JPH03200364A - 光信号の読み取り方法及びこれに使用するスイッチ素子アレイ - Google Patents

光信号の読み取り方法及びこれに使用するスイッチ素子アレイ

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JPH03200364A
JPH03200364A JP2064624A JP6462490A JPH03200364A JP H03200364 A JPH03200364 A JP H03200364A JP 2064624 A JP2064624 A JP 2064624A JP 6462490 A JP6462490 A JP 6462490A JP H03200364 A JPH03200364 A JP H03200364A
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light
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誠治 大野
Yukihisa Kusuda
幸久 楠田
Yasuhisa Kuroda
黒田 靖尚
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光信号を光学的または電気的に読み取る光信
号の読み取り方法及びこれに使用するスイッチ素子アレ
イに関し、特に、光の時系列情報を並列情報に変換する
シリアル・パラレル変換機能、光メモリの機能、遅延機
能等を実現できる光信号の読み取り方法及び光信号(光
情報)の書き込みおよび保持を実現できるスイッチ素子
アレイに関する。
〔従来の゛技術〕
従来、発光素子の代表的なものとして発光ダイオード(
LED)及びレーザダイオード(LD)が知られている
LEDは化合物半導体(GaAs、 GaP 、 Ga
AlAs等)のPN接合またはPIN接合を形成し、こ
れに順方向電圧を加えることにより接合内部にキャリア
を注入し、その再結合の過程で生じる発光現象を利用す
るものである。
またLDはこのLED内部に導波路を設けた構造となっ
ている−0あるしきい電流以上の電流を流すと注入され
る電子−正孔対が増加し反転分布状態となり、誘導放射
による光子の増倍(利得)が発生し、へき開面などを利
用した平行な反射鏡により発生した光が再び活性層に帰
還されてレーザ発振が起こる。そして導波路の端面から
レーザ光が出射されていくものである。
これらLED、LDと同じ発光メカニズムを有する発光
素子として発光機能を有する負性抵抗素子(発光サイリ
スク、レーザサイリスタ等)も知られている。発光サイ
リスタは先に述べたような化合物半導体でP N P、
N構造を作るものであり、シリコンではサイリスタとし
て実用化されている。
これらについては、例えば青木昌治編著「発光ダイオー
ド」工業調査会、167〜169頁に記載されている。
この発光機能を有する負性抵抗素子(ここでは発光サイ
リスクと呼ぶ)の基本構造はN形GaAs基板上にPN
PN構造を形成したもので、サイリスクと全く同じ構造
である。電流−電圧特性もサイリスクと全く同じS字形
負性抵抗の特性を示す。
この発光サイリスクは、3つの端子を持つため、3端子
サイリスクとも呼ばれている。そして、この発光サイリ
スタのゲートはオン電圧を制御する働きを有し、オン電
圧はゲート電圧に拡散電位を加えた電圧となる。またオ
ンした後、ゲート電圧はカソード電圧とほぼ一致するよ
うになる。カソードが接地されていればゲートはほぼ零
ボルトとなる。また、この発光サイリスクは外部から光
を入射することにより、そのしきい電圧が低下すること
が知られている。
さらに、この発光サイリスクの中に導波路を設けLDと
全く同じ原理でレーザサイリスクを形成することもでき
る。(Appl、Phys、Lett、54(4)、p
329−331  (1989)) これらの様な発光素子、特にLEDは化合物半導体基板
上に多数作成され、切断されて一つづつの発光素子とし
てパッケージングされ販売されている。また密着形イメ
ージセンサ用及びプリンタ用光源としてのLEDは一つ
のチップ上に複数のLEDを並べたLEDアレイとして
販売されている。
以上に述べた発光素子の中で、発光サイリスクは、光を
入力することによってオ・ン状態へのしきい電圧が変化
するという現象を利用されて、発光メモリ素子としての
応用が考えられている。その例として固成出力光電融合
形光機能素子(VSTE P : Vertical 
to 5urface transmission e
lectr。
photonic device)が知られている。こ
れについては、例えば笠原健−著「光演算用機能デバイ
ス」光学 第18巻第7号330〜336頁に記載され
ている。
第22図はPNPN構造゛のサイリスクを用いたpnp
n−VSTEPの断面構造と電流−電圧(1−V)特性
を示す図である。モレキュラ・ビーム・エピタキシ(M
BE)法を用い、半絶縁性のGaAs基板上に順にn−
GaAs、 n−Al6.、Gao、6As、 n−G
aAs (d = Ipm 、 n =101ffcm
−’) 、p−GaAs (d = 5nm、 p =
10190m−’) 、p−八10.4Ga0.6^5
Sp−GaAsの層がそれぞれ形成されている。第22
図におけるPゲート、nゲートは消去時、即ちスイッチ
オフ時にデバイス内部の過剰キャリアを引き出す機能を
有し、スイッチオフを高速化する役目を果たす。
第23図は第22図に示すpnpn−VSTEPを駆動
させるために用いる基本的な信号のタイミングを示すタ
イミング図である。タイミングは光書き込み、記憶保持
、光読み出し、消去の4つのモードから成る。光書き込
み時には、第22図(a)に示すアノードに正のバイア
ス電圧を加えた状態で光信号を入力させる。つまり光書
き込み時には、正のバイアス電圧をしきい電圧V、以下
に設定し、Pゲート及びNゲートに光を入射させて、ア
