JPH0322460A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

Info

Publication number
JPH0322460A
JPH0322460A JP15761889A JP15761889A JPH0322460A JP H0322460 A JPH0322460 A JP H0322460A JP 15761889 A JP15761889 A JP 15761889A JP 15761889 A JP15761889 A JP 15761889A JP H0322460 A JPH0322460 A JP H0322460A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power
wire
line
potential
power supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15761889A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaru Yamamoto
勝 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP15761889A priority Critical patent/JPH0322460A/en
Publication of JPH0322460A publication Critical patent/JPH0322460A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To enable selection of an arbitrary potential without narrowing the width of a power wire for each side by providing a power line independent for each side and a plurality of power lines laid around the outer peripheral part of a semiconductor chip and by disposing input-output interface blocks in the outer peripheral part of the chip. CONSTITUTION:A bus line of a power source and ground wires is constructed of a third power wire 8, a first power wire 9 formed around the third power wire 8, a second power wire 10 surrounding the first power wire 9 and an internal ground wire 11 and an external ground wire 12 formed on the innermost and outermost sides of a semiconductor chip 1. Input-output interface blocks take a power supply from the first power wire 9 or the second power wire 10 and simultaneously supplies a potential to the third power wire 8. By a mesh structure of a power source constructed of the third power wire 8 and each input-output interface block, it is possible to change the potential in such a manner that the potential of 5 volts is inputted to a power bus line of one side while the one of 1 volt is inputted to the power bus line of the other.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体集積回路のレイアウトに関し、特に電
源バスラインのレイアウトに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to the layout of semiconductor integrated circuits, and particularly to the layout of power supply bus lines.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第3図は従来の半導体集積回路のレイアウトの一例を示
す半導体チップの平面図である。従来、この種の半導体
集積回路における電源バスラインのレイアウトは、第3
図に示すように、全ての電源線及びグランド線〈ガラン
ド線2,7、第1及び第2の電源線2,3,5.6)は
、半導体チップ1の一主面の周囲を一周させて、全ての
辺で同電位になるようにするか、または、この半導体チ
ップ1に配置される入出力インターフェイスブロックに
よらず、半固定的に各辺ごとに電位が決まった電源ライ
ンがあるかのどちらかで形成されていた。
FIG. 3 is a plan view of a semiconductor chip showing an example of the layout of a conventional semiconductor integrated circuit. Conventionally, the layout of power supply bus lines in this type of semiconductor integrated circuit has been
As shown in the figure, all the power lines and ground lines (Garland lines 2, 7, first and second power lines 2, 3, 5, 6) are arranged around one principal surface of the semiconductor chip 1. Is there a power supply line with a semi-fixed potential for each side, regardless of the input/output interface blocks arranged on this semiconductor chip 1? It was formed by either.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上述した従来の電源バスラインのレイアウトで、特に対
ラッチアップ性を考慮してレイアウトを行なわなければ
ならないCMOS集積回路では、電源バスラインの各辺
によって異なる電位が必要な場合、チップ外周部を全て
の電源線が一周する方式であると、十分な電源線幅がと
れず、エレクトロ・マイグレーションに対して不利にな
るという欠点がある。また、電源インピーダンスが高く
見えるため、同時動作に対しても不利になるという欠点
がある。さらに、各辺ごとに固定した電位をもつ電源ラ
インの方式では、各辺により電位“が固定されているた
め、配置可能な電源ピンや入出力イターフェイスブロッ
クが制限されるという欠点がある。本発明の目的は、か
かる問題を解消する電源バスラインのレイアウトを有す
る半導体集積回路を提供することにある。
In the above-mentioned conventional power bus line layout, in CMOS integrated circuits where the layout must be done with particular consideration to latch-up resistance, when different potentials are required on each side of the power bus line, the entire periphery of the chip is A system in which the power supply line goes around once has the drawback that a sufficient power supply line width cannot be secured, which is disadvantageous to electromigration. Further, since the power supply impedance appears high, there is a disadvantage that it is disadvantageous for simultaneous operation. Furthermore, in the power line system where the potential is fixed for each side, the potential is fixed for each side, which has the disadvantage of limiting the number of power supply pins and input/output interface blocks that can be placed. An object of the invention is to provide a semiconductor integrated circuit having a power bus line layout that solves this problem.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明の半導体集積回路は、中央に論理ゲート素子群が
形成されるとともにこの論理ゲート素子群を囲むように
一周して形威された第l及び第2の電源線を有する半導
体集積回路において、前記第1及び第2の電源線の各辺
に平行に形戒されるとともに少くなくとも一辺以上の第
3の電源線と、この第3の電源線と前記第1及び第2の
電源線と接続する接続手段とを有している。
A semiconductor integrated circuit of the present invention includes a logic gate element group formed in the center and first and second power supply lines extending around the logic gate element group. a third power line extending parallel to each side of the first and second power lines and having at least one side; and a third power line and the first and second power lines. and a connecting means for connecting.

