JPH11126320A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH11126320A JPH11126320A JP9286463A JP28646397A JPH11126320A JP H11126320 A JPH11126320 A JP H11126320A JP 9286463 A JP9286463 A JP 9286463A JP 28646397 A JP28646397 A JP 28646397A JP H11126320 A JPH11126320 A JP H11126320A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高温湿度雰囲気での走行において、信号低下
が小さく安定した記録再生を実現し、信号品質および走
行性の向上を図ること。 【解決手段】 熱物性では１００℃での熱収縮率が１％
以下でかつそのＭＤ／ＴＤ比が１．１５〜２．１５の基
板を用いる。また突起物では高さ２５〜３０ｎｍで１μ
ｍ2あたり４個以上、φ１〜３μｍ径の粗大突起物は１
ｃｍ2あたり５個以内でこれらを形成するバインダー厚
みが１０〜１５ｎｍの範囲にある基板を備えた磁気記録
媒体を適用することにより、６０℃での熱収縮率が従来
よりも２倍小さな熱変形の小さな媒体が得られるととも
に、エラーレートの少ない、走行の安定した記録再生特
性の安定した記録媒体が提供できる。
が小さく安定した記録再生を実現し、信号品質および走
行性の向上を図ること。 【解決手段】 熱物性では１００℃での熱収縮率が１％
以下でかつそのＭＤ／ＴＤ比が１．１５〜２．１５の基
板を用いる。また突起物では高さ２５〜３０ｎｍで１μ
ｍ2あたり４個以上、φ１〜３μｍ径の粗大突起物は１
ｃｍ2あたり５個以内でこれらを形成するバインダー厚
みが１０〜１５ｎｍの範囲にある基板を備えた磁気記録
媒体を適用することにより、６０℃での熱収縮率が従来
よりも２倍小さな熱変形の小さな媒体が得られるととも
に、エラーレートの少ない、走行の安定した記録再生特
性の安定した記録媒体が提供できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、情報産業等に用い
られる磁気記録媒体およびその製造方法に関するもので
ある。
られる磁気記録媒体およびその製造方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来磁気記録媒体の開発では、バインダ
ーにγ−酸化鉄または、Ｃｏ被着−酸化鉄粒子を混合し
た塗布型磁気記録媒体が行われてきた。
ーにγ−酸化鉄または、Ｃｏ被着−酸化鉄粒子を混合し
た塗布型磁気記録媒体が行われてきた。
【０００３】一方、記録密度のより高密度化、映像の高
品質化を目的とした媒体として、非磁性基板上に金属磁
気記録層を直接メッキ法、スパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法等によって形成する金属薄
膜型記録媒体の開発が行われてきており、デジタル映像
機器への記録媒体として現在すでに市販されるに至って
いる。
品質化を目的とした媒体として、非磁性基板上に金属磁
気記録層を直接メッキ法、スパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法等によって形成する金属薄
膜型記録媒体の開発が行われてきており、デジタル映像
機器への記録媒体として現在すでに市販されるに至って
いる。
【０００４】ところが用途、環境保存における温度変化
に対して、媒体は熱変形により磁気ヘッドがトラックか
らずれ信号の低下が発生してブロックノイズが生じると
いう問題点があった。このことによって媒体は映像の低
品質化やあるいは環境試験等でのくりかえし走行中、変
形にともなう損傷によって走行耐久性が劣化するなどの
課題が生じることがあった。このため従来上記課題を克
服するために、特開平6-200875号公報（記録媒体を加熱
する）、特開平9-164641号公報（基板の熱物性改良）、
特開平9-164644号公報（基板の表面突起物改良）に記載
された内容で多くの改良提案がなされてきたがいまだ不
十分な特性しか実現できていないのが現状だった。
