JPH03156425A - カラーフィルターの製造方法 - Google Patents
カラーフィルターの製造方法Info
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- JPH03156425A JPH03156425A JP1295904A JP29590489A JPH03156425A JP H03156425 A JPH03156425 A JP H03156425A JP 1295904 A JP1295904 A JP 1295904A JP 29590489 A JP29590489 A JP 29590489A JP H03156425 A JPH03156425 A JP H03156425A
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- Japan
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- color filter
- transparent electrode
- forming
- pixels
- electrodes
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- Pending
Links
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、液晶デイスプレィ等のフラットデイスプレィ
に使用されるカラーフィルターの製造方法に関するもの
である。
に使用されるカラーフィルターの製造方法に関するもの
である。
従来の技術
従来、液晶デイスプレィ等のフラットデイスプレィに使
用されるカラーフィルターは第６図の様な構成をしてい
る。ガラス基板１上にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の
画素２がパターニングされており、その上をアクリル系
の樹脂の保護膜３が覆い、その上に、パターニングされ
た透明電極（ＩＴＯ等）４が形成されていも このカラ
ーフィルターの製造方法は第７図（ａ）に示すようにガ
ラス基板ｌ上にフォトリソグラフィ工程を用いてＲ，Ｇ
、 Ｂの画素２を形成する。次に第７図（ｂ）に示す
ようにＲ，Ｇ、 Ｂの画素２の上にアクリル系の樹脂
を塗布し Ｒ，Ｇ、 Ｂの画素２の保護膜３を形成す
も 次に第７図（Ｃ）に示すように保護膜３の上にスパ
ッタリング法等の手法を用いて透明電極（ＩＴＯ等）４
を製膜する。次に 第７図（ｄ）に示すよう番へ こ
の透明電極（ＩＴＯ等）４の上にレジストを塗布し フ
ォトリソグラフィによりレジストのマスク５を形成する
。次（ミ第７図（ｅ）に示すように リン酸系のエツチ
ング溶液によりエツチングを行（＼ 透明電極（ＩＴＯ
等）４をパターニングする。最後に 発煙硝酸を用いて
レジストのマスク５を取り除くことで、第７図（ｆ）に
示すよう４ミ カラーフィルターが形成される。
用されるカラーフィルターは第６図の様な構成をしてい
る。ガラス基板１上にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の
画素２がパターニングされており、その上をアクリル系
の樹脂の保護膜３が覆い、その上に、パターニングされ
た透明電極（ＩＴＯ等）４が形成されていも このカラ
ーフィルターの製造方法は第７図（ａ）に示すようにガ
ラス基板ｌ上にフォトリソグラフィ工程を用いてＲ，Ｇ
、 Ｂの画素２を形成する。次に第７図（ｂ）に示す
ようにＲ，Ｇ、 Ｂの画素２の上にアクリル系の樹脂
を塗布し Ｒ，Ｇ、 Ｂの画素２の保護膜３を形成す
も 次に第７図（Ｃ）に示すように保護膜３の上にスパ
ッタリング法等の手法を用いて透明電極（ＩＴＯ等）４
を製膜する。次に 第７図（ｄ）に示すよう番へ こ
の透明電極（ＩＴＯ等）４の上にレジストを塗布し フ
ォトリソグラフィによりレジストのマスク５を形成する
。次（ミ第７図（ｅ）に示すように リン酸系のエツチ
ング溶液によりエツチングを行（＼ 透明電極（ＩＴＯ
等）４をパターニングする。最後に 発煙硝酸を用いて
レジストのマスク５を取り除くことで、第７図（ｆ）に
示すよう４ミ カラーフィルターが形成される。
発明が解決しようとする課題
ここで、カラーフィルターの製造方法ζよ 上記のよう
に工程数が多く、複雑なた敢 製造コストが高くつき、
製品の低コスト化の障害となっていた。
に工程数が多く、複雑なた敢 製造コストが高くつき、
製品の低コスト化の障害となっていた。
本発明は上記のような課題を解決するた八 製造工程数
の削減を可能とするカラーフィルターの製造方法を提供
することを目的とする゛ものである。
の削減を可能とするカラーフィルターの製造方法を提供
することを目的とする゛ものである。
課題を解決するための手段
本発明のカラーフィルターの製造方法（友 基板上に透