ノードとカソードとの間をスイッチオンさせる。記憶保
持時ではバイアス電圧を零ボルト近くまで下げ、正のリ
フレッシュパルスを印加する。そして、光読み出し時に
再び正のバイアス電圧を加える。消去時には負のバイア
ス電圧を加える。
以上の説明は1ビツトについてであるが、実際には第2
2図に示す素子が2次元的に配列されて、光並列演算や
ニューラルネットワークに用いられる基本的デバイスに
なる。既に、これらの素子を32X32個集積した10
24ビツトのVSTEPの試作が報告されている。
なお、上記した発光機能を有する負性抵抗素子のアレイ
を順次駆動するために光走査を行なう装置が、例えば特
公昭52−40837号公報等に開示されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来技術のVSTEPは、光信号を書き込まれたビ
ット(情報)がオン状態となり、このオン状態を保持す
るのが基本的機能である。従って、書き込まれた信号を
処理することについて配慮がされておらず、VSTEP
のみでは書き込まれた信号を処理することが不可能であ
った。
本願の発明における光信号の読み取り方法は、書き込ま
れた情報を時間的または空間的に処理すること(つまり
、ある種の演算を行なうこと)を可能ならしめることを
目的とする。
また、本願の発明におけるスイッチ素子アレイは、上記
光信号の読み取り方法を効果的に実施できるスイッチ素
子アレイを提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために、本願の発明における光信号
の読み取り方法は、光によってしきい電圧もしくはしき
い電流を外部から制御可能な複数の発光素子が1次元ま
たは2次元的に配列された発光素子アレイと、前記発光
素子の発光状態を前記発光素子アレイ内の隣接する他の
前記発光素子へ順次転送するためのクロックラインとを
有する発光装置において、(a)、この発光装置の外部
から、前記発光素子アレイの一部の前記発光素子に光信
号を入射させて、その発光素子を発光状態とし、(b)
、前記クロックラインに転送クロックを印加することに
より発光状態を前記発光素子アレイの他の前記発光素子
に転送し、(C)、転送先の前記発光素子の発光状態に
基づいて光信号を光学的または電気的に読み取るように
したものである。
本願の発明における光信号の読み取り方法に適用可能な
前記発光装置は、好ましい実施態様によれば、(d)、
L、きい電圧もしくはしきい電流を外部から制御可能な
複数の前記発光素子が1次元または2次元的に配列され
、互いに近傍に位置する前記発光素子が光学的手段で接
続されるか、または互いに近傍に位置する前記発光素子
のしきい電圧もしくはしきい電流を制御するための制御
電極が互いに電気的手段にて接続されており、かつ各々
の前記発光素子に外部から電圧もしくは電流を印加させ
る前記クロックラインが接続された前記発光素子アレイ
を有するように構成するか、または、(e)、Lきい電
圧もしくはしきい電流を外部から制御可能な複数のスイ
ッチ素子が1次元または2次元的に配列され、互いに近
傍に位置する前記スイッチ素子が光学的手段で接続され
るか、または互いに近傍に位置する前記スイッチ素子の
しきい電圧もしくはしきい電流を制御するための制御電
極が互いに電気的手段にて接続されており、かつ各々の
前記スイッチ素子に外部から電圧もしくは電流を印加さ
せる前記クロックラインが接続されたスイッチ素子アレ
イと、しきい電圧もしくはしきい電流を外部から制御可
能な制御電極を有する複数の前記発光素子が配列され、
各々の前記発光素子に電気的手段を介して電源が接続さ
れた前記発光素子アレイとを有し、この発光素子アレイ
の各々の前記発光素子の前記制御電極と前記スイッチ素
子の前記制御電極とが電気的手段にて接続されるように
構成する。
さらに好ましい実施態様によれば、前記発光素子アレイ
の最後の前記発光素子と最初の前記発光素子とのしきい
電圧もしくはしきい電流を制御するだめの前記制御電極
が互いに電気的手段および/または光学的手段によって
接続されるように構成し、前記発光素子の発光状態が順
次転送された後、再び最後の前記発光素子から最初の前
記発光素子に転送されるように構成する。
なお、後述の実施例において、発光サイリスクは発光素
子であるとともにスイッチ素子である。
ここでは、発光サイリスクの発光機能を使用する必要が
ない場合について、すなわち、シリコン等の非発光サイ
リスクに置換可能である場合について、特にスイッチ素
子と呼ぶことにする。
本願の発明における光信号の読み取り方法は、従来技術
のVSTEPにおける書き込まれた光信号に対する処理
機能がないという問題点を解消するためになされたもの
であって、その主旨は各発光素子を1つの独立した発光
サイリスクとして構成するのではなく、互いに電気的お
よび/または光学的に相互作用が行なわれるように構成
し、発光素子に書き込まれたオン状態を隣接する発光素
子に順次移動させ、オン状態の移動により種々の機能を
発揮せしめるものである。
また、上記目的を達成するために、本願の発明における
スイッチ素子アレイは、(a)、Lきい電圧もしくはし
きい電流を外部から制御可能な複数のスイッチ素子が1
次元または2次元的に配列されており、(b)、各々の
前記スイッチ素子のしきい電圧もしくはしきい電流を制
御するための制御電極が互いに接続されているスイッチ
素子アレイにおいて、(C)、前記スイッチ素子の前記
制御電極間における電気的な結合を外部から制御するた
めの切り替え手段を備える。
なお、本願の発明のスイッチ素子アレイにおいて、好ま
しい実施態様によれば、前記切り替え手段は、前記制御
電極に直接的または間接的に接続されたダイオードを備
え、更に好ましい実施態様によれば、前記スイッチ素子
は発光サイリスタである。
C作用〕 本願の発明における光信号の読み取り方法によれば、発
光素子アレイに入射した光情報が順次に転送されるとい
う基本的な機能を有し、従って光信号のデイレイライン
