JPH03157388A - シラノール類の製造方法 - Google Patents

シラノール類の製造方法

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JPH03157388A
JPH03157388A JP29540089A JP29540089A JPH03157388A JP H03157388 A JPH03157388 A JP H03157388A JP 29540089 A JP29540089 A JP 29540089A JP 29540089 A JP29540089 A JP 29540089A JP H03157388 A JPH03157388 A JP H03157388A
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JP
Japan
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reaction
aromatic nitro
hydrosilane
hydrogen
mmol
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Application number
JP29540089A
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English (en)
Inventor
Yoko Kosugi
洋子 小杉
Hitoshi Koike
小池 均
Shigeki Higuchi
重樹 樋口
Yoshitaka Naoi
嘉威 直井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yuki Gosei Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Yuki Gosei Kogyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はシラノール類の製造方法に関するものであり、
さらに詳しくはヒドロシラン類を白金族金属触媒および
芳香族ニトロ化合物の共存下に、加水分解反応を行うこ
とからなるシラノール類の製造方法に関する。
〔従来の技術および発明が解決すべき問題点〕シラノー
ル類の製造法としては、■ヒドロシラン類を白金族金属
触媒の存在下に加水分解する方法が、ザジャーナルオブ
オーガニツクケミストリー(The Journal 
of Organic Chemistry) 31.
885 (1966)に開示されているが、この方法で
は大量の水素を発生するためきわめて危険であり、工業
的には発生した水素の処理をいかに行うかが重要な課題
となっている。また■ヒドロシラン類を銅または酸化銀
などの触媒の存在下に酸化する方法は、反応終了後の触
媒の処理が繁雑であり、■アルコキシシランまたはハロ
ゲノシランを酸、塩基またはバッファー水溶液を用いて
加水分解する方法は、微妙なpHコントロールを必要と
するなど、いずれの方法も工業的な製造法には適してい
ない。
C問題点を解決するための手段〕 本発明者らは、ヒドロシラン類を白金族金属触媒の存在
下に加水分解を行うさいに発生する水素を吸収し、加水
分解反応をより容易に進行させる方法につき検討を重ね
た結果1反応系に芳香族ニトロ化合物を共存させること
により。
本発明の目的を達成することを見い出し、本発明を完成
したものである。
本発明の原料であるヒドロシラン類としては、laf以
上のシリル基(Siに結合した1llilまたは2個以
上の水素原子を有し、それ以外のSiの結合手は低級ア
ルキル基またはアリール基で置換されていてもよい。)
を有する化合物、であればなんでもよく、このシリル基
に対応するシラノール基を有する化合物を生成する。
本発明で使用される白金族金属触媒としては、パラジウ
ム、ロジウム、ルテニウム、白金が用いられ、通常は活
性炭、アルミナ、ケイソウ上。
シリカ、硫酸バリウム等の担体に担持させて用いる。担
体中の触媒金属含量は通常0.002〜2重量%、好ま
しくは0.02〜0.5重量%(金属換算量)が用いら
れる。
また、芳香族ニトロ化合物としては、置換基を有するこ
ともあるニトロベンゼン類、ニトロナフタレン類、ニト
ロビフェニル類であり、置換基としては低級アルキル基
、エステル基、アミド基、トリフルオロメチル基、アル
コキシ基等である。芳香族ニトロ化合物の具体例として
は、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、ニトロトルエ
ン、ニトロキシレン、ニトロ安息香酸メチルエステル、
ニトロ安息香酸エチルエステル、ニトロ安息香酸アミド
、ニトロアニソール、ニトロベンゾニトリル、ニトロベ
ンゾトリフロリドなどのニトロベンゼン類、α−ニトロ
ナフタレン、β−ニトロナフタレン、2,6−シニトロ
ナフタレンなどのニトロナフタレン類、4ニトロビフエ
ニル、4,4′−ジニトロビフェニル、2,2′−ビス
(トリフルオロメチル)−4,4’−ジニトロビフェニ
ル、3,3′ビス(トリフルオロメチル)−4,4’ 
−ジニトロビフェニルなどのニトロビフェニル類が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。
最も代表的な芳香族ニトロ化合物としては、ニトロベン
ゼンが例示される。
本発明の加水分解反応において使用する芳香族ニトロ化
合物は、原料であるヒドロシラン類のシリル基が有する
水素原子1個に対し1/3当量以上用いるのが最適であ
る。白金族金属触媒の使用量はヒドロシラン類に対して
1通常0.002〜2重量%、好ましくは0.02〜O
,S重量%(金属換算量)が用いられる。
また、本加水分解反応において使用する水の量はヒドロ
シラン類に対して0.05〜100重量%が好ましい。
反応はテトラヒドロフラン、1゜4−ジオキサン、1.
