
５〜２０秒間電解研磨を施し、しかる後加工率５〜８５
％の伸線加工を施すことを特徴とするもので、伸線加工
と電解研磨を連続して行なうとよい。
において、銅線に電流密度１０〜２００＾／ｄｒｄで０
５〜２０秒間電解研磨を施し、しかる後加工率５〜８５
％の伸線加工を施すことを特徴とするもので、伸線加工
と電解研磨を連続して行なうとよい。
本発明によれば、電解研磨によって線材表面のソゲやめ
くれ、あるいはキズを完全に取り除かなくとも、ソゲ、
めくれ、キズ等のエッヂをまるめるだけで電解研磨後の
減面率５〜８５％の伸線加工によって、欠陥を除去また
はおさえこむことができる。したがって電解研磨する厚
さ、時間共に少なくて済み、歩留り及び電解液の劣化を
かなり改善できる。また電解研磨上りの線にそのままエ
ナメリングすると長手方向における線径のバラツキも問
題であったが、本発明では電解研磨後、伸線加工を施す
ので、線径のバラツキも少なくすることができる。そし
て更に伸線加工、電解研磨、伸線加工、更にはエナメリ
ングを連続的に行なえば、より一層のコスト低減をはか
りながら巻線導体用高表面品質の銅線を製造することか
できる。
くれ、あるいはキズを完全に取り除かなくとも、ソゲ、
めくれ、キズ等のエッヂをまるめるだけで電解研磨後の
減面率５〜８５％の伸線加工によって、欠陥を除去また
はおさえこむことができる。したがって電解研磨する厚
さ、時間共に少なくて済み、歩留り及び電解液の劣化を
かなり改善できる。また電解研磨上りの線にそのままエ
ナメリングすると長手方向における線径のバラツキも問
題であったが、本発明では電解研磨後、伸線加工を施す
ので、線径のバラツキも少なくすることができる。そし
て更に伸線加工、電解研磨、伸線加工、更にはエナメリ
ングを連続的に行なえば、より一層のコスト低減をはか
りながら巻線導体用高表面品質の銅線を製造することか
できる。
尚電解研磨における電流密度１０〜２００＾／ｄｒｒｆ
と限定し、電解研磨時間を０５〜２０秒と限定したのは
、次の理由によるものである。即ち電流密度がｌ１ｌＡ
＃ｒｒｒ未満ては電解研磨の効果が著しく悪く、２００
人／ｄｔｄを越えると線材の正常部の表面が荒れて、新
たな表面欠陥となるためである。
と限定し、電解研磨時間を０５〜２０秒と限定したのは
、次の理由によるものである。即ち電流密度がｌ１ｌＡ
＃ｒｒｒ未満ては電解研磨の効果が著しく悪く、２００
人／ｄｔｄを越えると線材の正常部の表面が荒れて、新
たな表面欠陥となるためである。
また電解研磨時間が０５秒未満では線材の正常部の表面
を荒すことなく、欠陥部を電解研磨することができず、
２．０秒を越えることは生産性が悪くなるばかりで効果
は少い。電流密度と電解研磨時間の組合せは第１図に示
す四角形ＡＢＣＤで囲まれた範囲内から適当に選べば、
ソゲやキズを完全除去しない効率の良い電解研磨が施さ
れるが、望ましくは三角形ＡＢＤで囲まれた斜線部の範
囲内である。
を荒すことなく、欠陥部を電解研磨することができず、
２．０秒を越えることは生産性が悪くなるばかりで効果
は少い。電流密度と電解研磨時間の組合せは第１図に示
す四角形ＡＢＣＤで囲まれた範囲内から適当に選べば、
ソゲやキズを完全除去しない効率の良い電解研磨が施さ
れるが、望ましくは三角形ＡＢＤで囲まれた斜線部の範
囲内である。
次に電解研磨後の伸線加工率を５〜８５％に限定したの
は次の理由によるものである。即ち電解研磨後の伸線加
工率が５％未満では電解研磨で完全に除去できなかった
欠陥を除去又はおさえこむ効果が著しく少く、かつ電解
研磨による線径のバラツキを小さくする効果も少いため
である。一方加工率が８５％を越えると、電解研磨で完
全に除去できなかった欠陥がふたたび成長して新しい欠
陥となるためである。
は次の理由によるものである。即ち電解研磨後の伸線加
工率が５％未満では電解研磨で完全に除去できなかった
欠陥を除去又はおさえこむ効果が著しく少く、かつ電解
研磨による線径のバラツキを小さくする効果も少いため
である。一方加工率が８５％を越えると、電解研磨で完
全に除去できなかった欠陥がふたたび成長して新しい欠
陥となるためである。
尚製品サイズによらず効果があるが、線径（１，５〜１
． Ｏｍｍ程度の製品サイズに適用することが望ましい
。また線材表面の汚れがひどい場合には電解研磨の前に
