JPH03193619A - 球状シリカの製造方法 - Google Patents
球状シリカの製造方法Info
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- JPH03193619A JPH03193619A JP32835089A JP32835089A JPH03193619A JP H03193619 A JPH03193619 A JP H03193619A JP 32835089 A JP32835089 A JP 32835089A JP 32835089 A JP32835089 A JP 32835089A JP H03193619 A JPH03193619 A JP H03193619A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は、球状シリカの製造方法に関する。
従来、噴霧乾燥処理を組み込んだ球状シリカの製造方法
としては; 1) 珪酸ソーダなどアルカリ金属珪酸塩の水溶液を噴
霧乾燥して得られた微細球状粒子を、酸水溶液で処理し
て微細球状シリカを得る方法。
としては; 1) 珪酸ソーダなどアルカリ金属珪酸塩の水溶液を噴
霧乾燥して得られた微細球状粒子を、酸水溶液で処理し
て微細球状シリカを得る方法。
(たとえば特開昭60−54914号、特開昭62−1
28916号、特開昭62−128917号各公報など
)。
28916号、特開昭62−128917号各公報など
)。
2) シリカ粉末を水または有機媒体に分散させて得ら
れたスラリーを噴霧乾燥し、焼成して球状シリカ粉末を
得る方法。
れたスラリーを噴霧乾燥し、焼成して球状シリカ粉末を
得る方法。
(たとえば、特開昭61−251509号公報など)。
などが提案されている。
球状シリカの製造法としての前記、従来の方法はそれぞ
れ次の問題点を有している。
れ次の問題点を有している。
1)の方法は、アルカリ金属珪酸塩の水溶液をいったん
乾燥させた後に、再び水系に戻して湿式で処理を行うも
のであり、エネルギーの無駄が大きい。また、この方法
では、得られた球状シリカ中の不純物含有率を低減させ
ることが困難であるという難点がある。
乾燥させた後に、再び水系に戻して湿式で処理を行うも
のであり、エネルギーの無駄が大きい。また、この方法
では、得られた球状シリカ中の不純物含有率を低減させ
ることが困難であるという難点がある。
2)の方法では、シリカ粉末を製造した後に噴霧乾燥す
るので製造工程が長くなり、エネルギーの消費が大きい
。
るので製造工程が長くなり、エネルギーの消費が大きい
。
本発明の目的は、不純物含有率の低い高純度の球状シリ
カを簡略化された工程で製造する方法を提供することに
ある。
カを簡略化された工程で製造する方法を提供することに
ある。
本発明者らは従来法の問題点を改善するために研究を行
い、アルカリ金属珪酸塩水溶液と酸または/および酸性
の塩の水溶液のそれぞれを気相中に噴霧して生成した液
滴を接触させた後、酸含有液で処理した後水洗すること
により前記課題を解決できるという知見を得て本発明を
完成した。
い、アルカリ金属珪酸塩水溶液と酸または/および酸性
の塩の水溶液のそれぞれを気相中に噴霧して生成した液
滴を接触させた後、酸含有液で処理した後水洗すること
により前記課題を解決できるという知見を得て本発明を
完成した。
本発明は、「アルカリ金属珪酸塩水溶液と酸または/お
よび酸性の塩の水溶液のそれぞれを気相中に噴霧して生
成した液滴を接触させた後、捕集し、酸含有液で処理し
た後、水洗することを特徴とする球状シリカの製造方法
」を要旨とする。
よび酸性の塩の水溶液のそれぞれを気相中に噴霧して生
成した液滴を接触させた後、捕集し、酸含有液で処理し
た後、水洗することを特徴とする球状シリカの製造方法
」を要旨とする。
以下、本発明について説明する。
本発明において、“球状”とは、一つの粒子における最
大直径に対する最小直径の比が1〜0.5の範囲である
ものをいう。
大直径に対する最小直径の比が1〜0.5の範囲である
ものをいう。
本発明の方法において、原料として用いられるアルカリ
金属珪酸塩水溶液は、一般式;M、O・n SiO□(