2−ジメトキシエタン等の親水性エーテルを溶媒として
用いるのが好適であり、反応温度0〜100℃、好まし
くは0〜40℃で、反応時間0.1〜24時間1時間1
ロ常1〜5時間で反応は完結する。反応終了後、蒸留ま
たは再結晶等の通常の単離・精製手段により精製し、ヒ
ドロシラン類に対して85%以上の高収率でシラノール
類が得られる。
〔実施例〕
以下に実施例を示すが1本発明の方法はこれら実施例に
示す特定の化合物に限定されるものではなく、シリル基
をシラノール基に変換するすべての反応に適用できる。
実施例1 温度計、冷却管、滴下ロートおよびマグネティックスタ
ーラーを備えたloom Q三つ口反応フラスコに、2
%パラジウム−カーボン0.10g、水2.5g (1
39ミリモル)、ニトロベンゼン4.2g (34,3
ミリモル)、テトラヒドロフラン30mQを仕込み、こ
れにテトラヒドロフラン10mQに溶解した1、4−ビ
ス(ジメチルシリル)ベンゼンto、og (51,4
ミリモル)を、反応温度を20〜30℃に保ちながら3
0分間で滴下し、引続き20〜30℃で30分間撹拌を
続け、反応を完結させた。この間、水素の発生はまった
く認められなかった。反応終了後、触媒を決別し、炉液
を減圧下に濃縮し、残渣をトルエンを用いて再結晶を行
い、白色結晶の1,4−ビス(ジメチルヒドロキシシリ
ル)ベンゼン10.6 gを得た。収率91%。
融点:137〜138℃ CH,CH。
CH,CH。
実施例2 実施例1と同一の反応フラスコに、2%パラジウム−カ
ーボン0.10g、水1.8g (100ミリモル)、
ニトロベンゼン3.1g(25ミリモル)、テトラヒド
ロフラン30+++ Itを仕込み、これにテトラヒド
ロフランlO■aに溶解した4、4′ビス(ジメチルシ
リル)−1,1’ −ビフェニル10.0g (37ミ
リモル)を1反応部度を20〜30℃に保ちなか・ら3
0分間で滴下し、引続き20〜30℃で1時間撹拌を続
け、反応を完結させた。この間、水素の発生はまったく
認められなかった。
反応終了後、実施例1と同様の処理を行い、白色結晶の
4,4′−ビス(ジメチルヒドロキシシリル)−1,1
’ −ビフェニル10.0gを得た。
収率89%。
融点:177〜179℃ 実施例3 実施例1と同一の反応フラスコに、2%パラジウム−カ
ーボン0.10g、水1.7g (94ミリモル)、ニ
トロベンゼン2.8g (23ミリモル)、テトラヒド
ロフラン30ta Qを仕込み、これにテトラヒドロフ
ラン10m Qに溶解した4、4’ −ビス(ジメチル
シリル ルエーテル10.0g (34.9ミリモル)を、反応
温度を20〜30℃に保ちながら1時間を要して滴下し
、引続き20〜30℃で30分間撹拌を続け、反応を完
結させた。この間,水素の発生はまったく認められなか
った。反応終了後、実施例1と同様に減圧濃縮し、残渣
をシクロヘキサンを用いて再結晶を行い,白色結晶の4
,4′−ビス(ジメチルヒドロキシシリル)−1.1’
 −ジフェニルエーテル10.5 gを得た。収率94
%。
融点:98〜100℃ CH,          CH。
↓ 実施例4 実施例1のニトロベンゼンの代わりに4−二トロペンゾ
トリフロリド6.5g (34.2ミリモル)を用いた
ほかは、実施例1と同様の操作を行い。
白色結晶の1,4−ビス(ジメチルヒドロキシシリル)
ベンゼン10.5 gを得た。収率9o%。なお、反応
中の水素の発生はまったく認められなかった。
融点:137〜138℃ 実施例5 実施例1の1,4−ビス(ジメチルシリル)ベンゼンの
代わりにジフェニルシラン9.5g (51、4ミリモ
ル)を用いたほかは、実施例1と同一の条件で反応を行
った.反応中の水素の発生はまったく認められなかった
。反応終了後、実施例1と同様に減圧濃縮し,残渣を水
/アセトン=50150の混合溶媒を用いて再結晶を行
い、白色結晶のジフェニルジヒドロキシシラン9.6g
を得た.収率86%。
融点:138〜139℃ OH OH 実施例6 実施例1と同一の反応フラスコに、2%パラジウム−カ
ーボンO,lOg、水2.5g (139ミリモル)、
4−ニトロ−〇−キシレン4.3g (28,7ミリモ
ル)、テトラヒドロフラン30ya Qを仕込み、これ
にテトラヒドロフラン10m Qに溶解したトリエチル
シランlo、og (86,0ミリモル)を、実施例1
と同一の条件で滴下し反応を行った。
反応中の水素の発生はまったく認められなかった。反応
終了後、触媒を決別し、炉液を減圧蒸留してトリエチル
シラノール10.6 gを得た。収率93%。
沸点ニア7〜78℃/28 Torr (CzHs)sSiH−一→(C,H,)SiOH比較
例1 実施例1の仕込組成よりニトロベンゼンを除いたほかは
、実施例1と同様の反応を行ったが。
生成物は得られなかった51,4−ビス(ジメチルシリ
ル)ベンゼンの滴下中、激しく水素を発生し、反応のコ
ントロールはきわめて困難であった。
比較例2 実施例1のニトロベンゼンの代わりにベンズアルデヒド
5.5 g (51,4ミリモル)を用い、反応温度2
0〜30℃で24時間反応した。反応中は継続的に水素
の発生が認められた。反応終了後、実施例1と同様の処
理を行い、白色結晶の1,4−ビス(ジメチルヒドロキ
シシリル)ベンゼン4.4gを得た。収率38%。
融点=137〜138℃ 比較例3 実施例1のニトロベンゼンの代わりに2−二トロプロパ
ン4.6g (51,4ミリモル)を用い。
比較例2と同様の反応および後処理を行い、白色結晶の
1.4−ビス(ジメチルヒドロキシシリル)ベンゼン8
.1gを得た。収率70%。
なお、反応中は継続的に水素の発生が認められた。
融点:137〜138℃ 〔発明の効果〕 本発明は、反応系に芳香族ニトロ化合物を共存させるこ
とにより、芳香族ニトロ化合物が加水分解反応のさい発
生する水素を効率よく吸収するため、反応中に大量に発
生する水素の反応系外への放出を阻止するもので、工業
的規模での生産の安全性を確保するものである。
また1本発明で生成するシラノール類は、PHの変動に
より容易に重合するものであるが。
反応系に共存した芳香族ニトロ化合物の還元生成物であ
る芳香族アミン化合物のバッファ効果によりシラノール
類は安定に存在するという効果を有する。
本発明で得られるシラノール類は、シリコンオイルやシ
リコンゴム等のシリコーン製品に利用されるものであり
、またシリコン含有ポリエーテル、ポリエステル等の素
材として広範囲な用途を有するものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、ヒドロシラン類を白金族金属触媒の存在下に加水分
    解してシラノール類を製造する方法において、芳香族ニ
    トロ化合物を共存させることを特徴とするシラノール類
    の製造方法。
JP29540089A 1989-11-14 1989-11-14 シラノール類の製造方法 Pending JPH03157388A (ja)

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