JPH03155502A - 位相差膜状物 - Google Patents
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Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、位相差膜状物に関し、さらに詳しくは、均一
に調製された位相差膜状物に関する。
に調製された位相差膜状物に関する。
[従来の技術]
従来、ワードプロセッサーやパーソナルコンピューター
のCRTの大画面化の要請に対して、液晶分子のねじれ
角を180〜270度に広角化したSTN液晶デイスプ
レィが使用されてきている。
のCRTの大画面化の要請に対して、液晶分子のねじれ
角を180〜270度に広角化したSTN液晶デイスプ
レィが使用されてきている。
しかし、STN方式は液晶部分の複屈折効果を利用して
いるため、イエローモードあるいはブルーモードという
着色条件の表示を余儀なくされていた。そのため、コン
トラストや視認性に不十分なところがあるとともに、任
意のカラー表示も困難であった。これらの課題を解消す
るため、STNセルを二枚重ね、一つは色補償セルとし
て用いる方式(D−8TN、NTN)が開発され、白黒
表示および任意のカラー表示が可能となった。しかし、
このNTN方式は、STN方式に比べて厚くて重いとい
う欠点を有する。そこで色補償セルのかわりに、それと
同等の機能を有する高分子フィルムを色補償フィルムと
して用いることによって、薄くて軽いという液晶デイス
プレィの特徴を生かしたままで白黒表示となるFTN液
晶デイスプレィ等に近年特に使用されてきている。
いるため、イエローモードあるいはブルーモードという
着色条件の表示を余儀なくされていた。そのため、コン
トラストや視認性に不十分なところがあるとともに、任
意のカラー表示も困難であった。これらの課題を解消す
るため、STNセルを二枚重ね、一つは色補償セルとし
て用いる方式(D−8TN、NTN)が開発され、白黒
表示および任意のカラー表示が可能となった。しかし、
このNTN方式は、STN方式に比べて厚くて重いとい
う欠点を有する。そこで色補償セルのかわりに、それと
同等の機能を有する高分子フィルムを色補償フィルムと
して用いることによって、薄くて軽いという液晶デイス
プレィの特徴を生かしたままで白黒表示となるFTN液
晶デイスプレィ等に近年特に使用されてきている。
これら位相差性を有する膜状物は、従来から種々提案さ
れているが、いづれも複屈折性、耐熱性、耐湿性及び耐
久性等において、実用性に乏しいものであった。位相差
板として、現在市販され実用に供されているものとして
入射光線の波長λに対してl/4λの位相差を生じる機
能を有するいわゆる1/4λの板がある。このl/4λ
板は、酢酸セルロース系のフィルムを一軸方向に延伸処
理したものである。l/4λ板は、直線偏光板の光学主
軸に対して、45度傾けて貼り合わせる(円偏光板)と
、反射光をカットする防眩機能があるので、VDTフィ
ルターをはじめとして、各種の防眩材料に使用されてい
る。
れているが、いづれも複屈折性、耐熱性、耐湿性及び耐
久性等において、実用性に乏しいものであった。位相差
板として、現在市販され実用に供されているものとして
入射光線の波長λに対してl/4λの位相差を生じる機
能を有するいわゆる1/4λの板がある。このl/4λ
板は、酢酸セルロース系のフィルムを一軸方向に延伸処
理したものである。l/4λ板は、直線偏光板の光学主
軸に対して、45度傾けて貼り合わせる(円偏光板)と
、反射光をカットする防眩機能があるので、VDTフィ
ルターをはじめとして、各種の防眩材料に使用されてい
る。
1/4λ板を構成する高分子材料としては、上記のセル
ロース系樹脂以外にも、塩化ビニル系樹脂(特公昭45
−34477号公報、特開昭56−125702号公報
等)、ポリカーボネート系樹脂(特公昭41−1219
0号公報、特開昭56−130703号公報等)、アク
リロニトリル系樹脂(特開昭56−130702号公報
等)、スチレン系樹脂(特開昭56−125703号公
報)、ポリオレフィン系樹脂(特開昭60−24502
号公報等)等のものが提案されているが、いずれも耐熱
性、耐湿性が劣悪であるため、例えば電子材料としては
、広汎に使用できないのが現状である。
ロース系樹脂以外にも、塩化ビニル系樹脂(特公昭45
−34477号公報、特開昭56−125702号公報
等)、ポリカーボネート系樹脂(特公昭41−1219
0号公報、特開昭56−130703号公報等)、アク
リロニトリル系樹脂(特開昭56−130702号公報
等)、スチレン系樹脂(特開昭56−125703号公
報)、ポリオレフィン系樹脂(特開昭60−24502
号公報等)等のものが提案されているが、いずれも耐熱
性、耐湿性が劣悪であるため、例えば電子材料としては
、広汎に使用できないのが現状である。