として働く。また光情報は配列された発光素子の方向に
流れていくので、時系列情報を並列情報に変換するシリ
アル・パラレル変換器としての機能を持つ。これは簡単
には画像の移動器である。さらに、書き込まれた光情報
を一定の期間保持するので光メモリの機能をも有する。
また、本願の発明のスイッチ素子アレイによれば、スイ
ッチ素子の制御電極間における電気的な結合の切り替え
を外部から制御して、光情報の書き込み時にはスイッチ
素子の光感度を高くするという機能を有する。
〔実施例〕
以下、本願の発明の実施例を図面を用いて説明する。
〈実施例1〉 まず、本願の発明における光信号の読み取り方法の第1
の実施例に適用する発光装置の構造および製造工程を説
明する。
第4図は発光装置の平面図、第5図は第4図のY−Y 
’間の断面図をそれぞれ示している。
第4図および第5図に示す様に、接地されたN形半導体
基板(N形GaAs基板)1上にN形半導体層(N形G
aAs層)24、P形半導体層(P形GaAs層)23
、N形半導体層(N形GaAs層)22、P形半導体層
(P形GaAs層)21の各層を順次形成する。そして
、ホトリソグラフィ及びエツチング等により分離溝50
を形成し、これにより単体の発光サイリスクT(−2)
〜T(1)に分離する(単体の発光サイリスタT(−2
)〜T(1)は発光素子アレイの一部を代表する)。
次に、P形GaAs層21の一部を除去し分離溝51を
形成し、発光サイリスタT(−2)〜T(1)と結合用
ダイオードD+−z〜D I +との間の分離を行なう
そして、P形GaAs層21などの上を絶縁膜30で全
体的に被覆し、抵抗63を設け、さらに絶縁膜31で被
覆する。この後に、絶縁膜30および絶縁膜31にコン
タクト孔C1を設ける。そして、金属薄膜配線で電極4
0.41.42および、クロックラインCL、 、CL
tとして機能する電極を形成する。ここで、転送クロッ
クφ4、φ2がそれぞれ供給される上記クロックライン
CL、、CL2はそれぞれ1素子おきに発光サイリスク
に接続されている。
次に、第1図は、本願の発明における方法の第1の実施
例を説明するための、上記構造の発光素子アレイに対応
する等価回路図を示している。
第1図において、各発光サイリスタT(0)〜T(5)
は、各結合用ダイオードDIG〜DI5により、それぞ
れ電気的に結合されている。また、各発光サイリスタT
(0)〜T(5)のアノードは、アノード負荷抵抗RA
(1〜Rasを介してクロックラインCL、、CL2に
接続されている。また、ゲートはゲート負荷抵抗RLO
〜RLSを介して電源ラインへ接続されている。
アノード負荷抵抗RA0〜RASおよびゲート負荷抵抗
RLO〜RLSは、それぞれ第4図および第5図に示す
抵抗63で構成されている。ゲート負荷抵抗RLO〜R
t、sは、ゲートに印加される電源電圧■lによる発光
サイリスクの発光状態(オン状態)の電流量を制限する
。同様にアノード負荷抵抗R0゜〜RASは、オン状態
のアノード電流を制限する。
発光サイリスタT(0)にはスタートパルスφ、が、発
光サイリスタT(1)〜T(5)には転送クロックφ1
、φ2のどちらかが印加可能である。
次に、第1図の発光サイリスタT (0)に光信号が供
給される場合を考える。
今、光が入力されず、発光サイリスタT(0)がオフ状
態のままでいる場合の発光サイリスタT(0)のアノー
ド電圧−アノード電流特性を第2図に示す。
ここで実線は光のない状態での特性を示している。
オン電圧V。Nは、おおよそGaAsのPN接合の拡散
電位V d i fと電源電圧■。との和V ON ’
: V ax + V a i r −−−−−−−−
−−−−−−−−−−(1)で与えられる。
第2図において、ホールド電圧■゛8、ホールド電流I
、は、オン状態領域と負性抵抗領域との切り替え点の値
に相当する。ここで、光が供給されると発光サイリスタ
T(0)の内部でキャリアが生成されるため、オン電圧
■。、4は式(1)で与えられる電圧より低くなる。こ
の場合の特性を第2図に破線で示す。この時のオン電圧
を■。8′とすると、第1図に示すスタートパルスφS
のハイレベルの電圧■9は、VON′と■。Nとの中間
に設定される。
このことにより、T (0)は光が供給されるとオンし
、光が供給されなければオフ状態のままである。即ち、
光の検知機能をT(0)にもたせることが可能となる。
第3図は、第1図に示す等価回路に印加する転送クロッ
クφ1、φ2、スタートパルスφSのタイミング及びオ
ン状態(発光状態)の転送の様子を示している。
第3図においては発光サイリスタT(0)に光信号L 
inを入射する。発光サイリスタT(0)〜T(5)の
右に示す波形はこれらの発光サイリスタからの出射光を
表し、ハイレベルでは光出射、即ちオン状態であること
を表す。なお、t0〜t、。は時刻である。
動作を説明すると、パルスφ、のハイレベルの電圧vM
を上記にて説明した■。8′とV。Nとの中間に設定す
ることにより、光信号が入射すると発光サイリスクはオ
ンするようになる。従って、発光サイリスタT(0)が
オン状態となるタイミングは光信号LA、、とパルスφ
Sとのアンド(AND)となり、発光サイリスタT(0
)の波形に示されるように時刻t0〜1..12〜t3
、t6〜t?の間でオンとなる。このような発光サイリ
スタT(0)のオン状態は、順次に発光サイリスタT(
1)、T(2)、−・・・−・、T(5)と転送されて
いく。
本実施例ではパルスφ3の波形は転送クロックφ2の波
形とほぼ等しく設定しであるが、パルスφ3のハイレベ
ル期間と転送クロックφ1のハイレベル期間とはわずか
に重なっている方が動作上安定である。もちろんかなり
重複させてもよい。
また転送クロックφ1と転送クロックφ2の重なりは最
小にしておく必要がある。もし十分な時間で転送クロッ
クφ1と転送クロックφ2とが同時にハイレベルである
とすると、スタートビットの発光サイリスタT(0)の
オン状態が全ピット憾伝達され、全てがオンしてしまう