ただし、Mはアルカリ金属元素、nはSiO□のモル数
で0.5〜5を示す)で表されるアルカリ金属珪酸塩の
水溶液で、珪酸のナトリウム塩、カリウム塩、リチウム
塩などの水溶液を用いることができる。
金属珪酸塩水溶液は、一般式;M、O・n SiO□(
ただし、Mはアルカリ金属元素、nはSiO□のモル数
で0.5〜5を示す)で表されるアルカリ金属珪酸塩の
水溶液で、珪酸のナトリウム塩、カリウム塩、リチウム
塩などの水溶液を用いることができる。
本発明の方法において、原料として用いられるアルカリ
金属珪酸塩水溶液中のSiOオ濃度は、通常5〜60重
量%の範囲であり、好ましくは20〜50重量%の範囲
である。SiJ濃度が低い場合には、噴霧されて生成し
たアルカリ金属珪酸塩水溶液の液滴が凝固するのに長時
間を要し、一方、Sing濃度が高い場合には、アルカ
リ金属珪酸塩水溶液の粘度が高まって噴霧処理が困難に
なる。
金属珪酸塩水溶液中のSiOオ濃度は、通常5〜60重
量%の範囲であり、好ましくは20〜50重量%の範囲
である。SiJ濃度が低い場合には、噴霧されて生成し
たアルカリ金属珪酸塩水溶液の液滴が凝固するのに長時
間を要し、一方、Sing濃度が高い場合には、アルカ
リ金属珪酸塩水溶液の粘度が高まって噴霧処理が困難に
なる。
本発明の方法において噴霧処理するアルカリ金属珪酸塩
水溶液の粘度は、200ポイズ以下、好ましくは10ボ
イズ以下である。粘度が高過ぎると、噴霧処理が困難に
なり、また、球状の粒子が得られなくなる。
水溶液の粘度は、200ポイズ以下、好ましくは10ボ
イズ以下である。粘度が高過ぎると、噴霧処理が困難に
なり、また、球状の粒子が得られなくなる。
本発明の方法において噴霧される酸の水溶液としては、
硫酸、塩酸、硝酸などの無機酸、酢酸。
硫酸、塩酸、硝酸などの無機酸、酢酸。
蓚酸などの有機酸の水溶液が挙げられ、炭酸水を用いる
こともできる。噴霧される酸水溶液の酸濃度は、0.1
〜4規定、好ましくは0.5〜3規定、更に好ましくは
1〜2規定の範囲である。
こともできる。噴霧される酸水溶液の酸濃度は、0.1
〜4規定、好ましくは0.5〜3規定、更に好ましくは
1〜2規定の範囲である。
また、酸性の塩の水溶液としては、その水溶液のpHが
7以下、好ましくは6以下である、前記の酸のアンモニ
ウム塩またはアルカリ金属水素塩の水溶液が挙げられ、
塩の濃度は3〜30重量%程度の範囲がよい。
7以下、好ましくは6以下である、前記の酸のアンモニ
ウム塩またはアルカリ金属水素塩の水溶液が挙げられ、
塩の濃度は3〜30重量%程度の範囲がよい。
アルカリ金属珪酸塩水溶液と酸または/および酸性の塩
の水溶液のそれぞれを噴霧する方式としては、遠心式、
2流体ノズル式、加圧ノズル式。
の水溶液のそれぞれを噴霧する方式としては、遠心式、
2流体ノズル式、加圧ノズル式。
超音波式などの各種の機構を用いることができ、好まし
くは遠心式または2流体ノズル方式が用し)られる。
くは遠心式または2流体ノズル方式が用し)られる。
径の大きい粒子を得る場合には、加圧ノズルまたは滴下
ノズルを用いることができる。
ノズルを用いることができる。
本発明の方法において噴霧して得られるアルカリ金属珪
酸塩水溶液の液滴および/またはゲル化物の粒径は、約
1μm〜1−程度である。これにより、粒径1〜600
μmの範囲の球状シリカを得ることができる。
酸塩水溶液の液滴および/またはゲル化物の粒径は、約
1μm〜1−程度である。これにより、粒径1〜600
μmの範囲の球状シリカを得ることができる。
本発明の方法において、球状のシリカを得るためには噴
霧されて生成する酸または/および酸性の塩の水溶液の
液滴の粒径は、前記アルカリ金属珪酸塩水溶液の液滴の
粒径と同等あるいは、より小さいことが好ましい。
霧されて生成する酸または/および酸性の塩の水溶液の
液滴の粒径は、前記アルカリ金属珪酸塩水溶液の液滴の
粒径と同等あるいは、より小さいことが好ましい。
本発明の方法において、アルカリ金属珪酸塩水溶液と酸
または/および酸性の塩の水溶液を噴霧する気相の構成
成分としては特に制限はないが、実用的には空気が用い
られる。A r + II e *窒素などの不活性ガ