また、オレフィン系樹脂等(特開昭63−167304
号公報等)のものが提案されているが、透明性が著しく
劣るため、高透明性が要求される光学フィルターをはじ
めとする各種光学用途、ワードプロセッサーやパーソナ
ルコンピューター等の液晶表示体用途等の新規用途には
、はとんど使用されていない。
号公報等)のものが提案されているが、透明性が著しく
劣るため、高透明性が要求される光学フィルターをはじ
めとする各種光学用途、ワードプロセッサーやパーソナ
ルコンピューター等の液晶表示体用途等の新規用途には
、はとんど使用されていない。
また、従来より芳香族ポリエステル系樹脂の一種である
ボリアリレートと炭酸エステル系樹脂の一種であるポリ
カーボネートとのブレンド物は種々提案されている。例
えば、特開昭47−22949号公報には、ポリカーボ
ネートの耐衝撃性および耐熱変形性を改良するために、
ボリアリレートをブレンドすることが記載されており、
また、特開昭48−54158号公報及び特開昭58−
83050号公報には、ボリアリレートとポリカーボネ
ートをブレンドすることによって、成形性を改良するこ
とが記載されている。以上のようにこれらの提案は、ポ
リカーボネート及びボリアリレート樹脂をブレンドする
ことによって、素材としての樹脂の機械的性質および成
形加工性を向上させることを目的としており、光学的特
性、特に位相差膜状物に関しては全く提案はされておら
ず、業界からは、均一性に優れ、かつ生産性も高いフィ
ルム組成物の開発が熱望されていた。
ボリアリレートと炭酸エステル系樹脂の一種であるポリ
カーボネートとのブレンド物は種々提案されている。例
えば、特開昭47−22949号公報には、ポリカーボ
ネートの耐衝撃性および耐熱変形性を改良するために、
ボリアリレートをブレンドすることが記載されており、
また、特開昭48−54158号公報及び特開昭58−
83050号公報には、ボリアリレートとポリカーボネ
ートをブレンドすることによって、成形性を改良するこ
とが記載されている。以上のようにこれらの提案は、ポ
リカーボネート及びボリアリレート樹脂をブレンドする
ことによって、素材としての樹脂の機械的性質および成
形加工性を向上させることを目的としており、光学的特
性、特に位相差膜状物に関しては全く提案はされておら
ず、業界からは、均一性に優れ、かつ生産性も高いフィ
ルム組成物の開発が熱望されていた。
このように、従来提案された位相差膜状物は、実用性に
乏しいものであり、業界からは、実用性のある新規な位
相差膜状物の開発が待望されていた。
乏しいものであり、業界からは、実用性のある新規な位
相差膜状物の開発が待望されていた。
[発明の解決しようとする問題点]
本発明は、従来の技術が有していた前述の問題点を解決
すべくなされたものであり、従来全く知られていなかっ
た新規な位相差膜状物を提供することを目的とするもの
である。
すべくなされたものであり、従来全く知られていなかっ
た新規な位相差膜状物を提供することを目的とするもの
である。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、前述の問題点を解決すべくなされたものであ
り、樹脂組成分が主に芳香族ポリエステル系樹脂と炭酸
エエステル系樹脂であることを特徴とする位相差膜状物
を提供するものである。
り、樹脂組成分が主に芳香族ポリエステル系樹脂と炭酸
エエステル系樹脂であることを特徴とする位相差膜状物
を提供するものである。
本発明において、「位相差(Phase dlf’f’
erence)とは、単周期的な二つの運動が同じ状態
にあるとき、その状態に対応するそれぞれの運動の位相
の差をいい、具体的には、(複屈折×膜厚)の積で示さ
れるものである。
erence)とは、単周期的な二つの運動が同じ状態
にあるとき、その状態に対応するそれぞれの運動の位相
の差をいい、具体的には、(複屈折×膜厚)の積で示さ
れるものである。
ここで、[複屈折(Retardation)Jとは、
物質に入射した光が、互いに垂直な振動方向をもつ2つ
の光波に分かれる現象である。
物質に入射した光が、互いに垂直な振動方向をもつ2つ
の光波に分かれる現象である。
厚さd1複屈折n 2−n lなるシート波長λなる光
が入射したとき、シート内において、速い方の光の波長
をλ 、遅い方の光の波長をλ2とすると、遅い方の光
がシートを出て、速い方の光に遅れる量を複屈折と呼び
、次の式で表わし、この度合Reを複屈折値とする。
が入射したとき、シート内において、速い方の光の波長
をλ 、遅い方の光の波長をλ2とすると、遅い方の光
がシートを出て、速い方の光に遅れる量を複屈折と呼び
、次の式で表わし、この度合Reを複屈折値とする。
R−λ (d/λ2−d/λ1)
−d(λ/λ2−λ/λ1)
−d (n 2−n t )
この複屈折値は、例えば日本光学工業(株)の偏光顕微