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明について図面を参照して説明する。 Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.

第一図は本発明の半導体集積回路のレイアウトの一実施
例を示す半導体チップの平面図である。
FIG. 1 is a plan view of a semiconductor chip showing an embodiment of the layout of a semiconductor integrated circuit according to the present invention.

この半導体集積回路のレイアウト、ここでは電源及びグ
ランド線のバスラインは、特に定まった電位をもたず、
そこに配置される入出力インターフェイスブロックによ
り電位の定まる電源ラインである。具体的には、同図に
示すように、第3の電源線8と、この第3の電源線8を
囲むように形威された第1の電源線9と、この第1の電
源線9を囲む第2の電源線10と、半導体チップ1の最
内側と最外側に形或された内部グランド線11と外部グ
ランド線12とで構戒されている。
The layout of this semiconductor integrated circuit, in this case the bus line of the power supply and ground line, does not have a particular potential,
This is a power supply line whose potential is determined by the input/output interface block placed there. Specifically, as shown in the figure, a third power line 8, a first power line 9 surrounding the third power line 8, and a third power line 9 are connected to each other. A second power supply line 10 surrounds the semiconductor chip 1, and an internal ground line 11 and an external ground line 12 formed on the innermost and outermost sides of the semiconductor chip 1.

また、入出力インターフェイスブロックは、第1の電源
線9または第2の電源線10より電源をとり、同時に、
第3の電源線8に電位を供給する。これにより、この第
1及び第2の電源線9及び10一つの辺で複数のバッフ
ァが同時に動作しても、第3の電源線8と各入出力イン
ターフェイスブロックによって楕戒される電源のメッシ
ュ構造により、電源にのるノイズを小さくすることがで
きる。さらに、従来技術であれば、この第3の電源線8
が各コーナーで接続されているか、または、第3の電源
線8に電位供給する専用のブロックにより電位を決めて
いた。第2図(a),(b)及び(C)は第1図のA部
の各層面を示す半導体チップの下地面,下地面の上の第
1のアルミニュウム配線面及びその上の第2のアルミニ
ュウム配線面の平面図である。この半導体集積回路の下
地面は、例えば、第1図のA部の下地には、第2図(a
)に示すように、Nチャンネルトランジスタ領域18、
pチャンネルトランジスタ領域15及びpチャンネルプ
リバッファ14の間のそれぞれにラッチアップ対策用の
ザブストレート・コンタクト16及びNウェルコンタク
ト17が形成されている。また、pチャンネルプリバッ
ファ14に隣接してNチャンネルプリバッファ13が形
成されている。一方、この下地面の上の第1のアルミニ
ュウム配線面には、第2図(b)に示すように、第1の
アルミ配線領域19と、サブストレートコンタクト16
及びNウェルコンタクト17と接続する第1のアルミコ
ンタクト20及び第2のアルミコンタクト21が形戒さ
れている。
In addition, the input/output interface block receives power from the first power line 9 or the second power line 10, and at the same time,
A potential is supplied to the third power supply line 8. As a result, even if multiple buffers operate simultaneously on one side of the first and second power supply lines 9 and 10, the mesh structure of the power supply is occluded by the third power supply line 8 and each input/output interface block. This makes it possible to reduce noise on the power supply. Furthermore, in the conventional technology, this third power line 8
are connected at each corner, or the potential is determined by a block dedicated to supplying potential to the third power supply line 8. Figures 2 (a), (b), and (C) show the underlying surface of the semiconductor chip, the first aluminum wiring surface above the underlying surface, and the second aluminum wiring surface above the underlying surface of the semiconductor chip, showing the respective layer surfaces of section A in FIG. 1. FIG. 3 is a plan view of an aluminum wiring surface. The underlying surface of this semiconductor integrated circuit is, for example, the underlying surface of section A in FIG.
), the N-channel transistor region 18,
A substrate contact 16 and an N-well contact 17 are formed between the p-channel transistor region 15 and the p-channel prebuffer 14, respectively, to prevent latch-up. Further, an N-channel pre-buffer 13 is formed adjacent to the p-channel pre-buffer 14. On the other hand, on the first aluminum wiring surface on this base surface, as shown in FIG. 2(b), a first aluminum wiring area 19 and a substrate contact 16 are formed.
Also, a first aluminum contact 20 and a second aluminum contact 21 connected to the N-well contact 17 are shown.