に対して、媒体は熱変形により磁気ヘッドがトラックか
らずれ信号の低下が発生してブロックノイズが生じると
いう問題点があった。このことによって媒体は映像の低
品質化やあるいは環境試験等でのくりかえし走行中、変
形にともなう損傷によって走行耐久性が劣化するなどの
課題が生じることがあった。このため従来上記課題を克
服するために、特開平6-200875号公報（記録媒体を加熱
する）、特開平9-164641号公報（基板の熱物性改良）、
特開平9-164644号公報（基板の表面突起物改良）に記載
された内容で多くの改良提案がなされてきたがいまだ不
十分な特性しか実現できていないのが現状だった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は高温度雰囲気
下で走行させるまたは保存する時に、従来の媒体では熱
変形が大であったため、信号の低下や走行による損傷が
大きく長期使用に耐えられなかった。また表面性の不良
状態のため記録再生特性が悪く信号欠陥やエラーレート
がよくなく信号品質に支障を来していた。そしてバイン
ダー形成も影響があって、記録層形成プロセスの際に表
面変質が生じ欠陥の増加が発生するという課題もあっ
た。
下で走行させるまたは保存する時に、従来の媒体では熱
変形が大であったため、信号の低下や走行による損傷が
大きく長期使用に耐えられなかった。また表面性の不良
状態のため記録再生特性が悪く信号欠陥やエラーレート
がよくなく信号品質に支障を来していた。そしてバイン
ダー形成も影響があって、記録層形成プロセスの際に表
面変質が生じ欠陥の増加が発生するという課題もあっ
た。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題を克
服するために、媒体に用いる基板の熱物性および表面性
の改良を行うことで解決した。
服するために、媒体に用いる基板の熱物性および表面性
の改良を行うことで解決した。
【０００７】すなわち熱物性であれば、１００℃での熱
収縮率が０．１％以下のものでかつＭＤ／ＴＤ比が１以
上のもの、好ましくは１．１５〜２．１５のものを用い
る。
収縮率が０．１％以下のものでかつＭＤ／ＴＤ比が１以
上のもの、好ましくは１．１５〜２．１５のものを用い
る。
【０００８】そして表面性であれば、微小突起物の高さ
が２５〜３０ｎｍの突起が１μｍ2中４個以上存在し、
かつφ１〜３μｍの粗大突起物が１ｃｍ2中５個以内の
状態にある平滑状態である基板を用いる。そしてこの表
面性を形成するバインダー厚みが１５〜２０ｎｍの厚み
で形成されていると記録層形成の際の表面変質が抑制さ
れて安定した製造が可能となる。
が２５〜３０ｎｍの突起が１μｍ2中４個以上存在し、
かつφ１〜３μｍの粗大突起物が１ｃｍ2中５個以内の
状態にある平滑状態である基板を用いる。そしてこの表
面性を形成するバインダー厚みが１５〜２０ｎｍの厚み
で形成されていると記録層形成の際の表面変質が抑制さ
れて安定した製造が可能となる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態について
図を用いて説明する。
図を用いて説明する。
【００１０】図１は本発明の磁気記録媒体の構成図であ
る。図１において１は非磁性基板、２は記録層である金
属薄膜型磁気記録媒体である。３はプラズマＣＶＤカー
ボン層、４は潤滑層、５はバックコート層である。そし
て図１の構成の中で２、３、４、５は直接本発明に関連
しないため概略のみの説明とする。ここでは本発明の主
題である非磁性基板について詳述する。非磁性基板１は
ポリアミド、ポリイミド、ポリエチレン、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチ
レンナフタレート、塩化ビニルの高分子フィルムがあ
る。この基板は磁気記録媒体の構成に占める厚みが最大
であることから、ほとんどの特性を支配すると言っても
過言でない。熱物性面では、基板は作成段階やテープ化
の試験での環境試験で熱雰囲気に暴露されることが多く
これらの使用を満足させなければならない。
る。図１において１は非磁性基板、２は記録層である金
属薄膜型磁気記録媒体である。３はプラズマＣＶＤカー
ボン層、４は潤滑層、５はバックコート層である。そし