鏡(OPT I PH0T−POL型)を使用し、セナ
ルモンコンペンセーター法で測定することができ、本発
明において、複屈折値は、100〜1000nlls好
ましくは200〜800 nlll%さらに好ましくは
400〜600 nmである。
鏡(OPT I PH0T−POL型)を使用し、セナ
ルモンコンペンセーター法で測定することができ、本発
明において、複屈折値は、100〜1000nlls好
ましくは200〜800 nlll%さらに好ましくは
400〜600 nmである。
また、本発明においては、膜全体が均一に調製された複
屈折であることが望ましく、その複屈折値のバラツキの
範囲は、特定複屈折値の±10%以内、好ましくは、特
定複屈折値の±596以内、さらに好ましくは特定複屈
折値の±396以内である。
屈折であることが望ましく、その複屈折値のバラツキの
範囲は、特定複屈折値の±10%以内、好ましくは、特
定複屈折値の±596以内、さらに好ましくは特定複屈
折値の±396以内である。
また本発明でいう[芳香族ポリエステル系樹脂とは、下
記の一般式、 R′は炭素数1〜20のアルキル、アリル、アラルキル
、アルコキシル、アルコキシル及びアリルアルコキシル
基、その置換体、ハロゲン及びそれらの混合物から選ば
れる1価の基、p。
記の一般式、 R′は炭素数1〜20のアルキル、アリル、アラルキル
、アルコキシル、アルコキシル及びアリルアルコキシル
基、その置換体、ハロゲン及びそれらの混合物から選ば
れる1価の基、p。
qはp+q−o〜gの整数、m、nはO又は1、但しm
−1のときn−0) で示される合成樹脂であれば、いづれの合成樹脂でも良
いが、中でも(I)式において一部又は全てが、下記一
般式 (式中、Xは炭素数1〜10の置換或いは無置換の2価
炭化水素基、−〇−−5− −802−及び−co−から選ばれる基、R1(式中、
XSm、nは(I)式に同じ、R1−R4は炭素数1〜
4のアルキル基、アルコキシル基、フェニル基及びハロ
ゲン原子から選ばれる1価の基を示す) で示される合成樹脂が好ましく、さらに好ましくは、前
記(n)式中における芳香族ジカルボン酸成分において
、モル比率が(1010〜7/3)で好適には9/1で
ある(テレフタル酸/イソフタン酸)とモル比率が2/
1である(ビスフェノールA/3.3′ 5.5′テ
トラメチルビスフエノールF)とからなる共重合体であ
る。また本発明に使用される芳香族ポリエステル系樹脂
の分子量は、特に制限されるものではないが、一般的に
は5〜15万、好ましくは6〜13万である。
−1のときn−0) で示される合成樹脂であれば、いづれの合成樹脂でも良
いが、中でも(I)式において一部又は全てが、下記一
般式 (式中、Xは炭素数1〜10の置換或いは無置換の2価
炭化水素基、−〇−−5− −802−及び−co−から選ばれる基、R1(式中、
XSm、nは(I)式に同じ、R1−R4は炭素数1〜
4のアルキル基、アルコキシル基、フェニル基及びハロ
ゲン原子から選ばれる1価の基を示す) で示される合成樹脂が好ましく、さらに好ましくは、前
記(n)式中における芳香族ジカルボン酸成分において
、モル比率が(1010〜7/3)で好適には9/1で
ある(テレフタル酸/イソフタン酸)とモル比率が2/
1である(ビスフェノールA/3.3′ 5.5′テ
トラメチルビスフエノールF)とからなる共重合体であ
る。また本発明に使用される芳香族ポリエステル系樹脂
の分子量は、特に制限されるものではないが、一般的に
は5〜15万、好ましくは6〜13万である。
また、これらの芳香族ポリエステル系樹脂は、テレフタ
ル酸及び又はイソフタル酸と1種または2種以上のビス
フェノール類あるいはビスフェノール類と少量の2価の
化合物による重合体または共重合体、さらには、これら
の混合物によっても得ることができる。共重合体として
は、例えば芳香族ジカルボン酸は、テレフタル酸及びイ
ソフタル酸の単独もしくは混合成分である。
ル酸及び又はイソフタル酸と1種または2種以上のビス
フェノール類あるいはビスフェノール類と少量の2価の
化合物による重合体または共重合体、さらには、これら
の混合物によっても得ることができる。共重合体として
は、例えば芳香族ジカルボン酸は、テレフタル酸及びイ
ソフタル酸の単独もしくは混合成分である。
好ましいビスフェノール成分を例示すれば、2.2−ビ
ス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、2.2−ビス(3,5−ジー5ec−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2−ビス(3,
5−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシフェニル)
プロパン、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)メタン、1.1−ビス(3,5−ジメチル−4