さらに、この第1のアルミニュウム配線面の上に形成さ
れた第2のアルミニュウム配線面では、第2図(C)に
示すように、半導体チツプ1の中央部に形或された論理
ゲート素子形成領域側から、内部グランド線12、ブリ
バツファ配線領域22、第3の電源線8、第1のアルミ
コンタクト20と接続される第4の電源線23、第1の
電源線9、第2の電源線10、第4の電源線、第2のア
ルミコンタクト21と接続する第5の接続線24及び外
部グランド線がそれぞれ形威されている。ここで、第2
図(b)の第1のアルミ配線領域19を利用することに
よって、各人力出バツファの機能に合せた配線が行なわ
れる。すなわち、例えば、第3の電源線8の電位を第1
の電源線9と同電位にしたい場合は、第2図に示す第1
のアルミ配線領域19のBとCの領域を介してスルーホ
ールコンタクトで第3の電源線8と第1の電源線9を短
絡する。また、第3の電源線8と第2の−5 6− 電源線10と同電位にしたい場合は、スルーホールコン
タクトによりD領域とC領域を介して短絡すれば良い。
Furthermore, on the second aluminum wiring surface formed on the first aluminum wiring surface, as shown in FIG. From the side, the internal ground line 12, the buffer wiring area 22, the third power line 8, the fourth power line 23 connected to the first aluminum contact 20, the first power line 9, and the second power line 10. , a fourth power supply line, a fifth connection line 24 connected to the second aluminum contact 21, and an external ground line, respectively. Here, the second
By utilizing the first aluminum wiring area 19 shown in FIG. 3(b), wiring is performed in accordance with the function of each manual output buffer. That is, for example, the potential of the third power supply line 8 is
If you want to have the same potential as the power supply line 9 of
The third power supply line 8 and the first power supply line 9 are short-circuited by through-hole contact through regions B and C of the aluminum wiring region 19. Furthermore, if it is desired that the third power line 8 and the second -5 6- power line 10 be at the same potential, they may be short-circuited via the D region and the C region using a through-hole contact.

このように、集積回路に入力する電源電位をこの第3の
電源線を設けることによって任意に変えることが出来る
利点がある。例えば、ある辺の電源バスラインに入力す
る電位を5ボルト、他の辺の電源バスラインには1ボル
トといった様に変更が可能となる。
In this way, there is an advantage that the power supply potential input to the integrated circuit can be arbitrarily changed by providing the third power supply line. For example, the potential input to the power bus line on one side can be changed to 5 volts, and the potential input to the power bus line on the other side can be changed to 1 volt.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明は、各辺ごとに独立した電源
ラインと、チップ外周部を一周する複数の電源ラインと
を設け、半導体チップの外周部に配置される入出力イン
ターフェイスブロックにより、各辺ごとに独立した電源
ラインに電位をあたえ、各辺により、電源線幅を細くす
ることなく任意に電位が選べることの出来る半導体集積
回路が得られるという効果がある。
As explained above, the present invention provides an independent power supply line for each side and a plurality of power supply lines that go around the outer periphery of the chip. This has the effect of providing a semiconductor integrated circuit in which a potential can be arbitrarily selected for each side without narrowing the width of the power supply line by applying a potential to an independent power supply line for each side.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の半導体集積回路のレイアウト(a),
(b)及び(c)は第l図のA部の各層面を示す半導体
チップの下地面、下地面の上の第1のアルミニュウム配
線面及びその上の第2のアルミニュウム配線面の平面図
、第3図は従来の半導体集積回路のレイアウトの一例を
示す半導体チップの平面図である。 1・・・半導体チップ、2・・・グランド線、3.9・
・・第1の電源線、4.10・・・第2の電源線、5・
・・外部駆動バッファ用第lの電源線、6・・・外部駆
動バッファ゜用第2の電源線、7・・・外部駆動バッフ
ァ用グランド線、8・・・第3の電源線、11・・・外
部グランド線、12・・・内部グランド線、13・・・
Nチャンネルプリバッファ、14・・・Pチャンネルプ
リバッファ、15・・・Pチャンネルトランジスタ領域
、16・・・サブストレートコンタクト、17・・・N
ウェルコンタクト、18・・・Nチャンネルトランジス
タ領域、l9・・・第lのアルミ配線領域、20・・・
第1のアルミコンタクト、21・・・第2のアルミコン
タクト、22・・・ブリバッファ配線領域、23・・・
第4の電源線、24・・・第5の電源線。 9
FIG. 1 shows a layout (a) of a semiconductor integrated circuit according to the present invention;
(b) and (c) are plan views of a base surface of a semiconductor chip showing each layer surface of part A in FIG. 1, a first aluminum wiring surface on the base surface, and a second aluminum wiring surface above it; FIG. 3 is a plan view of a semiconductor chip showing an example of the layout of a conventional semiconductor integrated circuit. 1... Semiconductor chip, 2... Ground line, 3.9.
...First power line, 4.10...Second power line, 5.
... lth power supply line for external drive buffer, 6 ... second power supply line for external drive buffer, 7 ... ground line for external drive buffer, 8 ... third power supply line, 11. ...External ground line, 12...Internal ground line, 13...
N channel prebuffer, 14...P channel prebuffer, 15...P channel transistor region, 16...substrate contact, 17...N
Well contact, 18...N-channel transistor region, l9...l-th aluminum wiring region, 20...
First aluminum contact, 21... Second aluminum contact, 22... Bribuffer wiring area, 23...
Fourth power line, 24...Fifth power line. 9