可能性があるからである。
但し、この制限は3相以上の転送クロックを用いること
により回避される。また転送クロックφ1、φ2のハイ
レベルの電圧の幅が均等であるかのように図示している
が、これは必ずしも均等である必要はなく用途によって
自由に設定できる。
さて、本実施例の機能は、スタートビットの発光サイリ
スタT(0)に入射する時系列的な光情報をスタートパ
ルスφ、でサンプリングして取り込むもので、その光情
報を順次転送していくことである。
発光サイリスタT(1)、T(2)、・−・・・−・の
発光信号を見るとサンプリングされた光情報がそのまま
受は継がれ、タイミングが1区間だけ遅れていることが
分かる。従って、この実施例は光信号のデイレイライン
として働くことが分かる。また転送クロックを調整する
ことにより遅延時間も調整できる。
発光サイリスクの数を多く並べることにより、サンプリ
ングされた光情報が第1図の右方向に流れていくので、
時系列情報を並列情報に変換するシリアル・パラレル変
換器としての機能、及び光メモリの機能を有する。
また、このようなデバイスを製作する際、一般にGaA
sに代表される直接遷移型の半導体が使用される。この
場合、自ら発光した光で自らに情報を書き込む際、感度
が非常に低いという問題を有する。これを避けるため、
発光サイリスタT(0)に使用する半導体の材質をその
他のデバイスの材料よりバンドギャップの狭い材料を使
用することによってスタートビットの感度を向上させる
ことも可能である。
さらに、本実施例では受光する部分として発光サイリス
クをそのまま用いた例を示しているが、必ずしもこれに
限られたものではなく、受光量に応じて抵抗値が変化す
る抵抗(例えば非晶質Si、CdS等)またはフォトダ
イオードを用いてもよい。
これらを使用したスタートビットを第6図に示す。
第6図(a)は受光量に応じて抵抗値が変化する抵抗を
使用した場合を示している。非晶質St、CdS等の抵
抗R1は、一般に、光によって発生したキャリアのため
抵抗値が低下するものが多い。
光が入射されない状態で抵抗R1〉〉抵抗RLIに設定
しておく。この場合、発光サイリスタT(1)のゲート
電圧は電源電圧VGKにほぼ等しくなり、転送可能な転
送クロックφ、、φ2のハイレベルの電圧の範囲では発
光サイリスクT(1)はオンしない。
光が入射すると抵抗R2くく抵抗RLIとなるように設
定しておくと、発光サイリスタT(1)のゲート電圧は
零ボルト近くとなり、発光サイリスタT(1)がオンす
ることになる。これによって転送をスタートさせること
ができる。
第6図(b)はフォトダイオードを使用した場合を示し
ている。光が入射しない状態ではフォトダイオードPD
は逆バイアスであり、電流は流れず、ゲートの電位は電
源電圧VGKとなる。光が入射すると受光量に依存して
光電流がPDに流れ、ゲートの電位が低下する。従って
、この例でも転送をスタートさせることができる。
また、上記実施例では転送クロックとして、φ1、φ2
の2相を想定したが、より安定な転送動作を求める場合
にはこれを3相以上に増加させてもよい。
また本実施例では発光サイリスクの構造を最も簡単な場
合について示したが、発光効率を上げるために、例えば
ダブルへテロ構造の様なより複雑な構造、層構成を導入
してもよい。
また、ここではPNPN構造のサイリスクを例に説明し
たが、ゲートの電位を検知し、しきい電圧が低下し、こ
れを利用して転送動作を行なわせるという構成は、PN
PN構造のみに限られず、その機能が達成できる素子で
あれば特に限定されない。例えば、PNPNの4層構造
ではなく、6層以上の構造でも同様な効果を期待でき、
全く同様な自己走査機能を達成することが可能である。
さらには静電誘導(Sl)サイリスタまたは電界制御サ
イリスク(FCT)と呼ばれるサイリスタを用いても全
く同様である。
また、上記実施例においては、転送方向の発光サイリス
タのゲート電圧を低下させる手段として、電気的手段を
用いている。しかし、第7図および第8図に示すような
、各発光サイリスクを光学的に結合させ、受光によるし
きい電圧もしくはしきい電流の低下を利用しても転送を
実施できる。なお、第7図および第8図中のLo、Ll
は光を示すものである。また、CL、は転送クロックφ
を供給されるクロックラインである。
また、電気的接続手段としては、第9図および第10図
に示すような抵抗R1であっても、上記のようなダイオ
ード、トランジスタ等の一方向性を有する素子等の手段
であってもよい。上記のように、ダイオード等の一方向
性素子を用いると、2相の転送クロックを用いて自己走
査でき、双方向性素子では3相の転送クロックを用いて
自己走査できる。
また、上記実施例においては、ゲート負荷抵抗RLO〜
RL%およびアノード負荷抵抗RAO〜RASとして薄
膜状の抵抗63を用いているが、これは別の層を用いて
もよい。例えば発光サイリスク(発光素子)のP形半導
体層23またはN形半導体層22を用いてもよく、ある
いは別の抵抗領域を設けてこれを用いてもよい。
また、上記実施例においては隣接する発光サイリスクを
各々光学的または電気的に接続しているが、隣接する発
光サイリスクを接続する必要はなく、1つおきに接続す
る等適当に変形させることも可能である。
〈実施例2〉 本願の発明における光信号の読み取り方法の第2の実施
例を説明するための図を第11図に示す。
なお、第1の実施例は1次元方向に発光サイリスクを並
べたものであったが、本実施例ではこれを複数並べ2次
元的に配列したものである。
発光サイリスク(発光素子)の符号はT(i 、 j)
で表され、iは行番号、jは列番号を表す。行番号iが
零のビットはスタートビットを表し、アノ−ド負荷抵抗
はRAで表す。第11図では特に図示しないが発光サイ
リスタT(i、 j)とT(i+1、j)とはダイオー
ド等によって接続されており、ゲート負荷抵抗RLによ
って電源電圧VGKの直流電源と接続されている。即ち
、第1図に示した構成で各行が形成されている。