−ヒドロキシフェニル)エタン、1.1−ビス(3,5
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン
、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)
ケトン、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)エーテル、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)スルフィド、2.2−ビス(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニル)へキサフルオルプロ
パン、2.2−ビス(3,5−ジメトキシ−4−ヒドロ
キシフェニル)プロパン、ビス(3,5ジメトキシ−4
−ヒドロキシフェニル)メタン、2.2−ビス(3−メ
トキシ−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロパ
ン、ビス(3−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−メチル
フェニル)メタン、ビス(3,5−ジフェニル−4−ヒ
ドロキシフェニル)メタン、2.2−ビス(3,5−ジ
フェノキシ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス
(3−フェノキシ−4−ヒドロキシ−5−メチル)メタ
ン、4.4°−ジヒドロキシ−a、(’、5.5’−テ
トラメチルビフェニル、4.4°−ジヒドロキシ−3,
3°、5.5’−テトラエチルビフェニル、ビス(4−
ヒドロキシ−3−メチルフェニル)スルホン、ビス(4
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)スルホン、
ビス(4−ヒドロキシ−3−エチルフェニル)スルホン
、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジエチルフェニル)
スルホン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメトキシ
フェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−
ジェトキシフェニル)スルホン等があげられる。
ス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、2.2−ビス(3,5−ジー5ec−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2−ビス(3,
5−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシフェニル)
プロパン、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)メタン、1.1−ビス(3,5−ジメチル−4
−ヒドロキシフェニル)エタン、1.1−ビス(3,5
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン
、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)
ケトン、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)エーテル、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)スルフィド、2.2−ビス(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニル)へキサフルオルプロ
パン、2.2−ビス(3,5−ジメトキシ−4−ヒドロ
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−ヒドロキシフェニル)メタン、2.2−ビス(3−メ
トキシ−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロパ
ン、ビス(3−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−メチル
フェニル)メタン、ビス(3,5−ジフェニル−4−ヒ
ドロキシフェニル)メタン、2.2−ビス(3,5−ジ
フェノキシ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス
(3−フェノキシ−4−ヒドロキシ−5−メチル)メタ
ン、4.4°−ジヒドロキシ−a、(’、5.5’−テ
トラメチルビフェニル、4.4°−ジヒドロキシ−3,