て図１の構成の中で２、３、４、５は直接本発明に関連
しないため概略のみの説明とする。ここでは本発明の主
題である非磁性基板について詳述する。非磁性基板１は
ポリアミド、ポリイミド、ポリエチレン、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチ
レンナフタレート、塩化ビニルの高分子フィルムがあ
る。この基板は磁気記録媒体の構成に占める厚みが最大
であることから、ほとんどの特性を支配すると言っても
過言でない。熱物性面では、基板は作成段階やテープ化
の試験での環境試験で熱雰囲気に暴露されることが多く
これらの使用を満足させなければならない。
【００１１】一方表面性では記録層作製段階での高輻射
熱に暴露されたり、突起物の高さが適切でないと記録層
薄膜の形成が十分なされず信号品質を低下させる。
熱に暴露されたり、突起物の高さが適切でないと記録層
薄膜の形成が十分なされず信号品質を低下させる。
【００１２】したがって、熱物性であれば可能な限り変
形しにくい状態を得たいのだがフィルムとしての可とう
性も必要であるため目的とするものを得ることはなかな
か容易でない。ここでは１００℃での収縮率で０．１％
以下でＭＤ／ＴＤ比が１．１５〜２．１５のものがテー
プになった時に従来よりもすぐれた特性を発揮すること
を見いだした。
形しにくい状態を得たいのだがフィルムとしての可とう
性も必要であるため目的とするものを得ることはなかな
か容易でない。ここでは１００℃での収縮率で０．１％
以下でＭＤ／ＴＤ比が１．１５〜２．１５のものがテー
プになった時に従来よりもすぐれた特性を発揮すること
を見いだした。
【００１３】また表面性も２５〜３０ｎｍくらいの微小
突起の高さと１μｍ2中４個以上の存在頻度、φ１〜３
μｍの粗大突起物が１ｃｍ2中５個以内の状態にあれ
ば、よい表面性が得られ、またこれらを形成するバイン
ダー厚みも記録層形成の際に生じやすい輻射熱と張力に
よる変質が影響することがわかったため、１５〜２０ｎ
ｍの厚みが適切であることが実証によって確かめること
ができた。
突起の高さと１μｍ2中４個以上の存在頻度、φ１〜３
μｍの粗大突起物が１ｃｍ2中５個以内の状態にあれ
ば、よい表面性が得られ、またこれらを形成するバイン
ダー厚みも記録層形成の際に生じやすい輻射熱と張力に
よる変質が影響することがわかったため、１５〜２０ｎ
ｍの厚みが適切であることが実証によって確かめること
ができた。
【００１４】これらの因子は個別に取り扱うと想定は容
易であるが、基板上の表面処理層の段階で一度に達成す
ることは、これらの因子が相互に関連しているので見い
だすのは非常に困難である。
易であるが、基板上の表面処理層の段階で一度に達成す
ることは、これらの因子が相互に関連しているので見い
だすのは非常に困難である。
【００１５】そしてこの表面処理層を形成バインダー６
（図１中、６）は、厚みが記録層作製プロセスとマッチ
していることが必要である。厚みが薄すぎると、突起物
の形成状態や制御のみならず、使用して表面変質が発生
し記録層の欠陥が増加する。一方厚すぎると逆に突起物
の確保や走行性に不良をきたしよくない。したがって、
２５〜３０ｎｍがもっとも適正である。
（図１中、６）は、厚みが記録層作製プロセスとマッチ
していることが必要である。厚みが薄すぎると、突起物
の形成状態や制御のみならず、使用して表面変質が発生
し記録層の欠陥が増加する。一方厚すぎると逆に突起物
の確保や走行性に不良をきたしよくない。したがって、
２５〜３０ｎｍがもっとも適正である。
【００１６】図１において金属薄膜型磁気記録層２は、
Fe、Co、Niから選ばれる少なくとも１種以上を含む強磁性
金属、またはこれらとMn、Cr、Ti、P、Y、Sm、Bi等またはこれ
らの酸化物を組み合わせた合金があり、とりわけCo、Cr、
Niから選ばれる少なくとも１種以上の元素を含み、これ
らの元素を真空蒸着、スパッタ等によって厚み〜０．２
μｍ以下程度で形成される。そしてこの厚みの均一性は
熱物性にも作用する。テープは作製後種々の環境試験室
での試験履歴をたどる。この時厚みの均一性が一定の範
囲内に制御されていないと、熱物性に反映する。薄けれ
ば収縮するし、厚ければ収縮しがたく得たい特性が得ら
れなくなる。したがって厚みの範囲を本発明に述べるよ
