JPH03214087A - 表面汚染拭取りヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は、原子力分野における表面汚染のサンプリング
または除染のために使用される拭取り装置に係り、特に
その拭取りヘッドに関する。

（従来の技術） 第２図（ａ）、　（ｂ）、　（ｃ）に従来の拭取りヘッ
ドの例を示す。表面に付着した汚染を拭取材によりサン
プリングあるいは除染するには、ろ紙またはフェルト状
の拭取材■を取付けた拭取りヘッド（１）を相手の表面
に押付け、横方向に移動させ、いわゆる拭取り動作を行
なわせることに上り、拭取材■側に汚染を反転移行させ
る。このとき、拭取材■が相手の表面に程よく接触する
ように、拭取りヘッド（１）には首振り自在な自由度が
つけられることが多い、特に、拭取り対象面に凹凸があ
ったり。

曲面形状になっている場合などは、二の形状に拭取りヘ
ッド０）が追従するよう１首振りの自由度は不可欠であ
る。

従来、この首振りの自由度は、第２図（ａ）に示すよう
に、拭取りヘッド（υをヒンジ■を介して支持部０に取
付けることにより与えられていた。第２図（ａ）は、拭
取りヘッド（１）が矢印Ａで示す移動方向の凹凸に対し
追従する例であり、第３図は、自在継手０）により、あ
らゆる方向に対して拭取りヘッド（υの拭取り面がなじ
む構造となっている例である。

しかしなから、これらの例のように、−点を中心にして
回転するヒンジ０や自在継手（イ）による首振り機構で
は、その位置が物理的に拭取り面の手前側に配置するし
かない。したがって１首振りの回転中心も拭取り面の手
前側となる。第２図（ａ）の移動方向の場合、第２図（
ｂ）に示すように、拭取りヘッド（１）の押付力をＰ、
拭取材■と拭取り面との＃！擦係数をμとすれば、拭取
りヘッドのには、移動に伴なう拭取り面の摩擦抵抗によ
りＦ＝μ、Ｐ　なる摩擦力Ｆがかかり、ヒンジ■の拭取
り面からの距離をｈとすれば、拭取りヘッド■にはＴ＝
Ｆ、ｈ　　なる時計回りの回転トルクがかかる。

この結果、第２図（ｃ）に示すように、拭取り方向に対
し、拭取材■の前端面の押付圧が増加し。

後端面の押付圧が低下する。したがって、この状態で拭
取材■が移動すれば、相手表面の汚染がかき落されたり
して取込みにくく、−度取込んだ汚染が後端から逃げ易
く、汚染を保持することがむづかしい、すなわち、拭取
り効率が悪くなるのみならず、汚染を飛散、拡大させる
欠点があった。

（発明が解決しようとする課題） 上記のように、従来技術によれば、拭取りヘッド■の首
振り中心が拭取り面よりも手前側にあるため、拭取り動
作により生じたモーメントは拭取材■前端面の押付圧を
増加させ、後端面の押付圧を低下させる。したがって、
汚染を取込みにくく、また取込んだ汚染を保持しにくい
ばかりか、汚染を飛散、拡大させる欠点があった。

そこで本発明は、拭取りヘッドの移動方向に対して拭取
材の先端面の押付圧を低下させ、且つ後端面の押付圧を
増加させる首振り機構を具えた拭取りヘッドを実現する
ことを課題とし、本発明の目的もそこにある。

〔発明の構成〕

（課題を解決するための手段） 本発明の表面汚染拭取りヘッドは、拭取材が端面に取着
された拭取りヘッドの移動方向に平行な一１側面とこの
拭取りヘッド両側面と間隔をおいて門形フォークの対辺
が拭取材端面と直角な向きで拭取りヘッド中央部に配置
された支持部とが、前記拭取材の端面中心を通りこの端
面および移動方向に直角な平面に含まれ且つ拭取材端面
から外方へ離間しこの端面と平行な直線上に円弧中心が
ある円弧ガイド帯板とこの円弧ガイド帯板をその長ｆ中
心振分けの２部位でそれぞれ挟む２対のガイドローラと
で構成され前記門形フォークの各対辺と拭取りヘッドの
両側面との間にそれぞれ配置された首振り機構を介して
係合され、前記各円弧ガイド帯板の円弧の中心を結ぶ直
線を回転軸として前記拭取りヘッドが首振り動作を行な
うように構成される。

