JPH03163838A - ダイボンディング装置 - Google Patents
ダイボンディング装置Info
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- JPH03163838A JPH03163838A JP1303522A JP30352289A JPH03163838A JP H03163838 A JPH03163838 A JP H03163838A JP 1303522 A JP1303522 A JP 1303522A JP 30352289 A JP30352289 A JP 30352289A JP H03163838 A JPH03163838 A JP H03163838A
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- heater block
- cooling water
- stem
- cooling
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Links
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Landscapes
- Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、半導体レーザー実装機等として構成されるダ
イボンディング装置に関する。
イボンディング装置に関する。
(従来の技術)
半導体レーザーの製造におけるレーザーチップのステム
への実装は、両者間に介在されるロウ材をヒータブロッ
クで加熱して溶融させ、その後に冷却して固化すること
により行っている。
への実装は、両者間に介在されるロウ材をヒータブロッ
クで加熱して溶融させ、その後に冷却して固化すること
により行っている。
(発明が解決しようとする課題)
上記の製造プロセスにおいて、加熱時間はヒータブロッ
クに付設するヒータとして大容量のものを使用すること
により短縮されるが、冷却は不活性ガスの吹き付けによ
り行っているので効率が悪く、全体の製造時間の短縮が
困難で、これにより製造効率の向上が妨げられていた。
クに付設するヒータとして大容量のものを使用すること
により短縮されるが、冷却は不活性ガスの吹き付けによ
り行っているので効率が悪く、全体の製造時間の短縮が
困難で、これにより製造効率の向上が妨げられていた。
また、吹き付けのために大量の不活性ガスが必要となっ
てコストアップするとともに、不活性ガスの吹き付けに
よりレーザーチップが位置づれするというような問題も
発生した。
てコストアップするとともに、不活性ガスの吹き付けに
よりレーザーチップが位置づれするというような問題も
発生した。
本発明は上記の問題点に鑑みてなしたもので、ロウ材固
化のための冷却が低コストで効率良く行われるダイボン
ディング装置を提供することを目的とする。
化のための冷却が低コストで効率良く行われるダイボン
ディング装置を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明は、このような目的を達威するために、ヒータブ
ロックを備え、前記ヒータブロックに当接加熱されるこ
とにより介在されるロウ材が溶融されて半導体チップが
基体に実装固着されるダイボンディング装置において、
前記ヒータブロックが中空構戊とされるとともに、前記
ヒータブロック内へ冷却水を供給するための冷却水供給
機構が備えられてなる構成とした。
ロックを備え、前記ヒータブロックに当接加熱されるこ
とにより介在されるロウ材が溶融されて半導体チップが
基体に実装固着されるダイボンディング装置において、
前記ヒータブロックが中空構戊とされるとともに、前記
ヒータブロック内へ冷却水を供給するための冷却水供給
機構が備えられてなる構成とした。
(作用)
本発明によれば、ヒータブロック内に冷却水供給機構に
よって冷却水が供給されることにより、比熱の大きい冷
却水によりヒータブロックが効率良く冷却され、そのヒ
ータブロックに」;りロウ材固化のための冷却動作が効
率良く行われる。
よって冷却水が供給されることにより、比熱の大きい冷
却水によりヒータブロックが効率良く冷却され、そのヒ
ータブロックに」;りロウ材固化のための冷却動作が効
率良く行われる。
(実施例)
以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する
。第1図は本発明のダイボンディング装置の全体構戚図