うに５％以内に制御して製造することが重要なファクタ
ーとなる。
Fe、Co、Niから選ばれる少なくとも１種以上を含む強磁性
金属、またはこれらとMn、Cr、Ti、P、Y、Sm、Bi等またはこれ
らの酸化物を組み合わせた合金があり、とりわけCo、Cr、
Niから選ばれる少なくとも１種以上の元素を含み、これ
らの元素を真空蒸着、スパッタ等によって厚み〜０．２
μｍ以下程度で形成される。そしてこの厚みの均一性は
熱物性にも作用する。テープは作製後種々の環境試験室
での試験履歴をたどる。この時厚みの均一性が一定の範
囲内に制御されていないと、熱物性に反映する。薄けれ
ば収縮するし、厚ければ収縮しがたく得たい特性が得ら
れなくなる。したがって厚みの範囲を本発明に述べるよ
うに５％以内に制御して製造することが重要なファクタ
ーとなる。
【００１７】以上のように本発明で述べた基板を用いた
時や記録層の均一性が確保されて作製される磁気記録媒
体は、高温度環境雰囲気下でも熱変形が小さくかつ信号
品質もよい走行性の確保された耐摩耗性・走行性にすぐ
れる特性が達成される。
時や記録層の均一性が確保されて作製される磁気記録媒
体は、高温度環境雰囲気下でも熱変形が小さくかつ信号
品質もよい走行性の確保された耐摩耗性・走行性にすぐ
れる特性が達成される。
【００１８】
【実施例】次に実施例により本発明をさらに詳細に説明
する。
する。
【００１９】（実施例１）基板に厚み６．２μｍ、幅５
００ｍｍのＰＥＴフィルム（基板１）と厚み４．８μ
ｍ、幅５００ｍｍのＰＥＮフィルム（基板２）とを使用
し、これに酸素グロー状態でＣｏを１層積層した金属薄
膜型磁性層を厚み０．１６μｍで構成し、さらに樹脂の
バックコートを施した。そしてプラズマＣＶＤ成膜法に
よるカーボン保護層を備え、パーフロロオクチルカルボ
ン酸を１０００ｐｐｍ溶解させたイソプロピルアルコー
ルで塗布して潤滑層を備え磁気記録媒体を得た。
００ｍｍのＰＥＴフィルム（基板１）と厚み４．８μ
ｍ、幅５００ｍｍのＰＥＮフィルム（基板２）とを使用
し、これに酸素グロー状態でＣｏを１層積層した金属薄
膜型磁性層を厚み０．１６μｍで構成し、さらに樹脂の
バックコートを施した。そしてプラズマＣＶＤ成膜法に
よるカーボン保護層を備え、パーフロロオクチルカルボ
ン酸を１０００ｐｐｍ溶解させたイソプロピルアルコー
ルで塗布して潤滑層を備え磁気記録媒体を得た。
【００２０】この時用いた基板フィルムの熱収縮率は、
図２に示すように１００℃で１％以下の収縮率でこれら
のＭＤ／ＴＤ比は基板１で２、基板２で１．７であっ
た。そしてこれらのテープ化後の試料を採取し試料Ｎ
ｏ．１と試料Ｎｏ．２とした。
図２に示すように１００℃で１％以下の収縮率でこれら
のＭＤ／ＴＤ比は基板１で２、基板２で１．７であっ
た。そしてこれらのテープ化後の試料を採取し試料Ｎ
ｏ．１と試料Ｎｏ．２とした。
【００２１】そしてこれらの収縮率をＴＭＡ試験機（熱
機械試験機）で調べた。方法は一定試料の長さ（幅１／
４インチ、長さ１０ｍｍ）を採取して試験機にセット
し、初期温度まで昇温させた後、一定の時間保持して自
然冷却後の収縮量を元の長さからどのくらい収縮してい
るのかを率で表示した。するとこの方法は６０〜１００
℃の範囲で対数の直線性が得られ、温度関数を示すこと
がわかったので、リニア試験で求める温度６０℃での比
較も妥当であることがわかった。
機械試験機）で調べた。方法は一定試料の長さ（幅１／
４インチ、長さ１０ｍｍ）を採取して試験機にセット
し、初期温度まで昇温させた後、一定の時間保持して自
然冷却後の収縮量を元の長さからどのくらい収縮してい
るのかを率で表示した。するとこの方法は６０〜１００
℃の範囲で対数の直線性が得られ、温度関数を示すこと
がわかったので、リニア試験で求める温度６０℃での比
較も妥当であることがわかった。
【００２２】そして比較試料として収縮率が１％以上、
ＭＤ／ＴＤ比が１のＰＥＴフィルムを用いて比較テープ
を作製した。
ＭＤ／ＴＤ比が１のＰＥＴフィルムを用いて比較テープ
を作製した。
【００２３】すると、本発明の試料はＮｏ．１、２とも
基板よりも約１／１０の小さな収縮率に抑制され、さら
にそのＭＤ／ＴＤ比も１近くの等方変形に近づくなど記
録再生時に必要となるトラックずれを小さくできる変形