電解洗浄や酸洗を施してもよい。また本発明方法によれ
ば、巻線用導体ばかりでなく一般に使用されている銅線
にも効果があることは言うまでもない。例えば機器配線
用導体、メツキ用銅線などに適用して効果がある。そし
て本発明方法は電解研摩液を選ぶことによって銅合金に
も適用可能である。
． Ｏｍｍ程度の製品サイズに適用することが望ましい
。また線材表面の汚れがひどい場合には電解研磨の前に
電解洗浄や酸洗を施してもよい。また本発明方法によれ
ば、巻線用導体ばかりでなく一般に使用されている銅線
にも効果があることは言うまでもない。例えば機器配線
用導体、メツキ用銅線などに適用して効果がある。そし
て本発明方法は電解研摩液を選ぶことによって銅合金に
も適用可能である。
電解研摩液としては、水酸化ナトリウム液リン酸液、硫
酸液なとが用いられる。
酸液なとが用いられる。
以下本発明を実施例について詳細に説明する。
第２図に示すように、直径１．６ｍｍの焼鈍材を母線（
０）とし、インライン伸線機（１１で伸線し、その後電
解研磨槽（２）、水洗槽（３）、湯洗槽（４）、乾燥炉
（５）を順次通過させた後、伸線機（６）を通して約１
５％又は約２５％の伸線加工を施して線径０８圓とし、
続いで湯洗槽（７）、焼鈍炉（８）、エナメリング装置
（９）を通して巻線とした。
０）とし、インライン伸線機（１１で伸線し、その後電
解研磨槽（２）、水洗槽（３）、湯洗槽（４）、乾燥炉
（５）を順次通過させた後、伸線機（６）を通して約１
５％又は約２５％の伸線加工を施して線径０８圓とし、
続いで湯洗槽（７）、焼鈍炉（８）、エナメリング装置
（９）を通して巻線とした。
電解研磨は、線材を正極とし、槽内の線材の周りに配置
した銅製パイプを負極とし、電解液に常温のリン酸水溶
液を使用し、電流密度６０゜１２ＯＡ＃ｎｆで１秒間電
解研磨した。
した銅製パイプを負極とし、電解液に常温のリン酸水溶
液を使用し、電流密度６０゜１２ＯＡ＃ｎｆで１秒間電
解研磨した。
このようにして作製した巻線について、ピンホール、高
圧均一性及び絶縁破壊電圧を調べた。
圧均一性及び絶縁破壊電圧を調べた。
その結果を従来例及び比較例と比較して第１表に示す。
ピンホール試験（加熱処理法）は、長さ約６ｍの試験片
をとり、これを温度１２５±３°Ｃに保った恒温槽中て
約１０分間加熱処理を施し、その後試験片を曲げたり伸
ばしたりしないで、フェノールフタレイン３％のアルコ
ール溶液を適量滴下した０２％食塩水中に５ｍの長さを
浸し、液を正極、試験片を負極とし、＋２Ｖの直流電圧
を１分間加えて発生するピンホール数を調へた。
をとり、これを温度１２５±３°Ｃに保った恒温槽中て
約１０分間加熱処理を施し、その後試験片を曲げたり伸
ばしたりしないで、フェノールフタレイン３％のアルコ
ール溶液を適量滴下した０２％食塩水中に５ｍの長さを
浸し、液を正極、試験片を負極とし、＋２Ｖの直流電圧
を１分間加えて発生するピンホール数を調へた。
高圧均一性試験は、長さ約３（１ｍの試験片をとり、こ
れを一定の速さで走行させることができる巻取装置部分
と、試験片の皮膜に電圧を加えるための電極と、欠陥を
検知して計数することができる表示回路を備えた試験機
に取り付け、欠陥数を測定した。電圧は直流＋５００Ｖ
である。
れを一定の速さで走行させることができる巻取装置部分
と、試験片の皮膜に電圧を加えるための電極と、欠陥を
検知して計数することができる表示回路を備えた試験機
に取り付け、欠陥数を測定した。電圧は直流＋５００Ｖ
である。
絶縁破壊電圧は、長さ約５０ａｏの試験片をとり、これ
を第３図に示すように二つに折り合せ、０．４５ｋｇ＋
の張力を加えながら約１２ｃｍの長さの部分を１２回よ
り合わせた後張力を取り去り、折目部分を切って、この
２本の導体間に５０Ｈｚの正弦波に近い波形をもった交
流電圧を加えて破壊電圧値を１ｊｌｌ＋定した。
を第３図に示すように二つに折り合せ、０．４５ｋｇ＋
の張力を加えながら約１２ｃｍの長さの部分を１２回よ
り合わせた後張力を取り去り、折目部分を切って、この
２本の導体間に５０Ｈｚの正弦波に近い波形をもった交
流電圧を加えて破壊電圧値を１ｊｌｌ＋定した。
電圧は約５００Ｖ／Ｓの割合てな
るべく−様な速さで上昇させた。
第１表から明らかなように、本発明例Ｎα１〜４は従来