（作　用） 本発明の表面汚染拭取りヘッドにおいては。

拭取りヘッドの首振り動作の回転軸が拭取材の端面すな
わち拭取り面からその面の奥の方へ離間した位置に設定
されているため、拭取り動作（拭取りヘッドの移動）に
伴なって発生し拭取りヘッドにかかる回転トルクは、従
来例（第２図（ａ）　、　（ｂ）　。

（ｃ）の場合と反対の向きに生じ、拭取材の移動方向前
端面の押付圧が低下し、後端面の押付圧が増加する。

（実施例） 以下１図面に示した実施例に基いて本発明の詳細な説明
する。

第１図（ａ）　、（ｂ）　＋　（ｅ）　−（ｄ）に本発
明一実施例の表面汚染拭取りヘッドを示す、第１図（ａ
）、　（ｂ）に示すように、拭取りヘッド（１１）の移
動方向に平行な両側面（ｌｌａ）、　（ｌｌｂ）には、
拭取材（１２）の端面から外方へ離間した位置に円弧中
心がある円弧ガイド帯板（１３）が、拭取材（１２）の
端面中心を通りこの端面および移動方向に直角な平面に
含まれ且つ拭取材（１２）の端面と平行な一直線上に各
円弧ガイド帯板（１３）の円弧中心があるようにそれぞ
れ取付けられている。

この拭取りヘッド（１１）の移動方向中央部位で両側面
（ｌｌａ）、　（ｌｌｂ）と間隔をおいて支持部（１５
）の門形フォークの一対の対辺（１５ａ）、　（１５ｂ
）がその先端を拭取材（１２）取着面より手前に位置さ
せて拭取材（１２）の端面と直角な向きに配置されてお
り、各対辺（＋５ａ）、　（１５ｂ）の拭取りヘッド（
１１）の両側面（Ｌｌａ）。

（Ｉ　ｌｂ）に対向した面には、　円弧ガイド帯４＆（
１３）をその長手中心振分けの２部位でそれぞれ挟む２
対のガイドローラ（１４）が取付けられている。

すなわち、拭取りヘッド（ＩＩ）は、円弧ガイド帯板（
１３）とガイドローラ（１４）から成る首振り機構を介
して支持部（１５）の門形フォークの対辺（１５ａ）　
。

（＋５ｂ）と係合され、　一対の円弧ガイド帯板（Ｉ３
）の円弧の中心を結ぶ直線（拭取材（１２）の端面の中
心を通り移動方向に直角な平面に含まれ拭取材（１ｚ）
の端面と平行な直線）を回転軸として首振り動作を行な
うことになる。

Ｌ記のように構成された本発明一実施例の表面汚染拭取
りヘッドにおいては、拭取材（１２）の端面を汚染の付
着した表面に押付け、横方向に移動させ、いわゆる拭取
り動作を行なわせることにより、拭取材（１２）側に汚
染を反転移行させる。このとき。

移動方向が第１図（ａ）に示すように矢印Ｂであったと
すると、第１図（ｃ）に示すように、拭取りヘッド（１
１）の押付力をＰ、拭取材（１２）と拭取り面との摩擦
係数をμとしたとき、拭取りヘッド（１１）には、移り
」に伴なう拭取り面の摩擦抵抗によりＦ＝μ　ｌ）なる
摩擦力Ｆがかかり、拭取材（１２）の端面（拭取り而）
と拭取りヘッド（１１）のｉ′振り動作の回転軸Ｓとの
距離をＨとすれば、拭取りヘッド（１１）にはＴ＝Ｆ、
Ｈなる反時計回りの回転１〜ルクがかかる。