状態に仕上がることがわかった。
基板よりも約１／１０の小さな収縮率に抑制され、さら
にそのＭＤ／ＴＤ比も１近くの等方変形に近づくなど記
録再生時に必要となるトラックずれを小さくできる変形
状態に仕上がることがわかった。
【００２４】これに対し、比較試料のテープでは、収縮
率も大きくその方位もＭＤ＞＞ＴＤで長さ方向に大きく
収縮するという性質のテープしかできなかった。
率も大きくその方位もＭＤ＞＞ＴＤで長さ方向に大きく
収縮するという性質のテープしかできなかった。
【００２５】このことから、本発明で作製した試料Ｎ
ｏ．１、２のテープはリニア試験である６０℃で２０Ｈ
ｒの放置後の収縮に依存するトラックずれを大きく改善
できる状態にあることがわかった。
ｏ．１、２のテープはリニア試験である６０℃で２０Ｈ
ｒの放置後の収縮に依存するトラックずれを大きく改善
できる状態にあることがわかった。
【００２６】以上のことから本発明で述べたように熱収
縮率の値が１％以下、ＭＤ／ＴＤ比が１以上の基板を用
いると、従来より１０倍以上の熱変形が小さいテープが
得られ、リニア特性を満足させる媒体として期待できる
ことがわかった。
縮率の値が１％以下、ＭＤ／ＴＤ比が１以上の基板を用
いると、従来より１０倍以上の熱変形が小さいテープが
得られ、リニア特性を満足させる媒体として期待できる
ことがわかった。
【００２７】（実施例２）非磁性基板に４．８μｍ厚み
のＰＥＮフィルムを用いた。これ以外の構成は実施例１
と同様である。そしてこれの収縮率を（表１）に示すよ
うな基板を用いテープ化した（試料Ｎｏ．３〜６）。そ
してこれらを１／４インチにスリットし、６０分テープ
にインカセした後、６０℃で２０Ｈｒ放置してデッキ走
行させリニア特性の値と画像の観察をした。結果を（表
１）に示す。
のＰＥＮフィルムを用いた。これ以外の構成は実施例１
と同様である。そしてこれの収縮率を（表１）に示すよ
うな基板を用いテープ化した（試料Ｎｏ．３〜６）。そ
してこれらを１／４インチにスリットし、６０分テープ
にインカセした後、６０℃で２０Ｈｒ放置してデッキ走
行させリニア特性の値と画像の観察をした。結果を（表
１）に示す。
【００２８】
【表１】
【００２９】するとこれらは１００℃で調べた収縮率が
１％以内でしかもＭＤ／ＴＤ比が１．１５〜２．１５の
範囲にある基板を用いて始めてリニア値が３μｍのトラ
ックずれで達成されこの時の画像も走行中まったく変化
がないかまたはせいぜい６０分中最大２回程度の画面揺
らぎがある程度であった。
１％以内でしかもＭＤ／ＴＤ比が１．１５〜２．１５の
範囲にある基板を用いて始めてリニア値が３μｍのトラ
ックずれで達成されこの時の画像も走行中まったく変化
がないかまたはせいぜい６０分中最大２回程度の画面揺
らぎがある程度であった。
【００３０】このことから、基板を改良した状態で磁気
記録媒体を作製するとリニアを達成でき映像品質にすぐ
れたくりかえし走行耐久性もよい磁気記録媒体が得られ
る。
記録媒体を作製するとリニアを達成でき映像品質にすぐ
れたくりかえし走行耐久性もよい磁気記録媒体が得られ
る。
【００３１】またこの時、昇温モードのみでのＴＭＡ曲
線を実験で求めると図３に示すように室温から１５０℃
までの変形率は膨張から収縮へと変化する反転温度点の
変形長さより最大膨張変形比率（％）が求められ、図３
よりこれらはいずれも０．２％以上であった。
線を実験で求めると図３に示すように室温から１５０℃
までの変形率は膨張から収縮へと変化する反転温度点の
変形長さより最大膨張変形比率（％）が求められ、図３
よりこれらはいずれも０．２％以上であった。
【００３２】したがって最大膨張変形比率が０．２％以
上の磁気記録媒体であれば、熱変形に対する効果が十分
ある媒体が実現されることがわかる。
上の磁気記録媒体であれば、熱変形に対する効果が十分
ある媒体が実現されることがわかる。
【００３３】（実施例３）実施例１と同様に厚み６．２
μｍのＰＥＴフィルムを（表２）に示すような試料（Ｎ
ｏ．７〜１０）を用いてテープ化した。この時、比較試
料も作製し評価した。なおバインダー厚みは図４の６に
示す処理層である。
μｍのＰＥＴフィルムを（表２）に示すような試料（Ｎ
ｏ．７〜１０）を用いてテープ化した。この時、比較試
料も作製し評価した。なおバインダー厚みは図４の６に