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 中央に論理ゲート素子群が形成されるとともにこの論理
ゲート素子群を囲むように一周して形成された第1及び
第2の電源線を有する半導体集積回路において、前記第
1及び第2の電源線の各辺に平行に形成されるとともに
少くなくとも一辺以上の第3の電源線と、この第3の電
源線と前記第1及び第2の電源線と接続する接続手段と
を有することを特徴とする半導体集積回路。
In a semiconductor integrated circuit having a logic gate element group formed in the center and first and second power supply lines formed around the logic gate element group, the first and second power supply lines It is characterized by having a third power line formed parallel to each side and having at least one side or more, and a connecting means for connecting the third power line to the first and second power lines. Semiconductor integrated circuit.
JP15761889A 1989-06-19 1989-06-19 Semiconductor integrated circuit Pending JPH0322460A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15761889A JPH0322460A (en) 1989-06-19 1989-06-19 Semiconductor integrated circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15761889A JPH0322460A (en) 1989-06-19 1989-06-19 Semiconductor integrated circuit

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0322460A true JPH0322460A (en) 1991-01-30

Family

ID=15653668

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15761889A Pending JPH0322460A (en) 1989-06-19 1989-06-19 Semiconductor integrated circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0322460A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5798909A (en) * 1995-02-15 1998-08-25 International Business Machines Corporation Single-tiered organic chip carriers for wire bond-type chips

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5798909A (en) * 1995-02-15 1998-08-25 International Business Machines Corporation Single-tiered organic chip carriers for wire bond-type chips

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH02163960A (en) Semiconductor device
US5404035A (en) Multi-voltage-level master-slice integrated circuit
US5780881A (en) Gate array driven by source voltages and electronic equipment using the same
US5670802A (en) Semiconductor device
JPH0322460A (en) Semiconductor integrated circuit
US5391943A (en) Gate array cell with predefined connection patterns
JPH02284448A (en) Semiconductor device
JPH07169840A (en) Semiconductor device
JPH0416944B2 (en)
JP2508205B2 (en) Master-slice type semiconductor device
JPH023279A (en) Standard cell of complementary mis master slice lsi
EP0136888A1 (en) Large scale integration circuitry
JPH0563944B2 (en)
JPH09148545A (en) Semiconductor device
JPH0879048A (en) Output buffer
JPH03148132A (en) Standard cell type semiconductor integrated circuit device
JPH0774259A (en) Semiconductor memory device
JP3175678B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
JPH0774252A (en) Semiconductor integrated circuit
JP3052374B2 (en) Layout method for CMOS integrated circuit
JPH08125124A (en) Semiconductor integrated circuit
JP2740374B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2000260947A (en) Integrated circuit
JPS6342419B2 (en)
JPH0322461A (en) Semiconductor integrated circuit