3°、5.5’−テトラエチルビフェニル、ビス(4−
ヒドロキシ−3−メチルフェニル)スルホン、ビス(4
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)スルホン、
ビス(4−ヒドロキシ−3−エチルフェニル)スルホン
、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジエチルフェニル)
スルホン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメトキシ
フェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−
ジェトキシフェニル)スルホン等があげられる。
これらの335−位に置換基を有するビスフェノール成
分とは、4,4°−ジヒドロキシジフェニル、ビス(4
−ヒドロキシフェニル)メタン、■、1ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)エタン、2.2−ビス(4,−ヒドロ
キシフェニル)プロパン、ヒドロキノン、レゾルシン等
と混合して用いることができる。また、フェノールフタ
レイン、フルオレセイン、ナフトフタレイン、チモール
フタレインなどのビスフェノール性色素等を使用するこ
とも可能である。
分とは、4,4°−ジヒドロキシジフェニル、ビス(4
−ヒドロキシフェニル)メタン、■、1ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)エタン、2.2−ビス(4,−ヒドロ
キシフェニル)プロパン、ヒドロキノン、レゾルシン等
と混合して用いることができる。また、フェノールフタ
レイン、フルオレセイン、ナフトフタレイン、チモール
フタレインなどのビスフェノール性色素等を使用するこ
とも可能である。
このようにして得られた芳香族ポリエステル系樹脂のT
gは特に制限するものではないが、望ましく300〜1
50℃、さらに望ましくは300〜180℃である。
gは特に制限するものではないが、望ましく300〜1
50℃、さらに望ましくは300〜180℃である。
さらに、上記芳香族ポリエステル系樹脂の重合方法は特
に制限されるものではなく、従来知られている重合方法
を採用することができる。例えば、芳香族ジカルボン酸
とビスフェノールを高温溶融状態で反応させる溶融重合
法、芳香族ジカルボン酸ジクロライドとビスフェノール
を脱酸剤としてのアミンの存在下に有機溶剤中で反応さ
せる溶液重合法、芳香族ジカルボン酸ジクロライドとビ
スフェノールとを互いに相溶しない2種の溶媒に溶解し
た後、アルカリの存在下で2液を混合撹拌して、その界
面で重縮合反応を行なわせる界面重合法があり、いずれ
の方法でも採用することができるが、これらの中で着色
、異物、高重合度及びTgの点から界面重合法が好まし
い。
に制限されるものではなく、従来知られている重合方法
を採用することができる。例えば、芳香族ジカルボン酸
とビスフェノールを高温溶融状態で反応させる溶融重合
法、芳香族ジカルボン酸ジクロライドとビスフェノール
を脱酸剤としてのアミンの存在下に有機溶剤中で反応さ
せる溶液重合法、芳香族ジカルボン酸ジクロライドとビ
スフェノールとを互いに相溶しない2種の溶媒に溶解し
た後、アルカリの存在下で2液を混合撹拌して、その界
面で重縮合反応を行なわせる界面重合法があり、いずれ
の方法でも採用することができるが、これらの中で着色
、異物、高重合度及びTgの点から界面重合法が好まし
い。
また、本発明でいう「炭酸エステル系樹脂」とは、炭酸
とグリコールまたは2価フェノールとのエステル系樹脂
であって、一般的には、−EO−R−0−CO+
(IV)で示される。ここで、(■)式において、R
は2価の脂肪族または芳香族基を示すが、本発明におい
ては芳香族基が好ましい。上記グリコールとしては、特
に制限されるものではなくいづれのグリコールが使用さ
れるが、一般的には、例えば、エチレングリコール、ト
リメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ペ
ンタメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、
デカメチレングリコール、ジエチレングリコール、ρ−
キシリレングリコール等があり、中でもエチレングリコ
ール、トリメチレングリコール、ρ−キシリレングリコ
ール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリ
コールが好ましく、さらに好ましくは、エチレングリコ
ール、トリメチレングリコールがある。
とグリコールまたは2価フェノールとのエステル系樹脂
であって、一般的には、−EO−R−0−CO+
(IV)で示される。ここで、(■)式において、R
は2価の脂肪族または芳香族基を示すが、本発明におい