示す処理層である。
【００３４】評価は（表３）に示すように記録層のプロ
セス終了後にボビンに残存した基板から採取した試料を
用いてアルミニウムを真空装置内で蒸着し、記録層を形
成した試料と突起物の個数と、ＢＥＲ、再生信号の出力
低下、エンベロープの観察を調べた。この時比較試料も
作製し、（表２）、（表３）に示した。
セス終了後にボビンに残存した基板から採取した試料を
用いてアルミニウムを真空装置内で蒸着し、記録層を形
成した試料と突起物の個数と、ＢＥＲ、再生信号の出力
低下、エンベロープの観察を調べた。この時比較試料も
作製し、（表２）、（表３）に示した。
【００３５】
【表２】
【００３６】
【表３】
【００３７】すると、本発明で作製した試料Ｎｏ．７〜
１０は基板の入手段階から微小突起物の高さと頻度、粗
大突起物の個数、バインダー厚みの適正化によってよう
やくＢＥＲや低下の小さい状態が得られ、比較のテープ
よりも数段信号品質のよい状態が発揮できることがわか
った。
１０は基板の入手段階から微小突起物の高さと頻度、粗
大突起物の個数、バインダー厚みの適正化によってよう
やくＢＥＲや低下の小さい状態が得られ、比較のテープ
よりも数段信号品質のよい状態が発揮できることがわか
った。
【００３８】したがって、本発明に述べるように表面性
を有する基板を用いると安定した記録再生特性を示す磁
気記録媒体が具現化できることがわかった。
を有する基板を用いると安定した記録再生特性を示す磁
気記録媒体が具現化できることがわかった。
【００３９】（実施例４）熱物性、表面性の点で前記本
発明の特性をすでに有するフィルムで厚み４．６μｍの
ＰＥＮフィルムを用い、記録層の厚みが変化した時と均
一な試料を比較した。この時、比較試料も作製し評価し
た。方向はＭＤでのみ調べた。
発明の特性をすでに有するフィルムで厚み４．６μｍの
ＰＥＮフィルムを用い、記録層の厚みが変化した時と均
一な試料を比較した。この時、比較試料も作製し評価し
た。方向はＭＤでのみ調べた。
【００４０】厚みは分光光度計（島津製ＵＶ７００）で
波長９００ｎｍで吸光度を求めて均一性を調べた。そし
て反転温度の値から熱特性の相関をみた。幅方向で５点
採取し図５に示すスリット番号で比較した。
波長９００ｎｍで吸光度を求めて均一性を調べた。そし
て反転温度の値から熱特性の相関をみた。幅方向で５点
採取し図５に示すスリット番号で比較した。
【００４１】すると図５より厚みと熱物性は相関関係に
あり、本発明に示すような吸光度が１．５〜１．７では
反転温度がほぼ１２０℃に抑制されていることが得られ
ている。一方厚みが吸光度で１．２５〜１．８５の不均
一状態では１０５〜１２０℃と大きくばらつき、厚み誤
差で吸光度プラスマイナス０．１の範囲にあれば反転温
度の範囲もプラスマイナス５℃の範囲に抑制されること
がわかった。
あり、本発明に示すような吸光度が１．５〜１．７では
反転温度がほぼ１２０℃に抑制されていることが得られ
ている。一方厚みが吸光度で１．２５〜１．８５の不均
一状態では１０５〜１２０℃と大きくばらつき、厚み誤
差で吸光度プラスマイナス０．１の範囲にあれば反転温
度の範囲もプラスマイナス５℃の範囲に抑制されること
がわかった。
【００４２】このことから吸光度で１．５〜１．７でか
つその厚み範囲がプラスマイナス０．１の範囲で記録層
の製造がなされて始めて熱物性の安定した記録媒体が得
られることがわかる。
つその厚み範囲がプラスマイナス０．１の範囲で記録層
の製造がなされて始めて熱物性の安定した記録媒体が得
られることがわかる。
【００４３】したがって、本発明に述べるように、記録
層の均一状態の製造がなされて始めて安定した記録再生
特性を示す磁気記録媒体が提供できる。
層の均一状態の製造がなされて始めて安定した記録再生
特性を示す磁気記録媒体が提供できる。
【００４４】
【発明の効果】以上の様に、本発明における磁気記録媒
体およびその製造方法で実現されると、下記に示す効果
を提案しているとともに、走行耐久性、高Ｃ／Ｎ特性を
提供できる。 １）６０℃の熱収縮率が従来より２倍以下になりかつそ
の変形方位が等方的になる磁気記録媒体を提供できる。 ２）記録層形成の際の欠陥個数の変質のない、エラーレ
ートの小さな信号品質の良い、走行くりかえし回数の安
定した特性の磁気記録媒体が実現される。
