JPH03163039A - ビニルフェニル化合物及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、新規なビニルフェニル化合物及びその製造方
法に関する。

（従来技術） 近年、特に記憶容量が大きく、ランダムアクセス可能な
情報記録媒体として光ディスクが注目され、その普及が
著しい。かかる光ディスクは、その種類により再生専用
型、追記専用型及び書換可能型に分類される。再生専用
型は、例えばビデオディスク、コンパクトディスク等に
応用され大規模な市場を形或するに至っている．一方、
追記専用型や書換可能型は、例えば文書ファイル、計算
機用ファイル、ビデオファイル等に応用されて一部市場
に出たものもあるが、さらに開発が進められている。こ
のような光ディスク用基板としては、複屈折が小さく、
透明性、耐熱性、耐吸湿性などの性質が要求され、特に
追記専用型や書換可能型は再生専用型に較べて上記した
性質がより優れていることが要求される。

光ディスク用基板を製造するためのモノマーとして本発
明者らは既に下記式 で示される化合物を提案した（特開昭６４−４２４４７
号公報）。上記の化合物及びこれと共重合可能なビニル
系単量体との混合物を重合することにより、良好な光デ
ィスク用基板を得ることができる。

（発明が解決しようとする課！！） しかしながら、上記の化合物は、これと共重合可能なビ
ニル系単量体への常温での溶解量が小さいという欠点が
あった。ディスク用基板の耐熱性等を改良するためには
、上記の化合物及びこれと共重合可能なビニル系単量体
の混合物中に占める上記の化合物の割合を高くする必要
がある。しかし、上述のとおり、上記の化合物の溶解性
が低いために、上記の化合物の割合を上げることができ
なかった。

ただ、上記の化合物を、これを共重合可能なビニル系単
量体に溶解させるときに１００〜１２０゜Ｃに加熱する
ことによって上記の化合物の溶解量を増加させることは
できるが、こうして得られた混合物は、冷却による上記
の化合物の析出を防止するために上記の温度に保持した
状態で重合が行なわれなければならず、その取扱いが容
易ではなかった。

（課題を解決するための手段） 本発明者らは、このような問題点に鑑み、共重合可能な
ビニル系単量体への常温での溶解性の大きいモノマーで
あって、複屈折、透明性、耐熱性、耐吸湿性に優れた光
ディスク用基板を与えるモノマーの探索を行なってきた
。その結果、上記した目的を達或する新規なモノマーの
合或に或功し、本発明を完威させるに至った。

即ち、 本発明は、 下記一般式（１） 示されるビニルフェニル化合物である。

本発明の前記一般式（１）中、Ｒｌ　，ＲＩ　　Ｒ４Ｒ
Ｓ及びＲ６で示されるアルキル基は特に限定されないが
、一般には炭素原子数１〜４個の直鎖状または分岐状の
飽和炭化水素基が好適であり、具体的には、メチル基、
エチル基、ｎ−プロビル基、ｉｓｏ−プロビル基、ｎ−
ブチル基及びｔ−ブチル基等が挙げられる。

また、前記一般式（１）中、Ｒ２で示されるアルール基
は炭素数に特に制限されるものではないが、例えば、フ
エニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフエ
ニル基等の炭素数６〜１２のアリール基が好適である。

さらに、Ｒ２で示されるアラルキル基は炭素数に特に制
限されるものではないが、例えば、ベンジル基、フェニ
ルエチル基、フエニルプロピル基、フエニルブチル基等
の炭素数７〜１０のアラルキル基が好適である．また、
前記一般式（１）中、ｍ及びｎは夫々１以上の整数であ
ればよいが、原料の入手の容易さから１〜４の整数が好
ましく、とくに１であることが好ましい。

本発明の前記一般式（１）で示される化合物の構造は、
次の手段によって！認することができる。

（イ）　赤外吸収スペクトル（ｉｒ）を測定することに
より、１　２　０　０ｃｔ−’〜１　２　７　５ｃｍ−
’にアリールアルキルエーテルの逆対称Ｃ−Ｏ−Ｃ伸縮
に基づく吸収を観察することができる。