明電極を製膜し その上に着色レジストによる画素を形
成し この着色レジストにより形成された画素をマスク
として透明電極のエツチングを行うものである。
明電極を製膜し その上に着色レジストによる画素を形
成し この着色レジストにより形成された画素をマスク
として透明電極のエツチングを行うものである。
作用
本発明は上記した手段により、画素の保護膜の形成工）
μ 透明電極をパターニングするためのフォトリソグラ
フィによるレジストのマスクの形成工渫 および、その
レジストのマスクの除去工程がなくなる。
μ 透明電極をパターニングするためのフォトリソグラ
フィによるレジストのマスクの形成工渫 および、その
レジストのマスクの除去工程がなくなる。
実施例
以下、本発明の一実施例を添付図面に基づいて説明する
。
。
第１図に本発明により製造されたカラーフィルターの概
略構成図を示す。ガラス基板１上にパタニングされた透
明電極（Ｉ Ｔｏ等）４とパターニングされたＲ、
Ｇ、 Ｂの画素２が形成されている。次へ 本発明の
実施例に係わるこのカラーフィルターの製造方法を示す
。先ず第２図（ａ）に示すようにガラス基板１上にスパ
ッタリング等の手法を用いて透明電極（ＩＴＯ等）４を
製膜する。
略構成図を示す。ガラス基板１上にパタニングされた透
明電極（Ｉ Ｔｏ等）４とパターニングされたＲ、
Ｇ、 Ｂの画素２が形成されている。次へ 本発明の
実施例に係わるこのカラーフィルターの製造方法を示す
。先ず第２図（ａ）に示すようにガラス基板１上にスパ
ッタリング等の手法を用いて透明電極（ＩＴＯ等）４を
製膜する。
次に第２図（ｂ）に示すようにフォトリソグラフィ工程
を用いて着色レジストによるＲ、 Ｇ、 Ｂの画素
２を形成する。次に第２図（ｃ）に示すようｃ’＝
Ｒ，Ｇ、 Ｂの画素２をマスクとしてリン酸系のエツ
チング溶液によりエツチングを行（＼ 透明電極（ＩＴ
Ｏ等）４をパターニングすることによりカラーフィルタ
ーが形成される。上記製造方法により、Ｒ，Ｇ、 Ｂ
の画素２の保護膜の形成工保そして、透明電極（ＩＴＯ
等）４をパターニングするレジストのマスクを形成する
フォトリソグラフィ工程とレジストのマスクを除去する
工程が削減されも よって、本発明のカラーフィルターは製造コストの低減
を可能とするものであも な抵 本実施例において、Ｒ，Ｇ、 Ｂの画素は直線
状の形状をしているＭ Ｒ，Ｇ、 Ｂの画素がセル
形状をａ ざらをζ ブラックマトリックスを設ける場
合、第３図に示すように透明電極（ＩＴＯ等）４の製膜
を行った後、透明電極（Ｉ Ｔｏ等）４がパターニング
され電極として残る領域にのへＲ，ＧＳＢの画素２とブ
ラックマトリックスの一部６を形成し 次に第４図に示
すように透明電極（ＩＴＯ等）４のエツチングをＲ，Ｇ
、 Ｂの画素２とブラックマトリックスの一部６をマ
スクとして行（＼ 次に第５図に示すように残りのブラ
ックマトリックス７を形成することにより、カラーフィ
ルターが形成されも それ故、保護膜の形成工＋ｉ
透明電極をパターニングするレジストのマスクを形成す
るフォトリソグラフィ工程と、 レジストのマスクを除
去する工程がなくなるた八 カラーフィルターの全製造
プロセスでは工程数の削減が行える。
を用いて着色レジストによるＲ、 Ｇ、 Ｂの画素
２を形成する。次に第２図（ｃ）に示すようｃ’＝
Ｒ，Ｇ、 Ｂの画素２をマスクとしてリン酸系のエツ
チング溶液によりエツチングを行（＼ 透明電極（ＩＴ
Ｏ等）４をパターニングすることによりカラーフィルタ
ーが形成される。上記製造方法により、Ｒ，Ｇ、 Ｂ
の画素２の保護膜の形成工保そして、透明電極（ＩＴＯ
等）４をパターニングするレジストのマスクを形成する
フォトリソグラフィ工程とレジストのマスクを除去する
工程が削減されも よって、本発明のカラーフィルターは製造コストの低減
を可能とするものであも な抵 本実施例において、Ｒ，Ｇ、 Ｂの画素は直線
状の形状をしているＭ Ｒ，Ｇ、 Ｂの画素がセル
形状をａ ざらをζ ブラックマトリックスを設ける場
合、第３図に示すように透明電極（ＩＴＯ等）４の製膜
を行った後、透明電極（Ｉ Ｔｏ等）４がパターニング
され電極として残る領域にのへＲ，ＧＳＢの画素２とブ
ラックマトリックスの一部６を形成し 次に第４図に示
すように透明電極（ＩＴＯ等）４のエツチングをＲ，Ｇ
、 Ｂの画素２とブラックマトリックスの一部６をマ
スクとして行（＼ 次に第５図に示すように残りのブラ
ックマトリックス７を形成することにより、カラーフィ
ルターが形成されも それ故、保護膜の形成工＋ｉ
透明電極をパターニングするレジストのマスクを形成す
るフォトリソグラフィ工程と、 レジストのマスクを除
去する工程がなくなるた八 カラーフィルターの全製造
プロセスでは工程数の削減が行える。
また 例え（Ｌ 液晶デイスプレィ用のカラーフィルタ
ーとして使用した場合、透明電極（ＩＴＯ等）４は着色