次に、第11図の動作を説明する。
パルスφ、と転送クロックφ1、φ2のタイミングは第
3図と同じであるとする。今、パルスφ3がハイレベル
となって発光サイリスクT(0,j)に光信号が書き込
まれたとする。この光信号は転送クロックφ1  φ2
によって順次右方向に転送されていく。
機能としては第1の実施例において記載したデイレイラ
イン、シリアル・パラレル変換器、光メモリ等の機能を
2次元に拡大し、より多くの情報を並列に処理しようと
いうものである。
第12図は具体的な一構成例を示している。この第12
図は第11図に示した2次元に配列された発光素子アレ
イALYに対し、光ファイバLFを接続したものである
。入力光(光情報)  Ls(1)〜L3(4)は4ビ
ツトの光入力情報であり、出力光り、 (i 、 1)
〜Lo (i 、4)は本実施例における発光素子アレ
イALYにより出力される光出力情報である。この光出
力情報は光入力情報に対して時間的に遅れている。
本構成の機能として、入力された4ビツトの光入力情報
Ls(t)〜t、5(4)はスタートパルスφ。
によってサンプリングされ、スタートビットの発光サイ
リスタにオン状態として書き込まれる。このオン状態は
転送クロックによって順次に第12図の下方向に転送さ
れていく。第12図で出力光は転送クロックφ2に同期
して取り出される。これはスタートパルスφ3の書き込
みタイミングと同じタイミングで出力されるため、書き
込み光(光情報)と出力光との同期ずれがなくなるため
である。
なお、同期の問題がなければ、転送クロックφ、のタイ
ミングで光出力を取り出すことも可能である。用途によ
ってはこのタイミングを混在させてもよい。
さて、第12図において、出力光t、、(1,1)〜L
O(1,4)はサンプリング区間にして1区間遅れた出
力であり、出力光t、o (2,1)〜Lo(2,4)
は2区間遅れ、出力光り。(3,1)〜LO(3,4)
は3区間遅れの出力となる。例えば出力光Lo(1,1
)〜LO(1,4)と出力光り。(2,1)〜LO(2
,4)とを比較することにより、光情報の変化を検出す
ることができ、ALYは多機能を有する光メモリとして
動作する。
〈実施例3〉 第1の実施例および第2の実施例は光を検知するスター
トビットを設け、そこに光信号(光情報)を書き込み、
その後に光信号を順次転送させていくものである。本実
施例は特にスタートビットを設けず、全ビットが光を検
知できるという機能を活かして、任意のビットに光信号
の書き込みを行なえるように構成したものである。
第13図に、本願の発明における光信号の読み取り方法
の第3の実施例に関する、駆動パルスのタイミング図を
示す。具体的な発光素子アレイに対応する等価回路の構
成は、第1図の発光サイリスク(発光素子)T(0)を
削除した場合を想定している。デバイスに入射する光信
号L inは転送クロックφ1、φ2により転送される
。この光信号しi7は第13図に示すタイミングで入射
するが、入射ビットは発光サイリスタ(発光素子)T(
1)、T(3)、T(7)の3ビツトであるとする。
第13図において、時刻t0〜t2の期間で転送クロッ
クφ1の電圧が高く設定されている。従って、転送クロ
ックφ1のハイレベルの電圧v8を第1の実施例にて説
明した電圧■。8′と■。8との中間に設定することに
より、転送クロックφ1が印加される全てのビットに光
信号の書き込みが可能となる。時刻も。〜t2の期間内
に書き込まれた光信号しi、、の光によって発光サイリ
スタT(1)、T(3)、T(7)の3ビツトがオンす
る。これは第13図中のハツチングで示されている。
この書き込みが終了した後、次の転送クロックφ2によ
りこれらのオン状態が順次転送されて行く。この動作原
理は第1の実施例と全く同一である。
本実施例の機能としては、例えば光入力情報が4ビツト
であるとして、発光サイリスタT(1)、T(3)、T
(5)、T(7)の4ビツトに入射するように構成する
。第13図の例では2進法で1101という数値である
が、時刻t3〜t、の間では0110、時刻t、〜t6
の間では0011となっている。即ち2進法の桁落ちを
行なっていることになる。これは逆に考えると、桁上げ
を行なえることを意味する。
〈実施例4〉 第14図に、本願の発明における光信号の読み取り方法
の第4の実施例における等価回路図を示す。第14図は
第1図と基本的には構成がほぼ同じであるが、最終ビッ
トである発光サイリスク(発光素子) T(8)のゲー
トが結合用ダイオードI)+aを介して発光サイリスタ
T(1)のゲートに接続されている点で特に相違してい
る。従って、この等価回路では発光サイリスクのオン状
態は転送クロックによってこの発光素子アレイの中を回
り続けることになる。
今、第13図で示したようなタイミングでこの発光素子
アレイを駆動したとすると、発光サイリスタT(1)〜
T(7)の発光状態は第13図のように消えて失われて
いくのではなく、順番に回転する。
これは4ビツトの光情報で考えると2進法で1101で
あったものが1110となり、0111となり、そして
1011となる。このような演算は論理回路を形成して
いくために重要な基本機能であり、光を用いた計算、論
理の構成に大きく寄与することが可能である。
なお、本実施例では4ビツトの例を示しているが、これ
は8ビツト、16ビツト、32ビツト等であっても問題
なく動作する。
〈実施例5〉 第15図、第16図、第17図に本願の発明における光
信号の読み取り方法の第5の実施例を説明するための構
成図を示す。
第15図は発光サイリスク(発光素子)の配列の様子を
表し、第16図は第15図の破線枠内の拡大詳細図を示
している。第17図は第16図のY−Y ’に沿う部分
の断面構造概略図である。
本実施例における構造は基本的には第11図で説明した
構成(電位結合が1方向に行なわれている場合)に対し
、電位結合を2方向(X方向とY方向)に行なったもの
である。第15図において、転送クロックφ1、φ2が