体およびその製造方法で実現されると、下記に示す効果
を提案しているとともに、走行耐久性、高Ｃ／Ｎ特性を
提供できる。 １）６０℃の熱収縮率が従来より２倍以下になりかつそ
の変形方位が等方的になる磁気記録媒体を提供できる。 ２）記録層形成の際の欠陥個数の変質のない、エラーレ
ートの小さな信号品質の良い、走行くりかえし回数の安
定した特性の磁気記録媒体が実現される。
【図１】本発明の磁気記録媒体の構成の一例を示す図
【図２】実施例１の磁気記録媒体と比較媒体の熱収縮率
と温度を示す図
と温度を示す図
【図３】熱機械試験機（ＴＭＡ）での最大膨張変形比率
を示す図
を示す図
【図４】基板表面のバインダー厚みの処理層を示す図
【図５】記録層厚みと熱特性の相関関係を示す図
１ 非磁性基板 ２ 磁気記録層 ３ プラズマＣＶＤカーボン層 ４ 潤滑層 ５ バックコート層 ６ 基板表面のバインダー処理層
Claims (6)
- 【請求項１】非磁性基板上に磁気記録層を備えた磁気記
録媒体において、１００℃での熱収縮率が１％以下で、
かつそのＭＤ／ＴＤ比が１よりも大きい非磁性基板を備
えることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】前記非磁性基板の熱収縮率のＭＤ／ＴＤ比
が１．１５〜２．１５であることを特徴とする請求項１
に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】前記非磁性基板の昇温過程における最大熱
膨張変形率が０．２％より大きいことを特徴とする請求
項１に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項４】前記記録層が金属薄膜型磁性層であること
を特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項５】非磁性基板の記録層側表面において、微小
突起物が高さ２５〜３０ｎｍでかつ１μｍ2あたり４個
以上有し、φ１〜３μｍ径の粗大突起物が１ｃｍ2あた
り５個以内で、かつこれらを形成するバインダーが厚み
１０〜１５ｎｍの範囲にある処理層を有した非磁性基板
を備えたことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項６】記録層の厚みが波長９００ｎｍの吸光度で
１．５〜１．７の範囲でかつ、長手、幅方向での吸光度
の分布が±０．１になるように記録層を作製することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9286463A JPH11126320A (ja) | 1997-10-20 | 1997-10-20 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9286463A JPH11126320A (ja) | 1997-10-20 | 1997-10-20 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11126320A true JPH11126320A (ja) | 1999-05-11 |
Family
ID=17704726
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9286463A Pending JPH11126320A (ja) | 1997-10-20 | 1997-10-20 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11126320A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6816851B1 (ja) * | 2019-10-10 | 2021-01-20 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