ては芳香族基が好ましい。上記グリコールとしては、特
に制限されるものではなくいづれのグリコールが使用さ
れるが、一般的には、例えば、エチレングリコール、ト
リメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ペ
ンタメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、
デカメチレングリコール、ジエチレングリコール、ρ−
キシリレングリコール等があり、中でもエチレングリコ
ール、トリメチレングリコール、ρ−キシリレングリコ
ール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリ
コールが好ましく、さらに好ましくは、エチレングリコ
ール、トリメチレングリコールがある。
また上記2価フェノールとしては、特に制限されるもの
ではなく、いづれの2価フェノールが使用され、一般的
には例えば、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、
ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒド
ロキシ−3,5ジクロロフエニル)メタン、2,2−ビ
ス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロ
パン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン
等の4.4−ジオキシジフェニルアルカン等があり、1
.1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2.2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2−
ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プ
ロパン等が好ましく、さらに好ましくは2.2−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)プロパンである。
ではなく、いづれの2価フェノールが使用され、一般的
には例えば、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、
ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒド
ロキシ−3,5ジクロロフエニル)メタン、2,2−ビ
ス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロ
パン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン
等の4.4−ジオキシジフェニルアルカン等があり、1
.1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2.2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2−
ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プ
ロパン等が好ましく、さらに好ましくは2.2−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)プロパンである。
これら炭酸エステル系樹脂の重合方法は、従来知られて
いる重合方法が使用され、例えば、前記のグリコールま
たは2価のフェノールとホスゲンあるいはジフェニルカ
ーボネートより得られるものである。すでに公知の溶融
重合、溶液重合、界面重合など各種方法により製造され
る。
いる重合方法が使用され、例えば、前記のグリコールま
たは2価のフェノールとホスゲンあるいはジフェニルカ
ーボネートより得られるものである。すでに公知の溶融
重合、溶液重合、界面重合など各種方法により製造され
る。
このようにして得られた炭酸エステル系樹脂の分子量は
、特に制限されるものではないが、一般的には5〜15
万、好ましくは6〜13万であり、そのTgは一般的に
は120〜180℃、好ましくは130〜160℃であ
る。
、特に制限されるものではないが、一般的には5〜15
万、好ましくは6〜13万であり、そのTgは一般的に
は120〜180℃、好ましくは130〜160℃であ
る。
本発明においては、上記芳香族ポリエステル系樹脂と炭
酸エステル系樹脂のブレンド重量比率は、(99〜51
)/ (1〜49)、好ましくは(98〜70)/ (
2〜30)、さらに好ましくは(96〜85)/(4〜
15)である。
酸エステル系樹脂のブレンド重量比率は、(99〜51
)/ (1〜49)、好ましくは(98〜70)/ (
2〜30)、さらに好ましくは(96〜85)/(4〜