この結果、第１図（ｄ）に示すように、拭取り方向に対
し、拭取材（１２）の前端面の押付圧が低下し。

後端面の押付圧が増加する。したがって、この状態で拭
取材（１２）が移動すれば、拭取材（１２）前端では汚
染を良く取込むようになり、汚染をかき落して飛散させ
ることがほとんどなくなる。そして、拭取材（１２）の
後端面の押付圧が高いので、−度、拭取材（１２）の中
に取り込んだ汚染が後端面から逃げにくく、拭取り効率
が高くなる。

なお、第１図（ａ）、　（ｂ）、　（ｃ）、　（ｄ）に
示した実施例では１円弧ガイド帯板（１３）を拭取りヘ
ッド（１１）の両側面（Ｉｌａ）、　（ｌｌｂ）にそれ
ぞれ取付け、ガイドローラ（１４）を支持部（１５）の
門形フォークに取付けたが、ガイドローラ（１４）を拭
取りヘッド（１１）の両側面に、円弧ガイド帯板（１３
）を支持部（１５）の門形フォークに、それぞれ取付け
るようにしてもよい。

〔発明の効果〕

以上詳述したように本発明によれば、拭取りヘッドと支
持部とが１円弧ガイド帯板とこのガイド帯板を挟むガイ
ドローラから成る首振り機構を介して係合され、この首
振り機構の回転軸が拭取りヘッドの拭取り面からその面
の奥の方へ離間した位置にあるようにした表面汚染拭取
りヘッドを実現したことにより、拭取り動作に伴なって
拭取りヘッドにかかるトルクは、拭取り方向に対し拭取
材の前端面が持ち上げられ、後端面が押付けられる方向
に作用するため、拭取材の前端面の押付圧が低下し、後
端面の押付圧が増加する。したがって、拭取材の前端で
は汚染を良く取込むようになり、汚染をかき落して飛散
させることがほとんどなくなり、また、拭取材の後端面
の押付圧が高いことによって、−度、拭取材の中に取込
んだ汚染が後端面から逃げにくり、拭取り効率が向上す
る。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）、　（ｂ）、　（ｃ）、　（ｄ）は本発明
一実施例の表面汚染拭取りヘッドを示し、第１図（ａ）
は正面図、第１図（ｂ）は側面図、第１図（ｃ）は拭取
りヘッドに作用する力を示す説明図、第１図（ｄ）は拭
取材の端面の押付圧の分布を示す説明図、第２図（ａ）
、　（ｂ）、　（ｃ）は従来例の表面汚染拭取りヘッド
を示し、第１図（ａ）は側面図、第１図（ｂ）は拭取り
ヘッドに作用する力を示す説明図、第１図（ｃ）は拭取
材の端面の押付圧の分布を示す説明図、第３図は他の従
来例の表面汚染拭取りヘッドを示す正面図である。 ■・・・拭取りヘッド。 ＋１ａ、　ｌｌｂ・・・移動方向に平行な両側面。 １２・・・拭取材、　　　　　１３・・・円弧ガイド帯
板。 １４・・ガイドローラ、　１５・・・支持部、１５ａ、
　１５ｂ・・・支持部の門形フォークの対辺。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 表面汚染をサンプリングまたは除染するため相手の表面
   形状に追従して汚染の拭取りを行なう拭取りヘッドにお
   いて、拭取材が端面に取着された拭取りヘッドの移動方
   向に平行な両側面とこの拭取りヘッド両側面と間隔をお
   いて門形フォークの対辺が拭取材端面と直角な向きで拭
   取りヘッド中央部に配置された支持部とが、前記拭取材
   の端面中心を通りこの端面および移動方向に直角な平面
   に含まれ且つ拭取材端面から外方へ離間しこの端面と平
   行な直線上に円弧中心がある円弧ガイド帯板とこの円弧
   ガイド帯板をその長手中心振分けの２部位でそれぞれ挟
   む２対のガイドローラとで構成され前記門形フォークの
   各対辺と拭取りヘッドの両側面との間にそれぞれ配置さ
   れた首振り機構を介して係合され、前記各円弧ガイド帯
   板の円弧の中心を結ぶ直線を回転軸として前記拭取りヘ
   ッドが首振り動作を行なうことを特徴とする表面汚染拭
   取りヘッド。