| WO2021070907A1 (ja) * | 2019-10-10 | 2021-04-15 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6050624A (ja) * | 1983-08-27 | 1985-03-20 | Olympus Optical Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH02105323A (ja) * | 1988-10-14 | 1990-04-17 | Konica Corp | 磁気記録媒体 |
| JPH05143965A (ja) * | 1991-11-25 | 1993-06-11 | Konica Corp | 磁気記録媒体 |
| JPH07223288A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-08-22 | Toray Ind Inc | 二軸配向積層フィルム |
| JPH08212535A (ja) * | 1995-11-27 | 1996-08-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録テープ |
| JPH08323854A (ja) * | 1995-03-24 | 1996-12-10 | Toray Ind Inc | ポリエステルフィルムおよびそれを用いた磁気記録媒体 |
| JPH09174678A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-07-08 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体用熱可塑性樹脂フィルム |
-
1997
- 1997-10-20 JP JP9286463A patent/JPH11126320A/ja active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6050624A (ja) * | 1983-08-27 | 1985-03-20 | Olympus Optical Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH02105323A (ja) * | 1988-10-14 | 1990-04-17 | Konica Corp | 磁気記録媒体 |
| JPH05143965A (ja) * | 1991-11-25 | 1993-06-11 | Konica Corp | 磁気記録媒体 |
| JPH07223288A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-08-22 | Toray Ind Inc | 二軸配向積層フィルム |
| JPH08323854A (ja) * | 1995-03-24 | 1996-12-10 | Toray Ind Inc | ポリエステルフィルムおよびそれを用いた磁気記録媒体 |
| JPH08212535A (ja) * | 1995-11-27 | 1996-08-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録テープ |
| JPH09174678A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-07-08 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体用熱可塑性樹脂フィルム |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6816851B1 (ja) * | 2019-10-10 | 2021-01-20 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
| WO2021070907A1 (ja) * | 2019-10-10 | 2021-04-15 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US11581014B2 (en) | 2019-10-10 | 2023-02-14 | Sony Corporation | Magnetic recording medium |
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