JPH0319222Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0319222Y2 JPH0319222Y2 JP1983019621U JP1962183U JPH0319222Y2 JP H0319222 Y2 JPH0319222 Y2 JP H0319222Y2 JP 1983019621 U JP1983019621 U JP 1983019621U JP 1962183 U JP1962183 U JP 1962183U JP H0319222 Y2 JPH0319222 Y2 JP H0319222Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core tube
- furnace core
- furnace
- heating
- cooling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 20
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、半導体ウエハーの熱処理に使用する
熱処理装置に関するものである。
熱処理装置に関するものである。
第１図は従来の熱処理装置としての化合物半導
体製造用液相エピタキシヤル装置の構成を示す模
式図であり、処理するウエハーを載置した高純度
炭素製ボート８は、管状加熱炉３の中央部の位置
に配置され炉芯管１内で熱処理される。その際材
料の一部であるAs、その他の物質が蒸発し、雰
囲気ガスに含まれて加熱炉３に覆われていないむ
き出し部分の炉芯管１の内面４に付着、堆積す
る。処理済のウエハーはボート８に載置された状
態で冷却位置１０に引き出されここで冷却され、
冷却後１３で示す方向に引き出されて炉芯管１外
に取り出される。図において、２は加熱炉３を収
容する炉体、５はチヤンバーフランジ、６は排気
口、７はボート引き出し棒、９は雰囲気ガス導入
ノズルである。
体製造用液相エピタキシヤル装置の構成を示す模
式図であり、処理するウエハーを載置した高純度
炭素製ボート８は、管状加熱炉３の中央部の位置
に配置され炉芯管１内で熱処理される。その際材
料の一部であるAs、その他の物質が蒸発し、雰
囲気ガスに含まれて加熱炉３に覆われていないむ
き出し部分の炉芯管１の内面４に付着、堆積す
る。処理済のウエハーはボート８に載置された状
態で冷却位置１０に引き出されここで冷却され、
冷却後１３で示す方向に引き出されて炉芯管１外
に取り出される。図において、２は加熱炉３を収
容する炉体、５はチヤンバーフランジ、６は排気
口、７はボート引き出し棒、９は雰囲気ガス導入
ノズルである。
この方式によれば、炉芯管１の内面４の部分に
付着したAs等の清掃が困難であるばかりでなく、
炉芯管の洗浄頻度も高く、この結果、いわゆる炉
芯管の枯し作業に時間を要し、稼働率の悪いもの
であつた。さらに、冷却位置１０の部分でボート
８を冷却する際、ボート８の熱により内面４の部
分に付着したAsの一部が再蒸発し、ボート８に
吸着し次サイクルのウエハーに、その特性を損う
ような悪影響を及ぼし、時に不良となるようなダ
メージを与えるという欠点があつた。
付着したAs等の清掃が困難であるばかりでなく、
炉芯管の洗浄頻度も高く、この結果、いわゆる炉
芯管の枯し作業に時間を要し、稼働率の悪いもの
であつた。さらに、冷却位置１０の部分でボート
８を冷却する際、ボート８の熱により内面４の部
分に付着したAsの一部が再蒸発し、ボート８に
吸着し次サイクルのウエハーに、その特性を損う
ような悪影響を及ぼし、時に不良となるようなダ
メージを与えるという欠点があつた。
本考案の目的は、炉芯管の内面に不純物の付
着、堆積が生ぜず、処理物にダメージを生じさせ
ない熱処理装置を提供することにある。
着、堆積が生ぜず、処理物にダメージを生じさせ
ない熱処理装置を提供することにある。
上記目的を達成するため、本考案による熱処理
装置においては、炉芯管と、加熱炉と、加熱機構
と、冷却機構とを有する熱処理装置であつて、 炉芯管は、熱処理すべき処理物を収納するもの
であり、 加熱炉は、炉芯管内に収納された処理物を熱処
理するものであり、炉芯管の一部周面を覆つて配
置され、 加熱機構は、加熱炉から露出した炉芯管の処理
物取出口側の周囲に設置されたもので、炉芯管を
加熱して処理により生じた不純物が炉芯管に付着
するのを防止するものであり、 冷却機構は、炉芯管の処理物取出口側に設置さ
れ、炉芯管を強制的に冷却するものである。
装置においては、炉芯管と、加熱炉と、加熱機構
と、冷却機構とを有する熱処理装置であつて、 炉芯管は、熱処理すべき処理物を収納するもの
であり、 加熱炉は、炉芯管内に収納された処理物を熱処
理するものであり、炉芯管の一部周面を覆つて配
置され、 加熱機構は、加熱炉から露出した炉芯管の処理
物取出口側の周囲に設置されたもので、炉芯管を
加熱して処理により生じた不純物が炉芯管に付着
するのを防止するものであり、 冷却機構は、炉芯管の処理物取出口側に設置さ
れ、炉芯管を強制的に冷却するものである。
以下に本考案の一実施例を図により説明する。
なお、第１図と同一構成部分には同一番号を付
してその説明を省略する。第２図に示すように、
本考案は管状加熱炉３から露出した炉芯管１の処
理物取出口側の下側に強制空冷用の冷却フアン１
２を設けるとともに、炉芯管１の処理物取出口側
に、該炉芯管を覆い、かつ割型にして移動可能と
したヒータ１１を配置したものである。尚、割型
としたヒータ１１に代えてシーズヒータを利用し
た通気性をもつ篭状の加熱体を設置しても良い。
してその説明を省略する。第２図に示すように、
本考案は管状加熱炉３から露出した炉芯管１の処
理物取出口側の下側に強制空冷用の冷却フアン１
２を設けるとともに、炉芯管１の処理物取出口側
に、該炉芯管を覆い、かつ割型にして移動可能と
したヒータ１１を配置したものである。尚、割型
としたヒータ１１に代えてシーズヒータを利用し
た通気性をもつ篭状の加熱体を設置しても良い。
実施例において、ウエハー処理中はヒータ１１
に通電を行い、炉芯管１の内面４部分を加熱し、
As等の付着を防ぐ。雰囲気ガスに含まれたこれ
らの物質は、一部がチヤンバーフランジ５に付着
し、排気口６を通じて外部へ排出される。処理
後、ボート８を引き出し棒７により冷却位置１０
に引き出すと同時にヒータ１１への通電を断ち、
図示しない移動機構によりヒータ１１を炉芯管１
より引き離し、炉芯管１を露出させて、強制空冷
フアン１２を動作させ冷却を行う。冷却後、１３
の方向にボート８を移動させてウエハーを取り出