ス雰囲気、水蒸気雰囲気、また炭酸ガス雰囲気などとす
ることもできる。
または/および酸性の塩の水溶液を噴霧する気相の構成
成分としては特に制限はないが、実用的には空気が用い
られる。A r + II e *窒素などの不活性ガ
ス雰囲気、水蒸気雰囲気、また炭酸ガス雰囲気などとす
ることもできる。
本発明の方法において、アルカリ金属珪酸塩水溶液を噴
霧する雰囲気の圧力は、通常0.1〜100気圧の範囲
であり、好ましくは0.9〜10気圧の範囲である。ま
た、操作温度はアルカリ金属珪酸塩水溶液が前記粘度の
液状を保つ範囲とし、好ましくは10〜80°Cの範囲
とする。
霧する雰囲気の圧力は、通常0.1〜100気圧の範囲
であり、好ましくは0.9〜10気圧の範囲である。ま
た、操作温度はアルカリ金属珪酸塩水溶液が前記粘度の
液状を保つ範囲とし、好ましくは10〜80°Cの範囲
とする。
噴霧されて生成したアルカリ金属珪酸塩水溶液の液滴お
よび/またはゲル化物、ならびに酸または/および酸性
の塩の水溶液の液滴は、集合体として捕集装置を用いて
捕集される。本発明の方法において捕集装置としてはサ
イクロン、サイクロンスクラバー、ベンチュリースクラ
バー、濡壁塔などの通常の捕集装置を用いることができ
る。
よび/またはゲル化物、ならびに酸または/および酸性
の塩の水溶液の液滴は、集合体として捕集装置を用いて
捕集される。本発明の方法において捕集装置としてはサ
イクロン、サイクロンスクラバー、ベンチュリースクラ
バー、濡壁塔などの通常の捕集装置を用いることができ
る。
捕集の過程でアルカリ金属珪酸塩水溶液の液滴のゲル化
が更に進み、シリカ粒子を含む懸濁液が得られる。得ら
れた懸濁液から濾過、沈降、遠心分離など通常の固液分
離操作によって、シリカ粒子を取得することができる。
が更に進み、シリカ粒子を含む懸濁液が得られる。得ら
れた懸濁液から濾過、沈降、遠心分離など通常の固液分
離操作によって、シリカ粒子を取得することができる。
本発明の方法は、球状シリカ中の不純物含有率で限定さ
れないが、目的とする球状・シリカの用途に応して不純
物含有率の低い高純度球状シリカを得ることができる。
れないが、目的とする球状・シリカの用途に応して不純
物含有率の低い高純度球状シリカを得ることができる。
特に、高密度集積回路電子部品の封止材用充填材として
用いられる球状シリカの場合には;■ Na、 Kな
どのアルカリ金属元素、Mg、 Caなどのアルカリ土
類金属元素およびハロゲン類元素の含有率が各々1 p
pm以下であり、かつ、■ U。
用いられる球状シリカの場合には;■ Na、 Kな
どのアルカリ金属元素、Mg、 Caなどのアルカリ土
類金属元素およびハロゲン類元素の含有率が各々1 p
pm以下であり、かつ、■ U。
Thなどの放射性元素の含有率が各々11)pb以下で
あるものであることが好ましい。
あるものであることが好ましい。
このような不純物含有率の低い高純度球状シリカは、前
記のようにして得られたシリカ粒子を酸含有液で処理し
た後、水洗して不純物を抽出除去することによって得る
ことができる。
記のようにして得られたシリカ粒子を酸含有液で処理し
た後、水洗して不純物を抽出除去することによって得る
ことができる。
この不純物を抽出除去する処理において用いられる酸含
有液としては、硫酸、塩酸、硝酸、炭酸などの無機酸、
酢酸、蓚酸などの有機酸の水溶液が挙げられる。酸含有
液の酸濃度は、0.1〜4規定、好ましくは0.5〜3
規定、更に好ましくは1〜2規定の範囲である。
有液としては、硫酸、塩酸、硝酸、炭酸などの無機酸、
酢酸、蓚酸などの有機酸の水溶液が挙げられる。酸含有
液の酸濃度は、0.1〜4規定、好ましくは0.5〜3
規定、更に好ましくは1〜2規定の範囲である。
不純物を抽出除去する際の処理温度は、20’C以上、
好ましくは50°C以上に保持するのがよい。
好ましくは50°C以上に保持するのがよい。
酸含有液には必要により、キレート剤および/または過
酸化水素などの過酸化物を添加したり、これらを含む水
溶液による洗浄処理を組み合わせることができる。また
、キレート剤および/または過酸化水素などの過酸化物
をアルカリ金属珪酸塩水溶液に予め添加しておくことも