15)である。
さらに本発明膜状物樹脂組成物として、必要に応じ少量
の樹脂、例えば、ポリエーテルスルホン(PES)、変
性ポリフェニレンエーテル(PPE)、ポリサルホン(
PSF)、ポリアミドイミド(FA I) 、ポリエー
テルイミド(PEI)、ポリイミド(P I)等相溶性
のある1tTIまたは2種以上の樹脂をさらにブレンド
することも可能である。
の樹脂、例えば、ポリエーテルスルホン(PES)、変
性ポリフェニレンエーテル(PPE)、ポリサルホン(
PSF)、ポリアミドイミド(FA I) 、ポリエー
テルイミド(PEI)、ポリイミド(P I)等相溶性
のある1tTIまたは2種以上の樹脂をさらにブレンド
することも可能である。
また本発明における膜状物は、光学的特性からして、主
として、溶剤流延法によって製造されることが属々あり
、膜中に残留している僅かな溶剤を乾燥させるために2
00〜300℃の高温雰囲気中に長時開明されたり、ま
た、膜状物に導電性を付与する際、例えばスパッタリン
グ加工の場合には150℃、FPCとして使用する時に
は、少くとも150℃の高温に晒される。
として、溶剤流延法によって製造されることが属々あり
、膜中に残留している僅かな溶剤を乾燥させるために2
00〜300℃の高温雰囲気中に長時開明されたり、ま
た、膜状物に導電性を付与する際、例えばスパッタリン
グ加工の場合には150℃、FPCとして使用する時に
は、少くとも150℃の高温に晒される。
上記の加工、特に光学的用途の加工の場合、膜状物が黄
変し、この加熱工程により、膜状物は、時によって、黄
変して実用に供し得なくなる場合がある。この黄変防止
の目的のため、必要に応じ、抗酸化剤を添加することも
可能である。この「抗酸化剤」とは、膜状物が高温に晒
される際に生じる黄変化を防止もしくは抑制する作用を
示し、かつ透明性を低下させない物質で、融点が100
°C以上、好ましくは150℃以上、さらに好ましくは
200℃以上である物質であり、具体的にはフェノール
系及びホスファイト系等の化合物であり、中でもフェノ
ール系の化合物が好適である。また特に上記フェノール
系化合物と上記ホスファイト系化合物とを併用する、そ
の効果はさらに大となることが期待できる。
変し、この加熱工程により、膜状物は、時によって、黄
変して実用に供し得なくなる場合がある。この黄変防止
の目的のため、必要に応じ、抗酸化剤を添加することも
可能である。この「抗酸化剤」とは、膜状物が高温に晒
される際に生じる黄変化を防止もしくは抑制する作用を
示し、かつ透明性を低下させない物質で、融点が100
°C以上、好ましくは150℃以上、さらに好ましくは
200℃以上である物質であり、具体的にはフェノール
系及びホスファイト系等の化合物であり、中でもフェノ
ール系の化合物が好適である。また特に上記フェノール
系化合物と上記ホスファイト系化合物とを併用する、そ
の効果はさらに大となることが期待できる。
前記フェノール系化合物としては、例えば、2.5−ジ
ーtert−ブチルハイドロキノン、4.4’−イソプ
ロピリデンビスフェノール、4,4°−ブチルデンビス
(3−メチル−6−tertブチルフェノール) 、1
.1−ビス(4−ヒドロオキシフェニル)シクロヘキサ
ン、4.4°−メチレンビス(2,B−ジーtartブ
チルフェノール) 、2.8−ビス(2′ −ヒドロオ
キシ−3’−tert3ブチル−5′−メチルベンジル
)4−メチル−フェノール、t、t、a −トリス(2
−メチル−4−ヒドロオキシ−5−tertブチルフェ
ニル)ブタン、1.3.5− )リス−メチル−2,4
,6−)リス(3,5−ジーtertブチルー4−ヒド
ロオキシベンジル)ベンゼン、トリス(3,5−ジーt
ertブチルー4−ヒドロオキシフェニル)イソシアヌ
レート、4.4’−チオビス(3−メチル−6−ter
tブチルフェノール) 、2,4.8−トリーtert
ブチルフェノール、4−ヒドロオキシメチル−2,6−
ジーtertブチルフエノール、シクロヘキシルフェノ
ール、2,2°−メチレンビス(4−メチル−6−te
rtブチルフェノール) 、2.2゜メチレンビス(4
−エチル−6−tertブチルフェノール)、テトラキ
ス[メチレン−3(3,5−ジー tartブチル−4
−ヒドロオキシフェニル)プロピオネートコメタン、ト
リス[β−(3,5−ジーtertブチルー4−ヒドロ
オキシフェニル)プロピオニルオキシエチル]イソシア
ネート及び4,4°−チオビス(2−メチル−6−te
rtブチルフェノール)等があり、中でも1.L5−)
リス−メチル−2,4,6−トリス(3,5−ジーte
rtブチルー4−ヒドロオキシベンジル)ベンゼン、ト
リス(3,5−ジーtertブチルー4−ヒドロオキシ
フェニル)イソシアヌレイト、4,4°−ブチリデン−
ビス(3−メチル−6−tertブチルフェノール)
、2.5−ジー tertブチルハイドロキノン、4.