（ロ）質量スペクトル（ｍｓ）を測定し、観察される各
ピーク（一般的にはイオン質量ｍをイオンの荷電数で除
したｍ／ｅで表わされる値）に相当する組戒式を算出す
ることにより、測定に供した化合物の分子量ならびに該
分子内における各原子団の結合様式を知ることが出来る
。すなわち、該化オンピークが、あるいは（Ｍ±１写の
位置に擬分子イオンピークが観察される。また、 クが観察され、該分子の結合様式を知ることができる． （ハ）ＩＨ一核磁気共鳴スペクトル（　’Ｈ−ＮＭＲ）
を測定することにより、前記一般式で表わされる本発明
の化合物中に存在する水素原子の結合様式を汁ことか出
来る。前記一般式（１）で示される化合物の’Ｈ−ＮＭ
Ｒ　（δｒ　ｐｐｍ’テトラメチルシラン基準、重クロ
ロホルム溶媒中）の代表例とシテ、１．１−ビス（４−
ビニルベンジルオキシフエニル）−１−フェニルエタン
について解析結果を示すと次のとおりである。

すなわち、２．　１　ｐｐｍにプロトン３個分に相当す
る一重線が認められ、メチル基（濁によるものと帰属で
きる。５．　０　ｐｐｍにプロトン４個分に相当する一
重線が認められ、ベンジル基中のメチレン基（ｅ）によ
るものと帰属できる。５．　１　ｐｐｍ〜５．　４　ｐ
ｐｍ付近にプロトン２個分に相当する４重線が認められ
、プロトン（ａ）　（Ｊ〜１　１８Ｚ）およびプｏ｝ン
（ｃ）（Ｊ〜２Ｈｚ）によって分裂するプロトン伽）に
よるものと帰属できる。５．　５　ｐｐｍ　〜５．　９
　ｐｐｍ付近に、プロトン２個分に相当する４重線が認
められ、プロトン（ａ）　（Ｊ　〜１　８　Ｈｚ）およ
びプロトン（ｂ）　（　Ｊ　〜２　Ｈｚ）によって分裂
するプロトン（Ｃ）によるものと帰属できる。６．　５
　ｐｐｍ　〜７．　３　ｐｐｍに、プロトン１５個分に
相当する多重線が認められ、ベンゼン環によって強く非
しゃへい化されたプロトン（ａ）とベンゼン環に置換し
たプロトン（ｆ）によるものと帰属できる。

７．４ｐｐｍにプロトン８個分に相当する一重線が認め
られ、ベンゼン環に置換したプロトン（ｄ）によるもの
と帰属できる。

（二）　元素分析によって炭素及び水素の各重量％を求
め、さらに、認知された各元素の重量％の和を１００か
ら減じることによって、酸素の重量％を算出することが
できる。

本発明のビニルフェニル化合物は、前記一般式（１）の
Ｒｌ〜Ｒ’，ｍ及びｎの種類によってその性状が多少異
なるが、一般に常温常圧においては淡黄色または白色の
固体である。

本発明の化合物は、ベンゼン、クロロホルム、トルエン
、テトラヒドロフランなどの有機溶媒には可溶であるが
、メタノール、エタノール等のアルコールおよび水には
ほとんど溶けない。

本発明の前記一般式（１）で示される化合物の製造方法
は特に限定されるものではない、具体的には後述する実
施例に詳述するが、 代表的な製造方法 を記述すれば以下のようになる。

一般式（２） で示されるビスフェノール化合物と下記一般式（３）Ｒ
？ で示されるビニル化合物とを反応させるこによつて、 前記一般式（１）で表わされる化合物を得ることが出来
る。

原料となる前記一般式（２）で表わされるビスフェノー
ル化合物及び前記一般式（３）で表わされるビニル化合
物は如何なる方法で得られたものでも使用出来る。両化
合物の仕込みモル比は必要に応じて適宜決定すればよい
が、通常、前記一般式（３）で表わされるビニル化合物
を前記一般式（２）で表わされるビスフェノール化合物
に対して当モル〜１０倍モルの範囲、好ましくは２倍モ
ル、もしくはそれよりやや過剰モルを使用するのが一般
的である。

本発明における前記反応の溶媒としては特に限定される
ものではない。該溶媒として好適に使用されるものを例
示すれば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、
ヘプタン、石油エーテル等の芳香族または脂肪族の炭化
水素類；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒド口
フラン等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン
等のケトン類；メタノール、エタノール、ｎ−ブタノー
ル等のアルコール類；アセトニトリル等のニトリル類ｉ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホル
ムアミド等のＮ．Ｎ−ジアルキルアミド類；ジメチルス
ルホキシド；水等が挙げられる。

