JPH03203014A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜型磁
気記録媒体の耐腐食性に関する。

従来の技術 近年、磁気記録分野においては、機器の高画質化１小型
化、長時間化などの高性能化を進めるため、高密度磁気
記録媒体が要望されている。

この要望に応えるため、強磁性金属を用いた薄膜型磁気
記録媒体の研究、開発が盛んに行なわれている。

しかしながら、強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体は、ピ
ンホールやクラック等の欠陥が多く、高温、高湿下に長
期保存すると、この欠陥を通じて、水分が内部に浸透し
、ベースフィルム表面と磁性層との間ですき間腐食が発
生し、その結果磁気ヘッドとの摺動において磁性層の剥
離が起こり、ドロップアウトの発生原因になったり、ま
た、著しい場合は、ヘッド表面に腐食生成物が付着し、
出力低下による画質劣化を伴う。いわゆる、磁気記録媒
体としては致命的な問題である目づまり現象の原因とな
る。

そこで、薄膜磁性層からなる磁気記録媒体においては耐
食性を向上すべく、種々の表面処理保護膜を形成する試
みがなされている。その方法としては、真空蒸着やスパ
ッタまたはそれらの類似の方法でＡｌ２Ｏ３，ＳｉＯ２
，ＣｒＯ２，ＢＮ２．ＴｉＮ等の酸化物や窒化物の層を
、単独に保護膜として形成させたもの、あるいは、潤滑
剤との組合わせてなるものがある。また、プラズマや湿
式法により防錆効果の強い有機物系の保護膜を表面に形
成する方法などがある（特開昭６１−２２４１８同６１
−２２０１１６．同６０−５７５３６．同５８−１８９
８３３等）。

発明が解決しようとする課題 しかしながら、これらの方法は保護膜が磁性層の上に形
成されるため、保護効果を重視すると膜が厚くなって磁
気ヘッドとの間隔が広がり、スペース損失の増大を来た
す。また、薄い保護膜では、膜の欠陥が多く、磁性膜の
耐食性向上の効果は少ない。

本発明は、上記課題を解決するもので、耐食性に優れ、
きわめて高い長期保存信頼性を持つ磁気記録媒体を提供
するものである。

課題を解決するための手段 上記した問題点を解決するために、本発明の磁気記録媒
体は、ベースフィルムと薄膜磁性層との間に耐酸化性の
金属またはそれらの酸化物、窒化物からなる中間層を設
けたものである。

作用 薄膜磁性層の腐食過程を分析した結果、多くの場合、腐
食はベースフィルムと薄膜磁性層の界面より始まり、そ
れは２つの主原因によることが判明した。

第１は、膜の下層部分は、成長初期のもので欠陥の多い
こと。第２は、ベースフィルム表面の汚損の影響である
。したがってベースフィルムと薄膜磁性層の間の耐食性
のよい保護層は磁性層の腐食を保護する。

以下に本発明の詳細な説明する。

図は、本発明の磁気記録媒体の基本構成を示す断面図で
ある。図示のようにベースフィルム１の上には、信号を
保持する薄膜磁性層２の耐食性を向上させるための耐酸
化性保護膜３を設けている。薄膜磁性層２の上には、磁
気ヘッドとの躍動１媒体自身の走行性を安定させる潤滑
剤層４が塗布され、ベースフィルム１の反対面には媒体
の安定走行のためのバックコート５が設はラレ、全体と
して多層構成の磁気記録媒体を形成する。

本実施例に使用されるベースフィルムは、一般にポリエ
チレンテレフタレートがよく用いられるが、セルロース
誘導体や、ポリアミド、ポリイミドなどのプラスチック
フィルムであってもよい。

薄膜磁性層としては、電子ビーム蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンブレーティング法などで形成した鉄・コバ
ルト・ニッケルまたは、それらを主成分とする合金ある
いは、部分酸化物１部分窒化物などを用いることができ
る。

耐酸化性金属としては、Ａｕ、Ｐｔあるいは、Ｔｉ、Ｎ
ｂ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ｂ、Ａｌ。

Ｓｉまたは、これらの酸化物、窒化物を、電子ビーム蒸
着、スパッタリング法、イオンブレーティング法で形成
し、中間層として設けることができる。

（実施例１） 厚み１０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを
ベースフィルムとして用い、この表面に、電子ビーム法
でＡｕを１０００人の厚みで蒸着し、さらにその上に、
薄膜磁性層としてＣｏ−Ｎｉ−０膜を、厚み１５００人
として形成させた。

薄膜磁性層表面には、フッ素系カルボン酸からなる潤滑
層、反対面にバックコート層を形成した後、８Ｍ幅に裁
断した磁気テープを作製した。

（実施例２） 実施例１で用いたベースフィルム表面上に、電子ビーム
法でＰｔを厚み１０００人として形成させた以外、実施
例１と同様の条件で磁気テープを作製した。

（実施例３） 実施例１で用いたベースフィルム表面上に、イオンブレ
ーティング法でＴｉを厚み５００人として形成させた以
外、実施例１と同様の条件で磁気テープを作製した。

（実施例４） 実施例１で用いたベースフィルム表面上に真空蒸着法で
Ａｌを厚み５００人として形成させた以外、実施例１と
同様の条件で磁気テープを作製した。

（実施例５） 実施例１で用いたベースフィルム表面上にスバッタリン
グ法で５ｉ０２を厚み１００ＯＡとして形成させた以外
、実施例１と同様の条件で磁気テープを作製した。

実施例（１〜５）と比較するための比較例１および２を
下記の通り作成した。

（比較例１） 耐酸化性保護膜の外は、実施例１と同様な他の条件下で
磁気テープを作製した。

（比較例２） 薄膜磁性層の上に直接イオンブレーティング法によりＴ
ｉを厚み２００人として形成し、その他の条件は比較例
１と同様な条件で磁気テープを作製した。

以上より得られた磁気テープを市販の３　ｒｅｒａ　Ｖ
　Ｔ　Ｒと同等の機能を有するＶＴＲ試験機にて記録再
生し、ドロップアウトを測定した。その後、これらのテ
ープを６０℃、９０％Ｒ，Ｈ，の環境下に保存し、一定
期間後に取り出し、再び同−ＶＴＲ試験機にて、記録再
生し、初期のドロップアウトとの比較値を表に示す。

表かられかるように、本発明の各実施例で得られた磁気
テープは、比較例１．２の磁気テープと比較して、過酷
な高温、高湿下に保存してもドロップアウトの増加は少
なく、また、目づまりもない高品質の画像を得ることが
でき、高い保存信頼性を示している。なお、実施例１，
２および５については、対酸化性保護膜の厚みを１／２
にしたものについても同条件の実験を行ない、はぼ同様
の結果が得られた。

したがって、対酸化性保護膜の厚みは、５００Å以上が
適当である。

発明の効果 上記実施例、比較例から明らかなように、本発明の磁気
記録媒体は、薄膜磁性層の下層部分から発生する腐食が
耐酸化性保護膜で抑制されるため、高温高湿下の保存に
おいても、記録信号の欠落がなく、実用信頼性の高いも
のである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明における磁気テープの一実施例の断面図
である。 １・・・・・・ベースフィルム、２・・・・・・薄膜磁
性１ｔ、３・・・・・・耐酸化性保護膜、４・・・・・
・潤滑層、５・・・・・・バックコート層。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ベースフィルム上に、薄膜磁性層が形成される磁気記録
   媒体において、前記ベースフィルムと前記薄膜磁性層と
   の間に耐酸化性金属またはその酸化物または窒化物から
   なる中間層を設けた磁気記録媒体。