例Ｎα５に比べてピンホール試験、高圧均一性試験及び
絶縁破壊電圧が優れていることが判る。
例Ｎα５に比べてピンホール試験、高圧均一性試験及び
絶縁破壊電圧が優れていることが判る。
これに対し電解研磨後伸線加工率が本発明の条件から外
れる比較例に６〜７は従来例Ｎα５と同程度のレベルで
あり、その改善か認められない。
れる比較例に６〜７は従来例Ｎα５と同程度のレベルで
あり、その改善か認められない。
このように本発明によれば、ピンホール、高圧均一性試
験及び絶縁破壊電圧が優れた巻線導体用高表面品質の銅
線が、経済的に容易に製造することができるもので、工
業上顕著な効果を奏するものである。
験及び絶縁破壊電圧が優れた巻線導体用高表面品質の銅
線が、経済的に容易に製造することができるもので、工
業上顕著な効果を奏するものである。
第１図は本発明の電解研磨における電流密度と電解研磨
時間の組合せを示す説明図、第２図は本発明の実施例に
おける工程図、第３図は絶縁破壊電圧の試験片を示す側
面図である。 ０、母線 インライン伸線機 電解研摩槽 水洗槽 湯洗槽 乾燥炉 伸線機 湯洗槽 焼鈍炉 エナメリング装置 第１図 ５ ２゜ 時 間 （秒）
時間の組合せを示す説明図、第２図は本発明の実施例に
おける工程図、第３図は絶縁破壊電圧の試験片を示す側
面図である。 ０、母線 インライン伸線機 電解研摩槽 水洗槽 湯洗槽 乾燥炉 伸線機 湯洗槽 焼鈍炉 エナメリング装置 第１図 ５ ２゜ 時 間 （秒）
Claims (2)
- （１）巻線導体用銅線の伸線加工工程において、銅線に
電流密度１０〜２００Ａ／ｄｍ＾２で０．５〜２．０秒
間電解研磨を施し、しかる後加工率５〜８５％の伸線加
工を施すことを特徴とする巻線導体用高表面品質銅線の
製造方法。 - （２）伸線加工と電解研磨を連続して行なう請求項（１
）記載の巻線導体用高表面品質銅線の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2337190A JPH03230419A (ja) | 1990-02-01 | 1990-02-01 | 巻線導体用高表面品質銅線の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2337190A JPH03230419A (ja) | 1990-02-01 | 1990-02-01 | 巻線導体用高表面品質銅線の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03230419A true JPH03230419A (ja) | 1991-10-14 |
Family
ID=12108693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2337190A Pending JPH03230419A (ja) | 1990-02-01 | 1990-02-01 | 巻線導体用高表面品質銅線の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03230419A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018154962A1 (ja) * | 2017-02-23 | 2018-08-30 | 住友電気工業株式会社 | 銅線材の製造方法 |
-
1990
- 1990-02-01 JP JP2337190A patent/JPH03230419A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018154962A1 (ja) * | 2017-02-23 | 2018-08-30 | 住友電気工業株式会社 | 銅線材の製造方法 |
| CN110325297A (zh) * | 2017-02-23 | 2019-10-11 | 住友电气工业株式会社 | 铜线材的制造方法 |
| JPWO2018154962A1 (ja) * | 2017-02-23 | 2019-12-12 | 住友電気工業株式会社 | 銅線材の製造方法 |
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