供給されるクロックラインCL、 、CL2は横方向(
X方向)に配線され、転送クロックφ3、φ4が供給さ
れるクロックラインCL3、CL4は縦方向(Y方向)
に配線されている。そして、クロックラインCL+CL
2及びCL3 CL、はそれぞれ1ビツトおきにアノー
ドに接続されている。
なお、第15図では図示を簡単にするためにアノード負
荷抵抗RAを省略している。
第16図に記載されている4ビツトの発光サイリスクT
の各アノード21に、転送クロックφ。
〜φ4のクロックラインCL、−CL、がアノード負荷
抵抗RAを介して接続されている。各々の発光サイリス
タTは2つの結合用ダイオードD+を備え、これらのア
ノード21は隣接する右及び下の発光サイリスタTのゲ
ート22に接続されている。また各発光サイリスタTの
ゲート22はゲート負荷抵抗RLを介して電源電圧■。
の直流電源に接続されている。
第17図に示す様に接地されたN形GaAs基板1上に
N形半導体層24、P形半導体層23、N形半導体層2
2、P形半導体層21の各層が形成されている。そして
ホトリソグラフィ及びエツチング等により、分離溝50
が形成され、単体の発光サイリスタに分離されている。
P形半導体層21はこの発光サイリスクTのアノードで
あり、また結合用ダイオードD、のアノードでもある。
発光サイリスクTのアノード21はアノード負荷抵抗R
Aを介してクロックラインCL、 、CL3に接続され
、ダイオードD1のアノード21は隣接する発光サイリ
スタTのゲート22に接続されている。また、各発光サ
イリスタTのゲート22はゲート負荷抵抗RLを介して
電源電圧■。、の直流電源に接続されている。なお、N
形GaAs基板1はカソードとなっている。
次に、第16図を用いて動作を説明する。
まず、左上の発光サイリスクが転送クロックφ1を印加
されて光入射によりオン可能な状態であるとする。即ち
、φ1の電圧は■。N′と■。Nとの中間の電圧■。で
あるとする。そして、光信号(光情報)が入射すると左
上の発光サイリスタがオンする。この次のパルスのタイ
ミングでφ4がハイレベルになればオン状態は左上から
右上の発光サイリスタTに移動する。次に、φ2がハイ
レベルとなれば右上から右下の発光サイリスタTにオン
状態が移動する。
このようにして本実施例によれば、転送クロックφ1〜
φ4を任意に組み合わせることで光信号によって書き込
まれたオン状態(発光状態)を右側及び下側に自由に移
動させるこ5とができる。
以上述べた第5の実施例の応用例、を第18図に示す。
これは16X16のマトリックスを形成したものである
。今、転送クロックφ1、φ2の電圧が電圧■。N′と
■。Nとの中間の電圧vMに設定されたとする。そして
英字「A」の文字を光入力する。この結果、文字に相当
する部分の発光サイリスク(発光素子)Tがオン状態と
なる。転送クロックφ1〜φ4を適切に加えることによ
って、オン状態を右方向、下方向またはその組み合わせ
た方向へ自由に移動させることができる。
本実施例において第4の実施例で示したように第18図
の右端、下端のゲートをダイオードを介して左端、上端
に接続するように設定すると、移動後にまた最初の位置
へ戻らせることが可能となる。また情報の移動を右方向
または下方向のどちらか1つに行なえばよい場合には転
送クロックは2相でよく、またゲートの結合方向も1方
向でよい。また転送クロックφ1〜φ4の供給の方法は
第14図に限られるものではない。
本実施例においてダイオード結合方式と呼ぶ構成を採用
しているが、結合方式はこれに限られず、先に説明した
光結合方式、抵抗結合方式であってもかまわない。
例示したダイオード結合方式は電位結合を1方向のみに
伝達する機能を持っており、このため画像の移動が1方
向になってしまうという問題点を有している。これに対
し、光結合方式、抵抗結合方式は電位結合が双方向であ
り、このため画像の移動が双方向で可能となる。
本実施例では自然発光を用いたモードのデバイスについ
て例示しているが、これらに限られず、誘導放出のモー
ド、即ちレーザであっても全く問題なく動作する。
また、このようなデバイスを製作する際、一般にGaA
s、InPに代表される直接遷移型の半導体が使用され
る。この場合、自ら発光した光の波長で自らに情報を書
き込む際、感度が非常に低いという問題を有する。これ
を避けるため、例えば、転送クロックφ1、φ2が供給
されるクロックラインCL、 、Cl3に接続されてい
る素子の半導体の材質は、その他のデバイスの材料より
バンドギャップの狭い材料を使用してもよい。これによ
って発光した波長での感度を向上させることも可能であ
る。
さらに転送クロックφ3、φ2が供給される素子に第6
図で示したような受光量に応じて抵抗値が変化する抵抗
、フォトダイオードを設け、この構造によって転送のス
タートを行なっても、以上に示してきた実施例と全く同
じ機能を実現できる。
次に、上述した2次元の光情報の書き込み及び演算機能
に関する実施例のうち、光情報の書き込みに関する第5
の実施例の趣旨は、発光サイリスク(スイッチ素子)を
2次元的に配置し、このスイッチ素子アレイ上に、光に
よって光情報を書き込むというものであった。第15図
に示す2次元に配列されたスイッチ素子アレイの等価回
路を第19図に示す。
第19図においては、スイッチ素子である発光サイリス
タT。+j)を2次元に配置し、結合用ダイオードD1
を介して電位結合を2方向(X方向とX方向)に行なっ
ている。転送クロックφ1、φ2がそれぞれ供給される
クロックラインCL、。
CL、は横方向(X方向)に配線され、転送クロックφ
1、φ4がそれぞれ供給されるクロックラインCL3、
CL4は縦方向(Y方向)に配線されている。
そして、それぞれのクロックラインCL1、cLt及び
CL3、CL4は1ビツトおきにアノード負荷抵抗RA
を介して発光サイリスクのアノードと接続されている。
また、Rtはゲート負荷抵抗である。各発光サイリスク
のカソードは接地されており、■oはゲートに印加され
る電源電圧である。なお、この第19図における動作は
第15図、第16図により第5の実施例で説明したとお
りである。
しかしながら、第5の実施例の構成の場合、発光サイリ
スクのゲートが抵抗とダイオードとからなるネットワー
クに接続されているため、光照射時の電荷蓄積が起こり
にくく、光感度が低くなってしまうという問題点がある
〈実施例6〉 次に、第5の実施例における問題点である光感度の低下
を改善した第6の実施例について説明する。
第20図に本願の発明におけるスイッチ素子アレイの一
実施例の等価回路図を示す。ここでは、説明を簡単にす
るために発光サイリスクを直線状に配置し、ゲート間を
ダイオードで結合した構造のものを示す。
第20図において、T (0)〜T(5)はそれぞれ発
光サイリスクを表し、Dl。〜DI5は各発光サイリス
クT (0)〜T(5)の間の結合を行なう結合用ダイ
オードをそれぞれ表す。RLO〜RLSはそれぞれゲー
ト負荷抵抗である。そして、ゲート負荷抵抗R4゜〜R
LSに直列に接続されているI)to〜I)tsは、そ
れぞれ書き込み許可/書き込み禁止を区別するための選
択用ダイオードである。
また、RAG〜RASはそれぞれアノード負荷抵抗であ
って、オン状態の電流量を制限する働きを有する。各発
光サイリスクT(0)〜T(5)のカソードは接地され
ている。また、VGKはゲートに印加される電源電圧で
ある。φ1、φ2はそれぞれ転送クロックである。そし
て、CL、は転送クロックφを供給されるクロックライ
ンであり、CL zは転送クロックφ2を供給されるク
ロックラインである。
第21図に第20図の等価回路を半導体基板上に形成し
た場合の断面構造概略図を示す。N型半導体基板1上に
エピタキシャル成長でN形半導体層24、P形半導体層
23、N形半導体層22、P形半導体層21が順次形成
されている。そして、ホトリソグラフィ及びエツチング
等により分離溝50が形成されている。N形半導体基板
1は発光サイリスタTのカソードとなり、N形半導体層
22がゲートとなり、P形半導体層21が発光サイリス
クTのアノードとなる。
本実施例ではアノード21が3つできることになる。第
1番目は発光サイリスクTのアノードであり、第2番目
は結合用ダイオードDIのアノードである。そして、第
3番目は書き込み許可/書き込み禁止の選択用ダイオー
ドDLのアノードである。結合用ダイオードD1の端子
は隣接する発光サイリスクTのゲートに接続され、選択
用ダイオードDLの端子はゲート負荷抵抗RLを介して
電源電圧■。、の直流電源に接続されている。そして、
発光サイリスクTのアノードはアノード負荷抵抗RAを
介して転送クロックφ1、φ2のクロックラインCL、
 、CL、のいずれかに接続されている。
次に、本実施例の動作を説明する。
まず、転送クロックφ1のクロックラインCL +に接
続されている発光サイリスタTへの、光情報の光書き込
みを行なう場合について説明する。この場合には、各端
子の電位関係は次のように設定されている。転送クロッ
クφ、は光照射時のオン電圧■。8′と光熱照射時のオ
ン電圧■。Nとの中間の電圧vMに設定される。また、
転送クロックφ2は零ボルトに設定される。また、電源
電圧VGKは零ボルト以下であって、例えば負の電圧に
設定される。
この場合、発光サイリスタTのゲート電圧■6は電圧■
。と零ボルトとの間にあると考えられる。
ところが、電圧■。は零ボルト以下であるから、選択用
ダイオードDL、”’DL、は逆バイアスとなる。
従って、ゲートは電圧VGKの直流電源から電気的に切
り離される。このため、光照射によって発生した電荷は
ほとんどゲートを通して流れないので、少ない光量での
光書き込みが可能になる。
次に、書き込み許可状態から書き込み禁止状態への切り
替えについて説明する。この場合、転送クロックφ3、
φ2の電圧は、光書き込み時と同じ状態に保つ。一方、
電圧VGKを■、まで引き上げる。この電圧VaXの切
り替えは、発光サイリスクTのオン状態に影響を与えず
に行なうことができる。このことによって、選択用ダイ
オードDLI〜I)tsは順バイアスとなり、VGKか
らゲートへ電流を流すことができるようになる。このた
め、この状態にあるときに光を照射しても、電荷の蓄積
は起こりにくく、光感度は低い。
さらに、書き込み禁止時のオン状態の転送について説明
する。今、発光サイリスタT(1)がオン状態にある場
合、発光サイリスタT(1)のゲート電圧Vcは素子構
造によって決まり、はぼPN接合の拡散電位V a i
 f程度の電圧になる。また、発光サイリスタT(2)
のゲート電圧■。はT(1)のゲート電圧■。よりもD
llの拡散電位骨だけ高く、2Vai、程度の電圧にな
る。
さらに、T(3)以降のゲート電圧■、も、結合用ダイ
オードD+の拡散電位骨だけで決まることとなり、選択
用ダイオードDLは、ゲート電圧vGの決定に影響を与
えない。このため、転送クロックφ2のクロックライン
CL zにクロックを供給することで、第5の実施例と
同様に転送動作を行なわせることができる。
本実施例では、発光サイリスタTを1次元に配列し、ゲ
ート間を結合用ダイオードD1で接続した場合について
説明したが、2次元または3次元に配列してもよい。ま
た、結合用ダイオードD+だけでなく抵抗などによって
ゲート間を接続してもよい。また、基板としてP型の半
導体を用いてもよい。さらに、光書き込み許可時の電圧
■。は、選択用ダイオードDLが逆バイアスになるよう
に選べば、必ずしも負の電圧である必要はない。
〔発明の効果] 以上述べたように、本願の発明における光信号の読み取
り方法によれば、光の情報を発光素子アレイに発光状態
として書き込み、発光状態を転送させることにより、書
き込まれた情報を時間的または空間的に処理する、つま
りある種の演算を行なうことが可能になる。このことに
より、光デイレイライン、発光メモリ素子、シリアル・
パラレル変換器、画像の移動器等が構成でき、かつ情報
の書き込みを光で行なうことができる。
従って、光を用いた情報処理の機能拡大に大きく寄与す
ることができる。
また、本願の発明におけるスイッチ素子アレイによれば
、光書き込み時には高い光感度を有し、かつ書き込み時
以外は低い光感度を有し、上記光信号の読み取り方法を
効果的に実施できるスイ・ソチ素子アレイを提供するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は第1の実施例に用いた発光素子アレイの等価回
路図、第2図は第1の実施例のスタートビットの動作説
明図、第3図は第1の実施例の動作を説明するための駆
動波形図、第4図及び第5図はそれぞれ第1の実施例に
用いた発光素子アレイの平面図及び断面図、第6図はス
タートビットの別の構成図である。第7図及び第8図は
それぞれ本願の発明に使用しうる別の発光素子アレイの
構造例の等価回路図及び概略構造断面図、第9図及び第
10図はそれぞれ本願の発明に使用しうるさらに別の発
光素子アレイの構造例の等価回路図及び概略構造断面図
、第11図は第2の実施例に用いた発光装置の概略平面
構成図、第12図は第2の実施例の応用図、第13図は
第3の実施例の動作を説明するための駆動波形図、第1
4図は第4の実施例の等価回路図、第15図は第5の実
施例の平面構成概略図、第16図は第15図の一部分の
拡大詳細図、第17図は第16図の断面構造概略図、第
18図は第5の実施例の応用図、第19図は第15図に
示す2次元に配列されたスイッチ素子アレイの等価回路
を示す回路図、第20図は本願の発明におけるスイッチ
素子アレイの一実施例を示す等価回路図、第21図は第
20図に示すスイッチ素子アレイの一実施例を半導体上
に形成した場合の断面構造概略図、第22図はpnpn
−VSTEPの断面構造とI−V特性図、第23図はタ
イミング図である。 なお、図面に用いた符号において、 1−−−−−・・・−・−・−・・・・N形半導体基板
(カソード)21−−−一・−−−−−−−一・−P形
半導体層(アノード)22−・−・−m−−−−・・・
・−N形半導体層(ゲート)23−・・・・・−・・・
・・−・−P形半導体層24−−−−−・−・−−−−
−−−−−N形半導体層40〜42−・・−一−−−・
電極 T(−2)〜T (8) 、 T (i 、 j) 、
 T・・−−−−−−・−・−発光サイリスクCLIN
CL4・−クロックライン φ、〜φ4・−・転送クロック ・−・−・・−・・−・−・−結合用’)’イオードD
 、。〜D ll+  oL ・−・−・−・・・・・・−・・−・選択用ダイオード
ALY・・・・・・・−・・・−・−発光素子アレイで
ある。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、光によってしきい電圧もしくはしきい電流を外部か
    ら制御可能な複数の発光素子が1次元または2次元的に
    配列された発光素子アレイと、前記発光素子の発光状態
    を前記発光素子アレイ内の隣接する他の前記発光素子へ
    順次転送するためのクロックラインとを有する発光装置
    において、この発光装置の外部から、前記発光素子アレ
    イの一部の前記発光素子に光信号を入射させて、その発
    光素子を発光状態とし、 前記クロックラインに転送クロックを印加することによ
    り発光状態を前記発光素子アレイの他の前記発光素子に
    転送し、 転送先の前記発光素子の発光状態に基づいて光信号を光
    学的または電気的に読み取ることを特徴とする光信号の
    読み取り方法。 2、前記発光装置は、 しきい電圧もしくはしきい電流を外部から制御可能な複
    数の前記発光素子が1次元または2次元的に配列され、
    互いに近傍に位置する前記発光素子が光学的手段で接続
    されるか、または互いに近傍に位置する前記発光素子の
    しきい電圧もしくはしきい電流を制御するための制御電
    極が互いに電気的手段にて接続されており、かつ各々の
    前記発光素子に外部から電圧もしくは電流を印加させる
    前記クロックラインが接続された前記発光素子アレイを
    有するように構成するか、または、 しきい電圧もしくはしきい電流を外部から制御可能な複
    数のスイッチ素子が1次元または2次元的に配列され、
    互いに近傍に位置する前記スイッチ素子が光学的手段で
    接続されるか、または互いに近傍に位置する前記スイッ
    チ素子のしきい電圧もしくはしきい電流を制御するため
    の制御電極が互いに電気的手段にて接続されており、か
    つ各々の前記スイッチ素子に外部から電圧もしくは電流
    を印加させる前記クロックラインが接続されたスイッチ
    素子アレイと、しきい電圧もしくはしきい電流を外部か
    ら制御可能な制御電極を有する複数の前記発光素子が配
    列され、各々の前記発光素子に電気的手段を介して電源
    が接続された前記発光素子アレイとを有し、この発光素
    子アレイの各々の前記発光素子の前記制御電極と前記ス
    イッチ素子の前記制御電極とが電気的手段にて接続され
    るように構成する ことを特徴とする請求項1記載の光信号の読み取り方法
    。 3、しきい電圧もしくはしきい電流を外部から制御可能
    な複数のスイッチ素子が1次元または2次元的に配列さ
    れており、 各々の前記スイッチ素子のしきい電圧もしくはしきい電
    流を制御するための制御電極が互いに接続されているス
    イッチ素子アレイにおいて、前記スイッチ素子の前記制
    御電極間における電気的な結合を外部から制御するため
    の切り替え手段を備えることを特徴とするスイッチ素子
    アレイ。 4、前記切り替え手段は、前記制御電極に直接的または
    間接的に接続されたダイオードを備えることを特徴とす
    る請求項3記載のスイッチ素子アレイ。
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