し、次サイクルのウエハーを装填する。本考案に
おいては、As類の付着した部分へボートが移動
してくるときは、ボート８が十分に冷却された状
態であり、チヤンバーフランジ５に付着した不純
物の再蒸発、吸収を行うにいたらない。
に通電を行い、炉芯管１の内面４部分を加熱し、
As等の付着を防ぐ。雰囲気ガスに含まれたこれ
らの物質は、一部がチヤンバーフランジ５に付着
し、排気口６を通じて外部へ排出される。処理
後、ボート８を引き出し棒７により冷却位置１０
に引き出すと同時にヒータ１１への通電を断ち、
図示しない移動機構によりヒータ１１を炉芯管１
より引き離し、炉芯管１を露出させて、強制空冷
フアン１２を動作させ冷却を行う。冷却後、１３
の方向にボート８を移動させてウエハーを取り出
し、次サイクルのウエハーを装填する。本考案に
おいては、As類の付着した部分へボートが移動
してくるときは、ボート８が十分に冷却された状
態であり、チヤンバーフランジ５に付着した不純
物の再蒸発、吸収を行うにいたらない。
以上説明したように、本考案によれば、炉芯管
内部で発生した不純物等の付着、堆積による炉芯
管自体の汚染を防いで洗浄頻度を低減でき、装置
の稼動率を向上できるばかりでなく、製品に与え
るダメージを低減でき、しかもボートの冷却促進
の効果があり、製品製造のサイクルタイムを低減
できる効果を有するものである。
内部で発生した不純物等の付着、堆積による炉芯
管自体の汚染を防いで洗浄頻度を低減でき、装置
の稼動率を向上できるばかりでなく、製品に与え
るダメージを低減でき、しかもボートの冷却促進
の効果があり、製品製造のサイクルタイムを低減
できる効果を有するものである。
第１図は従来装置の構成を示す模式図、第２図
は本考案の一実施例を示す模式図である。 １……炉芯管、３……加熱炉、１１……ヒー
タ、１２……強制空冷用フアン。
は本考案の一実施例を示す模式図である。 １……炉芯管、３……加熱炉、１１……ヒー
タ、１２……強制空冷用フアン。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 炉芯管と、加熱炉と、加熱機構と、冷却機構と
を有する熱処理装置であつて、 炉芯管は、熱処理すべき処理物を収納するもの
であり、 加熱炉は、炉芯管内に収納された処理物を熱処
理するものであり、炉芯管の一部周面を覆つて配
置され、 加熱機構は、加熱炉から露出した炉芯管の処理
物取出口側の周囲に設置されたもので、炉芯管を
加熱して処理により生じた不純物が炉芯管に付着
するのを防止するものであり、 冷却機構は、炉芯管の処理物取出口側に設置さ
れ、炉芯管を強制的に冷却するものであることを
特徴とする熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1962183U JPS59125832U (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | 熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1962183U JPS59125832U (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | 熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59125832U JPS59125832U (ja) | 1984-08-24 |
| JPH0319222Y2 true JPH0319222Y2 (ja) | 1991-04-23 |
Family
ID=30150761
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1962183U Granted JPS59125832U (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | 熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59125832U (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56153728A (en) * | 1980-04-30 | 1981-11-27 | Kokusai Electric Co Ltd | Electric furnace having uniform temperature distribution region |
| JPS57112011A (en) * | 1980-12-29 | 1982-07-12 | Fujitsu Ltd | Heat treatment equipment for semiconductor wafer |
| JPS5835428A (ja) * | 1981-08-27 | 1983-03-02 | Mitsubishi Electric Corp | 温度記憶素子 |
| JPS5934627A (ja) * | 1982-08-23 | 1984-02-25 | Hitachi Ltd | 半導体熱処理装置 |
-
1983
- 1983-02-14 JP JP1962183U patent/JPS59125832U/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56153728A (en) * | 1980-04-30 | 1981-11-27 | Kokusai Electric Co Ltd | Electric furnace having uniform temperature distribution region |
| JPS57112011A (en) * | 1980-12-29 | 1982-07-12 | Fujitsu Ltd | Heat treatment equipment for semiconductor wafer |
| JPS5835428A (ja) * | 1981-08-27 | 1983-03-02 | Mitsubishi Electric Corp | 温度記憶素子 |
| JPS5934627A (ja) * | 1982-08-23 | 1984-02-25 | Hitachi Ltd | 半導体熱処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59125832U (ja) | 1984-08-24 |
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