、第2図は同ブロック回路図である。これらの図により
、まずダイボンディング装置の全体構成及び動作につい
て簡略に説明する。
。第1図は本発明のダイボンディング装置の全体構戚図
、第2図は同ブロック回路図である。これらの図により
、まずダイボンディング装置の全体構成及び動作につい
て簡略に説明する。
図において、符号1はダイボンディング装置としての半
導体レーザー実装機であり、基台部2とその上部に設け
られる実装部3とからなる。基台=3 部2内には、制御部や駆動機構等が設けられ、また、基
台部2の一方側の上部には操作パネル4が設けられてい
る。実装部3はカバ一体5により囲まれ、操作パネル4
に相対ずる位置には扉6が設(Jられている。カバ一体
5内には不活性ガスが充填され、内部には、ステム供給
郎8、ステム取出し部IO、ステム排出部I2、ステム
位置決め部l3、チップトレイ14、第1チップ供給部
l5、第2チップ供給部17、ヂップ位置矯正部■8、
TVカメラ19のそれぞれが所定の位置に設けられてい
る。また、カバ一体5の」二部には、モニター JiJ
C I−L T 2 0が設けられている。I1は制御
部であり、上記の各部が接続されている。
導体レーザー実装機であり、基台部2とその上部に設け
られる実装部3とからなる。基台=3 部2内には、制御部や駆動機構等が設けられ、また、基
台部2の一方側の上部には操作パネル4が設けられてい
る。実装部3はカバ一体5により囲まれ、操作パネル4
に相対ずる位置には扉6が設(Jられている。カバ一体
5内には不活性ガスが充填され、内部には、ステム供給
郎8、ステム取出し部IO、ステム排出部I2、ステム
位置決め部l3、チップトレイ14、第1チップ供給部
l5、第2チップ供給部17、ヂップ位置矯正部■8、
TVカメラ19のそれぞれが所定の位置に設けられてい
る。また、カバ一体5の」二部には、モニター JiJ
C I−L T 2 0が設けられている。I1は制御
部であり、上記の各部が接続されている。
」―記のステム供給部8とステム排出部l2とは、基体
としてのステムl6が載置されるステム載置トレイ2l
とステム載置トレイ2Iを移動させるガイド部22とか
らなり、そのガイド部22はステム取出し部IOの前方
で接続され、これによりステム載置トレイ2lはステム
供給部8側からステム排出部12側に移動されるように
なっている。
としてのステムl6が載置されるステム載置トレイ2l
とステム載置トレイ2Iを移動させるガイド部22とか
らなり、そのガイド部22はステム取出し部IOの前方
で接続され、これによりステム載置トレイ2lはステム
供給部8側からステム排出部12側に移動されるように
なっている。
4
ステム取出し部10は、ステムのハンドリング郎23を
備え、ステム取出し部10の前方に位置ずるステム載置
トレイ21上の未処理ステム■6を取り上げてステム位
置決め郎■3にセッ1・シ、ステム位置決め部13にお
いてレーザーヂップ24が実装された処理済みステムl
6をステム載置トレイ2lに戻すように機能する。上記
のようにして、ステム供給部8側からの未処理ステムl
6にステム位置決め部13においてレーザーヂップ24
が実装され、レーザーヂップ24が実装された処理済み
ステム16がステム排出部12側に送られるように構成
されている。
備え、ステム取出し部10の前方に位置ずるステム載置
トレイ21上の未処理ステム■6を取り上げてステム位
置決め郎■3にセッ1・シ、ステム位置決め部13にお
いてレーザーヂップ24が実装された処理済みステムl
6をステム載置トレイ2lに戻すように機能する。上記
のようにして、ステム供給部8側からの未処理ステムl
6にステム位置決め部13においてレーザーヂップ24
が実装され、レーザーヂップ24が実装された処理済み
ステム16がステム排出部12側に送られるように構成
されている。
チップトレイl4には多数のレーザーヂップ24がセッ
トされ、このヂップトレイI /I l:のレーザーチ
ップ24を、第1チップ供給郎15が平面方向における
回転動作と垂直方向における直線動作とによりその二一
ドル部26でチップ(U置矯正部l8上に供給する。チ
ップ位置矯正郎18は載置されるレーザーヂップ24の
位置を設定位置とする位置矯正動作を行うように構成さ
れている。
トされ、このヂップトレイI /I l:のレーザーチ
ップ24を、第1チップ供給郎15が平面方向における
回転動作と垂直方向における直線動作とによりその二一
ドル部26でチップ(U置矯正部l8上に供給する。チ
ップ位置矯正郎18は載置されるレーザーヂップ24の