できる。
酸化水素などの過酸化物を添加したり、これらを含む水
溶液による洗浄処理を組み合わせることができる。また
、キレート剤および/または過酸化水素などの過酸化物
をアルカリ金属珪酸塩水溶液に予め添加しておくことも
できる。
上記方法によって、前記の、更には^l + F e
+ T +などの遷移金属元素など各種の不純物含有率
が、いずれもIPI)−以下である高純度球状シリカを
得ることができる。
+ T +などの遷移金属元素など各種の不純物含有率
が、いずれもIPI)−以下である高純度球状シリカを
得ることができる。
このようにして得られたシリカは、多量の水分を含むと
共に多数の細孔を有するので、目的とする球状シリカの
用途に応じて必要により、前記処理で得られたシリカを
加熱処理する。
共に多数の細孔を有するので、目的とする球状シリカの
用途に応じて必要により、前記処理で得られたシリカを
加熱処理する。
加熱処理の条件は、球状シリカの用途によって異なり、
適宜選択することができる。
適宜選択することができる。
電子部品の封止材用充填材としての球状シリカを得る場
合には、温度1000〜2200’Cの範囲での加熱処
理、好ましくは1000〜1500°Cの範囲での焼成
を行う。
合には、温度1000〜2200’Cの範囲での加熱処
理、好ましくは1000〜1500°Cの範囲での焼成
を行う。
この処理によって、シリカ中に残留する水分を除去し、
更に、存在するシラノール基を0.1重量%程度ないし
それ以下に減少させてシリカ粒子を疏水化し、シリカ粒
子が有する細孔を閉孔させて細孔容積や比表面積を調整
し、シリカ粒子を緻密で、かつ水分が浸透し難い構造に
変化させる。
更に、存在するシラノール基を0.1重量%程度ないし
それ以下に減少させてシリカ粒子を疏水化し、シリカ粒
子が有する細孔を閉孔させて細孔容積や比表面積を調整
し、シリカ粒子を緻密で、かつ水分が浸透し難い構造に
変化させる。
乾燥剤、化粧品原料、触媒担体、液体クロマトグラフィ
用充填材などに用いられる球状シリカを得る場合には、
温度100〜1050″Cの範囲での加熱処理がよい。
用充填材などに用いられる球状シリカを得る場合には、
温度100〜1050″Cの範囲での加熱処理がよい。
石英ガラスなどのガラス、またはセラミックスの原料用
としては、加熱処理を行わない球状シリカを用いること
もできるし、また、加熱処理を行った球状シリカを用い
ることもできる。
としては、加熱処理を行わない球状シリカを用いること
もできるし、また、加熱処理を行った球状シリカを用い
ることもできる。
加熱時間は1秒〜100時間、好ましくは10秒〜6時
間、更に好ましくはlO秒〜3時間の範囲である。加熱
処理条件としての温度と時間との組合せは適宜に選択す
ることができ、加熱処理する温度が高い程、時間を短く
することができる。
間、更に好ましくはlO秒〜3時間の範囲である。加熱
処理条件としての温度と時間との組合せは適宜に選択す
ることができ、加熱処理する温度が高い程、時間を短く
することができる。
加熱処理を行う雰囲気は、本発明の思想を損なわない限
り任意であり、Ar+Heなどの不活性ガス雰囲気、空
気などの酸化性雰囲気、水素などの還元性雰囲気、水蒸
気雰囲気、またシリカ中の不純物を効果的に除去できる
塩素などハロゲンまたはハロゲン化物を含有する雰囲気
を用いることができる。加熱処理は、大気圧下で行うが
、減圧下で行うこともできる。
り任意であり、Ar+Heなどの不活性ガス雰囲気、空
気などの酸化性雰囲気、水素などの還元性雰囲気、水蒸
気雰囲気、またシリカ中の不純物を効果的に除去できる
塩素などハロゲンまたはハロゲン化物を含有する雰囲気
を用いることができる。加熱処理は、大気圧下で行うが
、減圧下で行うこともできる。
加熱源は任意であり、電熱または燃焼ガスは経済的な熱
源である。その他、プラズマ加熱、イメージ炉を用いる
こともできる。
源である。その他、プラズマ加熱、イメージ炉を用いる
こともできる。
なお、200″C程度以下の低温での加熱処理は、水に
浸漬し水熱処理により行うこともできる。
浸漬し水熱処理により行うこともできる。
加熱処理して得られた球状シリカは、必要により、解砕