レジストの画素２を介して液晶に電圧を印加することに
なるので、着色レジストの電気容量力（表示性能に影響
を与えることが考えられも そこで、上記記載のカラー
フィルターの製造方法において、導電性微粉末を混合し
た着色レジストに導電性微粉末を混合して、画素を形成
し画素自身も電極とすることにより、この影響を除去で
きる。
ーとして使用した場合、透明電極（ＩＴＯ等）４は着色
レジストの画素２を介して液晶に電圧を印加することに
なるので、着色レジストの電気容量力（表示性能に影響
を与えることが考えられも そこで、上記記載のカラー
フィルターの製造方法において、導電性微粉末を混合し
た着色レジストに導電性微粉末を混合して、画素を形成
し画素自身も電極とすることにより、この影響を除去で
きる。
発明の効果
本発明のカラーフィルターの製造方法は上記記載の特徴
を有しており、製造工程数の削減が計れ実用上多大な効
果を提供するものであも
を有しており、製造工程数の削減が計れ実用上多大な効
果を提供するものであも
第１図は本発明により製造されたカラーフィルターの概
略構成図 第２図は本発明のカラーフィルターの製造方
法を示す工程は 第３図は本発明のカラーフィルターの
製造方法を示す概略構成久第４図は本発明のカラーフィ
ルターの製造方法を示す櫃略構成医 第５図は本発明の
カラーフィルターの製造方法を示す概略構成医 第６図
は従来のカラーフィルターの概略構成は 第７図は従来
のカラーフィルターの製造方法を示す工程図である。 第１ 図 ！・・・ガラス基板 ２・・・Ｒ，Ｇ、 Ｂの画点
３・・・保護ＷＬ ４・・・透明電極（ＩＴＯ等）。
略構成図 第２図は本発明のカラーフィルターの製造方
法を示す工程は 第３図は本発明のカラーフィルターの
製造方法を示す概略構成久第４図は本発明のカラーフィ
ルターの製造方法を示す櫃略構成医 第５図は本発明の
カラーフィルターの製造方法を示す概略構成医 第６図
は従来のカラーフィルターの概略構成は 第７図は従来
のカラーフィルターの製造方法を示す工程図である。 第１ 図 ！・・・ガラス基板 ２・・・Ｒ，Ｇ、 Ｂの画点
３・・・保護ＷＬ ４・・・透明電極（ＩＴＯ等）。
Claims (1)
- 基板上に透明電極を製膜し、前記基板上に着色レジスト
による画素を形成し、前記着色レジストにより形成され
た画素をマスクとして透明電極のエッチングを行うカラ
ーフィルターの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1295904A JPH03156425A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | カラーフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1295904A JPH03156425A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | カラーフィルターの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03156425A true JPH03156425A (ja) | 1991-07-04 |
Family
ID=17826657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1295904A Pending JPH03156425A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | カラーフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03156425A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5976734A (en) * | 1997-06-02 | 1999-11-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Preparation process of color liquid crystal display device |
-
1989
- 1989-11-14 JP JP1295904A patent/JPH03156425A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5976734A (en) * | 1997-06-02 | 1999-11-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Preparation process of color liquid crystal display device |
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