位置を設定位置とする位置矯正動作を行うように構成さ
れている。
上記の位置矯正部18における位置矯正は、TVカメラ
l9における画像に基づいて行われる。第2チップ供給
部■7は位置矯正部I8上の設定位置にあるレーザーチ
ップ24を、垂直方向と水平方向との2方向の動作によ
りその二一ドル部29で、ステム取出し部10によりス
テム位置決め郎I3にセットされる未処理ステム16の
所定位置にセットする。
l9における画像に基づいて行われる。第2チップ供給
部■7は位置矯正部I8上の設定位置にあるレーザーチ
ップ24を、垂直方向と水平方向との2方向の動作によ
りその二一ドル部29で、ステム取出し部10によりス
テム位置決め郎I3にセットされる未処理ステム16の
所定位置にセットする。
上記のようにして、ステム位置決め部13において未処
理ステムl6の所定位置にレーザーチップ24が位置合
わせされて、レーザーチツプ24のロウ材による未処理
ステムl6への固着が行イつれる。
理ステムl6の所定位置にレーザーチップ24が位置合
わせされて、レーザーチツプ24のロウ材による未処理
ステムl6への固着が行イつれる。
第3図( A)( B)は」二記にお(Jる半導体レー
ザ実装機の全体動作を示すフローチャートであり、第3
図(A)に示すステムI6の取り扱いおよびボンディン
グ動作と、第3図(B)に示すレーザヂップ24の取り
扱い動作とが初期において並列して行われ、第3図(B
)のステップ4で位置決めされるレーザヂップ24が、
第3図(A)のステップ4でダイボンディングされる。
ザ実装機の全体動作を示すフローチャートであり、第3
図(A)に示すステムI6の取り扱いおよびボンディン
グ動作と、第3図(B)に示すレーザヂップ24の取り
扱い動作とが初期において並列して行われ、第3図(B
)のステップ4で位置決めされるレーザヂップ24が、
第3図(A)のステップ4でダイボンディングされる。
次に本発明の特徴とずるステム位置決め部13の構成と
、ステム位置決め郎l3を構成ずるヒータブロック30
の温度制御構成について説明ずろ。
、ステム位置決め郎l3を構成ずるヒータブロック30
の温度制御構成について説明ずろ。
第4図はステム位置決め部■3の拡大構成図であり、ス
テム位置決め部+3+よ、モリブデンやタングステンか
らなる内部が中空のヒータブ[1ツク30より主として
構成され、ヒータブロック30はその上側に切欠部3■
が形成されている。ヒータブロック30の一方側には加
熱用のニクロムヒータ線32が接触固定され、他方側に
Cま温度センサとしての熱電対434が付設されている
。36のそれぞれは冷却水循環用パイプであり、ヒータ
ブロック30の上部に供給側冷却水循環用パイプ36が
、下部に排出側冷却水循環用パイプ36がそれぞれ接続
され、供給側冷却水循環用パイプ36には電磁弁38が
設tJられている。」二記の供給側冷却水循環用パイプ
36の径は排出側冷却水帖環用パイ136の径上り大き
く設計され、これによリヒータブロック30への冷却水
の供給量がヒー7 タブロック30からの排出量より大きくされている。」
−記の冷却水循環用パイプ36と電磁弁38とにより冷
却水供給機構が構成される。
テム位置決め部+3+よ、モリブデンやタングステンか
らなる内部が中空のヒータブ[1ツク30より主として
構成され、ヒータブロック30はその上側に切欠部3■
が形成されている。ヒータブロック30の一方側には加
熱用のニクロムヒータ線32が接触固定され、他方側に
Cま温度センサとしての熱電対434が付設されている
。36のそれぞれは冷却水循環用パイプであり、ヒータ
ブロック30の上部に供給側冷却水循環用パイプ36が
、下部に排出側冷却水循環用パイプ36がそれぞれ接続
され、供給側冷却水循環用パイプ36には電磁弁38が
設tJられている。」二記の供給側冷却水循環用パイプ
36の径は排出側冷却水帖環用パイ136の径上り大き
く設計され、これによリヒータブロック30への冷却水
の供給量がヒー7 タブロック30からの排出量より大きくされている。」
−記の冷却水循環用パイプ36と電磁弁38とにより冷
却水供給機構が構成される。
第5図はヒータブロック30の恩度制御構成を示すブロ
ック回路図で、温度制御部40に上記ニクロムヒータ線
32およびその電源41、熱電対34、電磁弁38のそ
れぞれが接続されて設けられている。温度制御部40は
、上記の制御部11の一部を構成する。
ック回路図で、温度制御部40に上記ニクロムヒータ線
32およびその電源41、熱電対34、電磁弁38のそ