・分級処理を施すことができる。
・分級処理を施すことができる。
電子部品封止材用充填材としての球状シリカの平均粒径
は、1〜1100u、好ましくは5〜40μm1更に好
ましくは10〜30μmの範囲である。
は、1〜1100u、好ましくは5〜40μm1更に好
ましくは10〜30μmの範囲である。
石英ガラス原料用としての球状シリカの平均粒径は、1
〜600IJm、好ましくは’1〜300 p m 。
〜600IJm、好ましくは’1〜300 p m 。
更に好ましくは、焼結用、ホットプレス用、ブルーゲル
法副原料用などでは1〜20μm、またアーク溶融、ベ
ルタイ法などの溶融用では100〜300μmの範囲で
ある。
法副原料用などでは1〜20μm、またアーク溶融、ベ
ルタイ法などの溶融用では100〜300μmの範囲で
ある。
本発明の方法によって、不純物含有率の低い高純度の球
状のシリカを簡略化された工程で製造することができる
。
状のシリカを簡略化された工程で製造することができる
。
本発明の方法により、アルカリ (土類)金属ハロゲン
、遷移金属元素、放射性物質などの不純物含有率の低い
、高密度集積回路電子部品の封止材用充填材に適した高
純度の球状シリカを得ることができる。
、遷移金属元素、放射性物質などの不純物含有率の低い
、高密度集積回路電子部品の封止材用充填材に適した高
純度の球状シリカを得ることができる。
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例−1゜
大気圧下の容器(容量=301 内に、3個の2流体ノ
ズルのそれぞれを通じて2規定硫酸水溶液を各々毎分4
0gの流速で供給し、噴霧用ガスとして毎分101の空
気を用いて噴霧した。同時に、別の2流体ノズルを通じ
て珪酸ソーダ水溶液(JISX140i1.3号相当品
;5ift : 2B%、 Nano : 9%)を毎
分10gの流速で供給し、噴霧用ガスとして毎分2!の
空気を用いて、温度約25°Cで前記容器内に噴霧し、
珪酸ソーダ水溶液の液滴と硫酸水溶液の液滴とを接触さ
せた。
ズルのそれぞれを通じて2規定硫酸水溶液を各々毎分4
0gの流速で供給し、噴霧用ガスとして毎分101の空
気を用いて噴霧した。同時に、別の2流体ノズルを通じ
て珪酸ソーダ水溶液(JISX140i1.3号相当品
;5ift : 2B%、 Nano : 9%)を毎
分10gの流速で供給し、噴霧用ガスとして毎分2!の
空気を用いて、温度約25°Cで前記容器内に噴霧し、
珪酸ソーダ水溶液の液滴と硫酸水溶液の液滴とを接触さ
せた。
容器下部に設けられた出口を経て流出する、噴霧されて
生成した珪酸ソーダ水溶液の液滴およびゲル化物と硫酸
水溶液の液滴の集合体を、サイクロンを用いて捕集した
。
生成した珪酸ソーダ水溶液の液滴およびゲル化物と硫酸
水溶液の液滴の集合体を、サイクロンを用いて捕集した
。
捕集された前記集合体を、攪拌しながら温度約30°C
にて約1時間保持することにより球状シリカが生成した
。生成した球状シリカを集合体から分離した。
にて約1時間保持することにより球状シリカが生成した
。生成した球状シリカを集合体から分離した。
得られた球状シリカ15gを、2規定硫酸水溶液300
g中に浸漬し、温度約100°Cで約1時間攪拌して
不純物の抽出を行った後、純水による洗浄・濾過を5回
繰り返し、ヌッチェを用いて脱酸・脱水し湿シリカを得
た。
g中に浸漬し、温度約100°Cで約1時間攪拌して
不純物の抽出を行った後、純水による洗浄・濾過を5回
繰り返し、ヌッチェを用いて脱酸・脱水し湿シリカを得
た。
この湿シリカを熱風乾燥機を用いて温度150°Cで6
時間乾燥し、得られた乾燥シリカを石英製坩堝に入れ電
気炉を用いて、温度1250°Cで6時間の加熱処理を
行い球状シリカを得た。
時間乾燥し、得られた乾燥シリカを石英製坩堝に入れ電
気炉を用いて、温度1250°Cで6時間の加熱処理を
行い球状シリカを得た。
得られた球状シリカは、平均粒径が22μm、比表面積
は0.6イ/gであった。
は0.6イ/gであった。
この球状シリカの不純物含有率は、Na O,1+)I
)lI+AI 0.8 pp−であり、UはO,1pp
b以下であった。