前記の反応に於いては、塩基の存在下に反応させる方法
が好ましく採用される。中でも前記一般式（２）で示さ
れるビスフェノール化合物と塩基とを反応させてビスフ
エノキシドとし、次いで前記一般式（３）で示されるビ
ニル化合物を反応させる方法が特に好適である。

上記反応の塩基としては、特に限定されるものではなく
、公知の塩基が使用される。該塩基として好適に使用さ
れるものを例示すれば、ナトリウム、カリウム等のアル
カリ金属類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸バリウム、酸化銀等の
金属塩；トリメチルアミン、トリエチルアミン等のアミ
ン類：ナトリウムアミド；水素化ナトリウム等があげら
れる。塩基の仕込みモル比は、必要に応じて適宜決定す
ればよいが、通常、前記一般式〔２）で表わされるビス
フェノール化合物に対して当モル〜１０倍モルの範囲、
好ましくは２倍モルもしくはそれよりやや過剰モルを使
用するのが一般的である。

上記反応には触媒を用いることが好ましい。触媒として
は脱ハロゲン化水素によるエーテル結合生或反応におけ
る公知の触媒が何等制限なく用いられるが、好適に使用
されるものを例示すれば、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カ
リウム等があげられる。触媒の仕込みモル比は、必要に
応じて適宜決定すればよいが、通常、前記一般式（３）
で表わされるビニル化合物に対して１モル％〜当モルの
範囲、好ましくは５モル％もしくはそれよりやや過剰モ
ルを使用するのが一般的である。

前記反応における温度は、前記一般式（３）で表わされ
るビニル化合物が反応中重合しないような温度、一般に
は−２０’Ｃ〜８０゜Ｃ１好ましくは０゜Ｃ〜４０゜Ｃ
の範囲から選べば十分である。反応時間は原料の種類に
よってもちがうが、通常５分〜１０日間、好ましくは１
〜４０時間の範囲から選べば十分である。また反応中に
おいては撹拌を行なうのが好ましい。

反応系から目的生底物すなわち前記一般式（１）で示さ
れる化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知の
方法を採用出来る。例えば、反応液を冷却または自然放
冷で、室温またはその近くにもどし、反応溶媒を留去し
た後、残査を塩化メチレンで抽出する。上記操作で未反
応のビスフェノール化合物および副生ずる塩及び高分子
量化合物を分離する。該塩化メチレン層については芒硝
、塩化カルシウム等の乾燥剤で乾燥した後、塩化メチレ
ンを留去し、残査を再結晶することによって目的物を取
得する。

前記一般式（１）で表わされる化合物は、架橋剤として
共重合可能なビニル系単量体中に配合して注型重合する
ことができる。得られる樹脂は特に複屈折が改良される
とともに、良好な耐熱性及び低吸湿性を満足するため、
特に追記専用型や書換可能型としてのディスク基板とし
て有用である。

本発明に用いられる前記一般式（１）で表わされる化合
物と共重合可能なビニル系単量体としては、ディスク基
板などを得るために注型重合に供せられる従来公知の単
量体であれば特に限定されず、例えばスチレン、ビニル
トルエン、α−メチルスチレン、クロロスチレン、フル
オロスチレン、プロモスチレン、プチルスチレン、ｔｒ
ａｎｓ−スチルベン、ジビニルベンゼンなどのスチレン
およびその誘導体；メチルメタクリレート、エチルメタ
クリレート、プチルメタクリレート、フエニルメタクリ
レート、ペンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタ
クリレート、ボルニルメタクリレート、インボルニルメ
タクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレー
ト、プチルアクリレート、フェニルアクリレート、ペン
ジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ボル
ニルアクリレート、イソボルニルアクリレート、下記式
（ａ）又はΦ） （但し、Ａはアクリロイル基、メタクリロイル基、アリ
ル基又はメタリル基であり、ｍおよびｎはＯ以上の整数
である。） で示される多環式化水素含有化合物、 下記式（Ｃ） （Ｃ） （但し、Ｒ，及びＲ２は各々水素又はメチル基であり、
ｍ及びｎはＯ以上の整数である。）で示される化合物等
のアクリル系、メタクリル系、アリル系またはメタリル
系の各種化合物；無水マレイン酸、マレイン酸、フエニ
ル無水マレイン酸などのマレイン酸及びその誘導体；Ｎ
−メチルマレイ旦ド、Ｎ−フェニルマレイミド等のマレ
イミド誘導体などが挙げられる。

これらの中でも、前記一般式（１）で示される化合物と
の共重合体が良好で、且つ吸湿性の低いデイスク基板を
得るためには特にスチレン及びその誘導体を用いること
が好ましい。なお、目的とするディスク基板における他
の物性の向上を図るために、上記のビニル系単量体と共
重合可能な他の単量体を併用することも出来る。

さらに、上記の単量体混合物に、本発明の目的の達戒を
阻害しない範囲で、例えば酸化防止剤、光安定剤、離型
剤、帯電防止剤などを混合してもかまわない。

本発明における前記一般式（１）で表わされる化合物は
、該化合物と共重合可能な他のビニル系単量体に常温に
おいてよく溶ける。これらの化合物の配合割合は、広い
範囲から採用されるが、一般に本発明の効果を十分に発
揮させるためには、前記一般式（１）で表わされる化合
物が５〜７５重量％、好ましくは２０〜７０重量％、該
化合物と共重合可能な他のビニル系単量体が９５〜２５
重量％、好ましくは８０〜３０重量％となるように選ぶ
のがよい。

また、さらに耐熱性、低吸湿性を維持したまま複屈折、
特に斜め３０゜入射複屈折をを小さくするためには、ス
チレン系単量体１０〜５０重量％、前記一般式（１）で
表わされる化合物が３０〜６５重量％、（イソ）ボルニ
ルメタクリレート、（イソ）ボニルアクリレート、前記
一般式（ａ）及び（ロ）で示される多環式炭化水素、含
有化合物が５〜５０重量％となるように選ぶのがよい。

光学用樹脂を得る場合には、上記した単量体混合物を一
般に注型重合の方法により重合することが好ましい。注
型重合法は特に制限なく用いられ、例えば、本発明のビ
ニルフェニル化合物及び該化合物と共重合可能な他のビ
ニル系単量体を混合した組或物に、例えばビス−（４−
ｔ−プチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート
、ペンゾイルパーオキサイド等の過酸化物系、アゾ系な
どのラジカル開始剤を所定量混合し、重合用金型中に注
入し、脱泡後に所定温度で所定時間の重合を行なう方法
である。この際、重合用金型として、案内溝またはピッ
トが記された金属原板を用い、直接に基板に案内溝やピ
ットの転写を行なってもよいし、所定の厚さの注型重合
板を作威した後、その板から円板を切り出しても良い。

また、所定量の単量体混合物に光増感剤を配合し、これ
を所定の間隔を有するガラス製のモールドに注入し、紫
外線、放射線の照射などで重合しても良い。

（効　果） 本発明の前記一般式（１）で示されるビニルフエニル化
合物は、他の共重合可能なビニル系単量体に常温でよく
溶解する。このため、前記一般式（１）で示されるビニ
ルフェニル化合物と他の共重合可能なビニル系単量体の
混合物中に占める前記ビニルフェニル化合物の割合の高
い混合物かえられるため、耐熱性や耐吸湿性により一層
優れた重合体が得られる。また、前記ビニルフェニル化
合物は、常温における溶解性が高いために、重合操作中
での冷却による該ビニルフェニル化合物の析出の心配も
ない。

本発明の前記一般式（１）で示されるビニルフエニル化
合物を架橋剤として、他の共重合可能なビニル系単量体
を配合して得た共重合体は、光学用有機ガラスとして極
めて良好な次のような性質を有している。即ち、垂直入
射複屈折１５ｎｍ以下、特に１０ｎｍ以下、斜め３０″
′入射複屈折１００ｎｍ以下、特に５０ｎｎ＋以下、全
光線透過率８５％以上、特に９０％以上、ガラス転位温
度１００″Ｃ以上、特に１３０″Ｃ以上及び吸水率０．
　２％以下、特に０．１％以下等の優れた物性を有する
。

従って、本発明の前記一般式（１）で示されるビニルフ
ェニル化合物は、光ディスク基板のみならず、メガネレ
ンズ、光学機器用レンズ等の光学レンズやプリズム、光
ファイバー等の光学用有機ガラスの製造に好適な化合物
である。

（実施例） 本発明を更に具体的に説明するために、以下、実施例及
び比較例を挙げるが、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。

実施例ｌ ｐ−クロロメチルスチレン０．５ｍｏｌ　と、ビスフェ
ノールとして１−フェニル−１．１−ビス（４ーヒドロ
キシフェニル）エタンをｌｍｏｌ使用し、さらに水酸化
ナトリウム１１１０１％ヨウ化カリウム０．０５ｍｏｌ
、メタノール１０００ｍｆを３１のフラスコに仕込み室
温で１５時間反応させた。反応終了後、冷却し、沈澱物
を濾過後、目的物を塩化メチレンで抽出し、希水酸化ナ
トリウム水溶液、水の順序で洗浄後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。次いで、塩化メチレンを減圧で留去した
後、アセトンーメタノールで再結晶させ、白色の結晶を
得た。

この化合物の赤外吸収スペクトルは、第１図に示すとお
りであり、１２４０Ｃ１＋１−’付近にＣ−Ｏ−Ｃ結合
に基づく強い吸収を示した。また、−０Ｈに基づく吸収
は見られなかった。

元素分析値は、Ｃ　８　７．　２　６％、Ｈ　６．　６
　５％であり、組戒式ＣｓｅＨｓ４０ｇ　　（　５　２
　２．　６　９　）に対する計算値であるＣ　８　７．
　３　２％、Ｈ　６．　５　６％に良く一致していた。

また、質量スペクトルを測定したところ、ｍ／ｅ５２３
に分子量に対応する分子イオンピーク応する強いビータ
を示した。

さらに、′Ｈ一核磁気共鳴スペクトル（δ；ｐｐｍ　　
：テトラメチルシラン基準、重クロロホルム溶媒）を測
定した結果を第２図に示した。その解析結果は次のとお
りである。

すなわち、２．１ｐｐｍにプロトン３個分に相当する一
重線が認められ、メチル基（濁によるものと帰属できる
。５．　０　ｐｐｍにプロトン４個分に相当する一重線
が認められ、ベンジル基中のメチレン基（ｅ）によるも
のと帰属できる。５．　１　ｐｐｍ〜５．　４　ｐｐｍ
付近にプロトン２個分に相当する４重線が認められ、プ
ロトン（ａ）（Ｊ〜１１Ｈｚ）およびプロトン（Ｃ）（
Ｊ〜２ＨＺ）によって分裂するプロトン（ｂ）によるも
のと帰属できる。５．５ρｐＩｌ１〜５．　９　ｐｐｍ
付近に、プロトン２個分に相当する４重線が認められ、
プロトン（ａ）　（Ｊ＝１　８Ｈｚ）およびプロトン（
ｂ）（Ｊ〜２Ｈｚ）によって分裂するプロトン（Ｃ）に
よるものと帰属できる。６．　５　９Ｉ）Ｉｌ１　〜７
．　３　ｐｐｍに、プロトン１５個分に相当する多重線
が認められ、ベンゼン環によって強く非しゃへい化され
たプロトン（ａ）とベンゼン環に置換したプロトン（ｆ
）によるものと帰属できる．７．　４　ｐｐｍにプロト
ン８個分に相当する一重線が認められ、ベンゼン環に置
換したプロトン（ｄ）によるものと帰属できる。

以上の結果から、単離生成物が、１，１−ビス（４−ビ
ニルベンジルオキシフェニル）−１−フエニルエタン（
以下、ＣＳ−Ａと称する。）であることが明らかとなっ
た。

実施例２〜７ 実施例ｌにおいて、原料であるビスフェノールとして次
のビス（４−ヒドロキシフェニル）フヱニルメタン、１
．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−（４−メ
チルフェニル）エタン、１−ビフエニル−１．１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１．１−ビス（３
−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フエニルエ
タン、■−フェニルー２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン及び１．１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−２−フェニルエタンを使用した他は実施例ｌ
と全く同様にして各種のビニルフェニル化合物を合成し
た。得られたビニルフェニル化合物の構造式、’Ｈ−Ｎ
ＭＲの分析値及び元素分析結果を第１表に示した。

実施例日 原料であるビニル化合物として、クロルメチルスチレン
のｍ一対とｐ一体のモル比６：４の混合物を用いた他は
、実施例ｌと全く同様にしてビニルフエニル化合物を得
た。得られたビニルフェニル化合物の構造式、’Ｈ−Ｎ
ＭＲの分析値及び元素分析結果を下記に示した。

Ｈ−ＮＭＲ δ＝２．ＩＰＰＭ　　（３Ｈ　　（濁）＝５．０ＰＰＭ
　　（４Ｈ　　（ｅ））＝５．１〜５．４ＰＰＭ　　（
２Ｈ 〜）） ＝５．５〜５．９ＰＰＭ　　（２Ｈ　　（Ｃ））＝６．
５〜７．３ＰＰＭ　　（１５Ｈ　　（ｃ）及び（ｆ））
＝７．４ＰＰＭ　　（８Ｈ　　（ｄ））用途例１ 実施例１〜８で合威された本発明のビニルフエニル化合
物を用いて重合体を製造した。

本発明のビニルフェニル化合物及びこれと共重合可能な
ビニル系単量体を２０゜Ｃにおいて所定の比率で配合し
、重合開始剤として、ｌ−ヒドロキシシクロへキシルフ
エニルケトン０．　３重量部を混合し、脱泡後、２枚の
ガラス板とテフロンチューブで構成されたモールドの中
へ注入し、紫外線重合を行なった。重合終了後、重合体
をガラスモールドから離型し、厚さ１．２ｎｍ、直径１
３０ｍｍで無色透明のディスク基板を得た。得られたデ
ィスク基板の物性を第２表に示した。

尚、従来の架橋剤を用いた例を比較として第２表に併記
した。

得られたディスク基板の材料は、以下の試験方法によっ
てその物性を測定した。

（ｉ）複屈折：厚さＩ．２ｍｍの板を作り、高精度自動
複屈折測定装置にて垂直人射及 び３０゜斜め入射の複屈折を測定。

（１１）全光線透過率：厚さ１．２ｍｍの板を作り、Ｊ
ＩＳ−Ｋ−７１０５に従い測定。

（ｉｉｉ）ガラス転移温度：示差走査熱量計にて測定。

（ｉｖ）吸水率：　ＪＩＳ−Ｋ−６９１１に従い測定。

ただし、表中のビニルフェニル化合物の欄に記載された
ＤＶＢ　ＳＢＧＤＭＡ　，　ＢＰＡＤＭＡ，　｝ＩＤＤ
ＳＭＥ及びＢＰＡＤＳ？ｌＨは次の化合物を示す。

ＤＶＢ　　　　：ジビニルベンゼン ＥＧＤＭＡ　　：エチレングリコールジメタクリレート
．　ＢＰＡＤＭＡ　：ビスフェノールＡジメタクリレー
トＨＤＤＳＭＥ　７　１．６−ヘキサンジオールジスチ
ルメチルエーテル ＢＰＡＤＳＭＥ　：ビスフェノールＡジスチリルメチル
エーテル 表中、Ｎα１２〜ｌ８は比較例である。

用途例２ 本発明のビニルフェニル化合物、スチレン系単量体及び
多環式炭化水素のアルコールとメタクリル酸またはアク
リル酸のエステルを所定の温度において所定の比率で配
合し、用途例１て示した方法と全く同様にしてディスク
基板を得た。得られたディスク基板の物性を第３表に示
した。なお、それぞれの物性値は、用途例１で示した方
法と同様な試験方法で測定した値である。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は、実施例１て得られたビニルフェニ
ル化合物の赤外吸収スペクトル及びＩＨ一核磁気共鳴ス
ペクトルのチャートである。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、Ｒ＾１、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５及びＲ＾６は
   、夫々同種又は異種の水素原子又はアルキル基であり、
   Ｒ＾２は、アリール基又はアラルキル基であり、ｍ及び
   ｎは１以上の整数である。〕 示されるビニルフェニル化合物。
2. （２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、Ｒ＾１、Ｒ＾４及びＲ＾５は、夫々同種又は異
   種の水素原子又はアルキル基であり、Ｒ＾２は、アリー
   ル基又はアラルキル基である。〕 で示されるビスフェノール化合物と下記一般式▲数式、
   化学式、表等があります▼ 〔但し、Ｒ＾７は水素原子又はアルキル基であり、ｌは
   １以上の整数であり、Ｘはハロゲン原子である。〕 で示されるビニル化合物とを反応させることを特徴とす
   る特許請求の範囲第（１）項記載のビニルフェニル化合
   物の製造方法。
3. （３）特許請求の範囲第（１）項記載のビニルフェニル
   化合物及びこれと共重合可能なビニル単量体との共重合
   体よりなることを特徴とする有機ガラス。