れぞれが接続されて設けられている。温度制御部40は
、上記の制御部11の一部を構成する。
次にステム位置決め部l3における動作の説明を行う。
まず、ステム取出し部lOのハンドリング部23により
、未処理ステムl6のヒートシンク部16aがヒータブ
ロック30の切欠部3lの底面3Ia上に載置される。
、未処理ステムl6のヒートシンク部16aがヒータブ
ロック30の切欠部3lの底面3Ia上に載置される。
未処理ステムl6のヒートシンク部16a上の所定位置
には、ロウ材50が予め塗布されている。そのヒートシ
ンク郎16aのロウ材50」二に、第2チップ供給部l
7の二ドル29により運ばれてレーザーチップ24が載
置される3,この状態において(上、市磁弁38(よ閉
8 じられていて、ヒータブロック30内には冷却水が供給
されていない。次にニクロムヒータ線32への通電が行
われてヒータブロック30がロウ材50が溶融する温度
に加熱され、この加熱制御は熱電対34からの温度信号
に基づいて温度制御部40がニクロムヒータ線32の加
熱制御を行うことによって設定時間行われる。
には、ロウ材50が予め塗布されている。そのヒートシ
ンク郎16aのロウ材50」二に、第2チップ供給部l
7の二ドル29により運ばれてレーザーチップ24が載
置される3,この状態において(上、市磁弁38(よ閉
8 じられていて、ヒータブロック30内には冷却水が供給
されていない。次にニクロムヒータ線32への通電が行
われてヒータブロック30がロウ材50が溶融する温度
に加熱され、この加熱制御は熱電対34からの温度信号
に基づいて温度制御部40がニクロムヒータ線32の加
熱制御を行うことによって設定時間行われる。
そして、設定時間後にニクロムヒータ線32への通電が
停止されるとともに、電磁弁38が開かれて冷却水が供
給側冷却水循環パイプ36を介してヒータブロック30
内に導入される。この導入量は上記したように排出側冷
却水循環パイプ36を介しての排出量より大きいので、
供給される冷却水は一定の時間ヒータブロック30内に
とどまった後排出され、これによりヒータブロック30
内に冷却水が循環されることとなる。上記のように冷却
水が循環される故に、ヒータブロック30は比熱の大き
い冷却水により急激に冷却されて設定冷却温度とされ、
ロウ材50の硬化が効串良く行われる。
停止されるとともに、電磁弁38が開かれて冷却水が供
給側冷却水循環パイプ36を介してヒータブロック30
内に導入される。この導入量は上記したように排出側冷
却水循環パイプ36を介しての排出量より大きいので、
供給される冷却水は一定の時間ヒータブロック30内に
とどまった後排出され、これによりヒータブロック30
内に冷却水が循環されることとなる。上記のように冷却
水が循環される故に、ヒータブロック30は比熱の大き
い冷却水により急激に冷却されて設定冷却温度とされ、
ロウ材50の硬化が効串良く行われる。
所定時間の冷却の後、ハンドリング部23により処理済
みステム16が回収される段階において電磁弁38が閉
じられ、これによりヒータブロック30内の冷却水はす
へて排出側冷却水循環パイプ36を介して排出され、さ
らに、次の未処理ステムl6がステム取出し部lOのハ
ンドリング部23により所定位置に運ばれてくる。次の
加熱の際には、ヒータブロック30内には冷却水が存在
しない故に、ヒータブロック30の加熱はスムーズに行
われる。
みステム16が回収される段階において電磁弁38が閉
じられ、これによりヒータブロック30内の冷却水はす
へて排出側冷却水循環パイプ36を介して排出され、さ
らに、次の未処理ステムl6がステム取出し部lOのハ
ンドリング部23により所定位置に運ばれてくる。次の
加熱の際には、ヒータブロック30内には冷却水が存在
しない故に、ヒータブロック30の加熱はスムーズに行
われる。
(発明の効果)
したがって本発明よれば、ヒータブロック内に冷却水供
給機構によって冷却水が供給されることにより、比熱の
大きい冷却水によりヒータブロックが効率良く冷却され
、そのヒータブロックによりロウ材固化のための冷却動
作が効率良く行われるで、冷却工程が短縮されて全体の
製造時間を短縮できるとともに、多量の冷却用不活性ガ
スを必要としないのでコストダウンが可能となり、また
、ヂップの位置づれの問題も回避できろようになった。
給機構によって冷却水が供給されることにより、比熱の
大きい冷却水によりヒータブロックが効率良く冷却され
、そのヒータブロックによりロウ材固化のための冷却動
作が効率良く行われるで、冷却工程が短縮されて全体の