)lI+AI 0.8 pp−であり、UはO,1pp
b以下であった。
Claims (1)
- 1)アルカリ金属珪酸塩水溶液と酸または/および酸性
の塩の水溶液のそれぞれを気相中に噴霧して生成した液
滴を接触させた後、捕集し、酸含有液で処理した後、水
洗することを特徴とする球状シリカの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32835089A JP2733863B2 (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | 球状シリカの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32835089A JP2733863B2 (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | 球状シリカの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03193619A true JPH03193619A (ja) | 1991-08-23 |
JP2733863B2 JP2733863B2 (ja) | 1998-03-30 |
Family
ID=18209262
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32835089A Expired - Fee Related JP2733863B2 (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | 球状シリカの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2733863B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1097904A1 (en) * | 1999-11-05 | 2001-05-09 | Asahi Glass Company Ltd. | Process for producing a spherical silica gel |
JP2007099548A (ja) * | 2005-10-03 | 2007-04-19 | Shikoku Res Inst Inc | シリカ粉体の製法およびそれによって得られたシリカ粉体 |
JP2015036347A (ja) * | 2013-08-12 | 2015-02-23 | Dic株式会社 | 三酸化モリブデンの捕集法 |
WO2023243573A1 (ja) * | 2022-06-13 | 2023-12-21 | Agc株式会社 | 化粧料用シリカ粉末および化粧料 |
-
1989
- 1989-12-20 JP JP32835089A patent/JP2733863B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1097904A1 (en) * | 1999-11-05 | 2001-05-09 | Asahi Glass Company Ltd. | Process for producing a spherical silica gel |
JP2007099548A (ja) * | 2005-10-03 | 2007-04-19 | Shikoku Res Inst Inc | シリカ粉体の製法およびそれによって得られたシリカ粉体 |
JP2015036347A (ja) * | 2013-08-12 | 2015-02-23 | Dic株式会社 | 三酸化モリブデンの捕集法 |
WO2023243573A1 (ja) * | 2022-06-13 | 2023-12-21 | Agc株式会社 | 化粧料用シリカ粉末および化粧料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2733863B2 (ja) | 1998-03-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |