JPH03211819A - ホトレジスト供給装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体装置を製造する際に、レジストを安定し
て供給するホトレジスト供給装置に関する。

従来の技術 半導体装置の製造工程で用いられるホトレジストは半導
体装置が微細化するにつれ、安定した品質と性能を維持
することが重要である。

従来、この種のレジスト供給装置は第２図に示すような
構成であった。

第２図において、１はホトレジスト容器、２はホトレジ
スト、３はホトレジスト供給管、４は不活性ガス注入管
、５はホトレジスト塗布機である。

以上のように構成されたホトレジスト供給装置について
、以下その動作を説明する。

まず不活性ガス注入管４に流される窒素ガスにより、ホ
トレジスト容器１の内部が加圧される。

このときホトレジスト２は、ホトレジスト塗布機５のポ
ンプに吸引され、ホトレジスト供給管３を通りホトレジ
スト塗布機５に供給され、ウェハ上に塗布されていた。

発明が解決しようとする課題 このような従来の構成では、以下の原因■〜■により、
同一ホトレジスト容器においても、ホトレジスト塗布機
に供給されるホトレジストの組成、粘度、感光度といっ
た物理的、化学的性質が経時変化する。

原因■ホトレジスト中にホトレジスト製造時の原材料、
副反応生成物などの不純物が混入している。

原因■ホトレジストの溶質である感光性樹脂や増感剤が
、溶媒である有機溶媒に対し溶解度が小さく、ホトレジ
スト中で偏在している。

原因■ホトレジストの容器交換時にホトレジストが空気
にふれ、酸化、吸湿、揮発といった変質や劣化を起こし
ている。

このため、ホトレジストがウェハに塗布、Ｎ光、現像さ
れた後のパターン再現性が悪く、半導体装置の安定的量
産の障害になるという課題があった。

本発明はこのような課題を解決するもので、ホトレジス
ト塗布機に物理的、化学的性質が均一なホトレジストを
供給することのできるホトレジスト供給装置を提供する
ことを目的とするものである。

課題を解決するだめの手段 この課題を解決するために本発明はホトレジスト供給装
置のホトレジスト容器内に設けた攪拌子と前記攪拌子の
駆動装置とによりホトレジストを攪拌するものである。

作用 この構成によって、レジスト容器内の攪拌子が駆動手段
によって運動し、その攪拌子の運動によってホトレジス
トが攪拌されることにより、前記ホトレジスト容器内の
ホトレジストの物理的化学的性質の均一化が図られ、ホ
トレジストをウェハに塗布する場合のホトレジストの組
成、粘度、感光度の変動といった問題を最小限に抑える
ことができる。

実施例 第１図は本発明の一実施例におけるレジスト供給装置の
構成図である。第１図において、１は容ｆｆ１３．７８
１のガロン瓶からなるホトレジスト容器、２はホトレジ
スト、３はホトレジスト供給管、４は不活性ガス注入管
、５はホトレジスト塗布機、６はテフロンでコーティン
グされた長さ７印の棒形の攪拌子、７はマグネティック
スターラである。

以上のように構成された本実施例のレジスト供給装置の
動作を説明する。

まず、マグネティックスターラフによりスターラ捧６は
レジスト容器１内で、毎分６０回から１２０回の速度で
回転する。このとき、攪拌子６の回転の中心がホトレジ
スト容器１の底面の中心に来るようにし、攪拌子６がホ
トレジスト容器１の側面にぶつかって踊らないように設
定する。ホトレジスト２はこの攪拌子６の回転により攪
拌され、ホトレジスト容器１内で物理的、化学的性質が
均一となる。すなわち、ホトレジスト２中での不純物の
偏在や、感光性樹脂や増感剤の偏在、酸化や吸湿による
変質レジストの偏在がなくなる。

一方、不活性ガス注入管４より窒素ガスが圧入され、ホ
トレジスト容器１内部は加圧される。ホトレジスト２は
ホトレジスト塗布機５内のポンプに吸引され、ホトレジ
スト供給管３を通ってホトレジスト塗布機５に供給され
る。ホトレジスト塗布機５に供給されたホトレジスト２
は特性が安定しているため、塗布機の膜厚、感光度が均
一で、露光、現像後のパターン再現性が良く、半導体装
置の安定的量産が実現できる。

なお、上記実施例ではホトレジスト容器１は容量３．７
５１のガロン瓶であったが、密閉性が良く、ホトレジス
トと反応せず、内部で攪拌子６が回転できるものであれ
ば、どのような素材、形状のものでも良く、例えばテフ
ロン製で立方体のものとしても良い。

また、上記実施例で容器内の攪拌に使った攪拌子６はテ
フロンでコーティングした長さ７ａｎの棒形のものであ
ったが、マグネティックスターラフによりホトレジスト
容器１内で回転し、ホトレジスト２を攪拌できるもので
あればどのような素材、形状のものでも良く、例えばフ
ットボール形や円盤形でも良い。

また、攪拌子の駆動手段として用いたマグネティックス
ターラフも上部にホトレジスト容器１を載置し、ホトレ
ジスト容器１内の攪拌子を回転させ、ホトレジスト２を
攪拌できるものであればどのような構造、能力のもので
も良い。

また、ホトレジスト以外のレジスト材料、例えば電子線
レジストやＸ線レジストにも本発明は実施することがで
きる。

発明の効果 実施例の説明からも明らかなように本発明によればレジ
スト容器内の攪拌子と前記攪拌子の駆動手段を有するこ
とを特徴とし、レジスト容器内のレジストを攪拌するこ
とで、レジスト塗布機に供給するレジストの物理的、化
学的性質を均一にすることができるホトレジスト供給装
置を実現でき、半導体装置を安定に歩留りよく生産でき
るという効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例によるホトレジスト供給装置
の構成図、第２図は従来のレジスト供給装置の構成図で
ある。 １・・・・・・ホトレジスト容器、２・・・・・・ホト
レジスト、３・・・・・・ホトレジスト供給管、５・・
・・・・ホトレジスト塗布機、６・・・・・・攪拌子、
７・・・・・・マグネテイツクスターラ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ホトレジスト容器と、前記ホトレジスト容器内に設置し
   た攪拌子と、前記撹拌子の駆動手段とを備えたホトレジ
   スト供給装置。