製造時間を短縮できるとともに、多量の冷却用不活性ガ
スを必要としないのでコストダウンが可能となり、また
、ヂップの位置づれの問題も回避できろようになった。
第1図ないし第5図は本発明の実施例に関し、第■図は
半導体レーザ実装機の全体構成斜視図、第2図は同ブロ
ック構成図、第3図( A)( B)は全体動作を示す
フローチャート、第4図はステム位置決め部の拡大斜視
図、第5図はヒータブロックの温度制御構成を示すブロ
ック回路図である。 l6・・・ステム(基体)、 24・・レーザチップ(半導体ヂップ)、30・・・ヒ
ータブロヅク、 36・・・冷却水循環用パイプ(冷却水伏給機構)、3
8・・・電磁弁(冷却水供給機構)、50・・・ロウ材
。
半導体レーザ実装機の全体構成斜視図、第2図は同ブロ
ック構成図、第3図( A)( B)は全体動作を示す
フローチャート、第4図はステム位置決め部の拡大斜視
図、第5図はヒータブロックの温度制御構成を示すブロ
ック回路図である。 l6・・・ステム(基体)、 24・・レーザチップ(半導体ヂップ)、30・・・ヒ
ータブロヅク、 36・・・冷却水循環用パイプ(冷却水伏給機構)、3
8・・・電磁弁(冷却水供給機構)、50・・・ロウ材
。
Claims (1)
- (1)ヒータブロックを備え、前記ヒータブロックに当
接加熱されることにより介在されるロウ材が溶融されて
半導体チップが基体に実装固着されるダイボンディング
装置において、 前記ヒータブロックが中空構成とされるとともに、前記
ヒータブロック内へ冷却水を供給するための冷却水供給
機構が備えられてなるダイボンディング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1303522A JPH03163838A (ja) | 1989-11-22 | 1989-11-22 | ダイボンディング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1303522A JPH03163838A (ja) | 1989-11-22 | 1989-11-22 | ダイボンディング装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03163838A true JPH03163838A (ja) | 1991-07-15 |
Family
ID=17922002
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1303522A Pending JPH03163838A (ja) | 1989-11-22 | 1989-11-22 | ダイボンディング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03163838A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20120091186A1 (en) * | 2010-10-18 | 2012-04-19 | Tokyo Electron Limited | Bonding apparatus |
CN106624702A (zh) * | 2016-12-02 | 2017-05-10 | 芜湖市泰能电热器具有限公司 | 一种电热铝管生产用封口材料供应装置 |
-
1989
- 1989-11-22 JP JP1303522A patent/JPH03163838A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20120091186A1 (en) * | 2010-10-18 | 2012-04-19 | Tokyo Electron Limited | Bonding apparatus |
US8210417B2 (en) * | 2010-10-18 | 2012-07-03 | Tokyo Electron Limited | Bonding apparatus |
CN106624702A (zh) * | 2016-12-02 | 2017-05-10 | 芜湖市泰能电热器具有限公司 | 一种电热铝管生产用封口材料供应装置 |
CN106624702B (zh) * | 2016-12-02 | 2018-09-14 | 芜湖市泰能电热器具有限公司 | 一种电热铝管生产用封口材料供应装置 |
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