4°−メチレンビス(2,6−ジーtertブチルフエ
ノール)及び4,4゛−イソブロピリデンビスフエノー
ルが好ましい。
ーtert−ブチルハイドロキノン、4.4’−イソプ
ロピリデンビスフェノール、4,4°−ブチルデンビス
(3−メチル−6−tertブチルフェノール) 、1
.1−ビス(4−ヒドロオキシフェニル)シクロヘキサ
ン、4.4°−メチレンビス(2,B−ジーtartブ
チルフェノール) 、2.8−ビス(2′ −ヒドロオ
キシ−3’−tert3ブチル−5′−メチルベンジル
)4−メチル−フェノール、t、t、a −トリス(2
−メチル−4−ヒドロオキシ−5−tertブチルフェ
ニル)ブタン、1.3.5− )リス−メチル−2,4
,6−)リス(3,5−ジーtertブチルー4−ヒド
ロオキシベンジル)ベンゼン、トリス(3,5−ジーt
ertブチルー4−ヒドロオキシフェニル)イソシアヌ
レート、4.4’−チオビス(3−メチル−6−ter
tブチルフェノール) 、2,4.8−トリーtert
ブチルフェノール、4−ヒドロオキシメチル−2,6−
ジーtertブチルフエノール、シクロヘキシルフェノ
ール、2,2°−メチレンビス(4−メチル−6−te
rtブチルフェノール) 、2.2゜メチレンビス(4
−エチル−6−tertブチルフェノール)、テトラキ
ス[メチレン−3(3,5−ジー tartブチル−4
−ヒドロオキシフェニル)プロピオネートコメタン、ト
リス[β−(3,5−ジーtertブチルー4−ヒドロ
オキシフェニル)プロピオニルオキシエチル]イソシア
ネート及び4,4°−チオビス(2−メチル−6−te
rtブチルフェノール)等があり、中でも1.L5−)
リス−メチル−2,4,6−トリス(3,5−ジーte
rtブチルー4−ヒドロオキシベンジル)ベンゼン、ト
リス(3,5−ジーtertブチルー4−ヒドロオキシ
フェニル)イソシアヌレイト、4,4°−ブチリデン−
ビス(3−メチル−6−tertブチルフェノール)
、2.5−ジー tertブチルハイドロキノン、4.
4°−メチレンビス(2,6−ジーtertブチルフエ
ノール)及び4,4゛−イソブロピリデンビスフエノー
ルが好ましい。
またホスファイト系化合物としては、トリス(2,4−
ジーtertブチルフェニル)ホスファイト及び下記構
造式で表わされる化合物である。
ジーtertブチルフェニル)ホスファイト及び下記構
造式で表わされる化合物である。
(以下余白)
本発明に使用される抗酸化剤の使用量は、樹脂100重
量部に対し0.01〜10重量部、より好ましくは0.
1〜3重量部である。
量部に対し0.01〜10重量部、より好ましくは0.
1〜3重量部である。
これら抗酸化剤を本発明膜状物樹脂に配合する方法は、
従来行われているいづれの方法によっても良く、例えば
樹脂の粒状物又は粉末とV型ブレンダー、ヘンシェルミ
キサー、スーパーミキサーニーダ−等で混合しても良く
、有機溶剤に溶解して樹脂の粒状物又は粉末に噴霧する
方法などでも良い。一般に界面重縮合によって芳香族ポ
リエステルを製造する際、樹脂は有機溶剤の溶液として
得られるので、反応系中或いは中和水洗等の後処理を施
した後の溶液に添加するのが便利である。
従来行われているいづれの方法によっても良く、例えば
樹脂の粒状物又は粉末とV型ブレンダー、ヘンシェルミ
キサー、スーパーミキサーニーダ−等で混合しても良く
、有機溶剤に溶解して樹脂の粒状物又は粉末に噴霧する
方法などでも良い。一般に界面重縮合によって芳香族ポ
リエステルを製造する際、樹脂は有機溶剤の溶液として
得られるので、反応系中或いは中和水洗等の後処理を施
した後の溶液に添加するのが便利である。
さらに本発明における位相差膜状物の膜厚は、特に制限
されるものではなく、前記複屈折値の範囲内であればい
づれでも良いが、5〜3000μ好ましくは25〜20
0μ、さらに好ましくは50〜150μである。
されるものではなく、前記複屈折値の範囲内であればい
づれでも良いが、5〜3000μ好ましくは25〜20
0μ、さらに好ましくは50〜150μである。
このようにして得られた樹脂組成物から本発明位相差膜
状物を得る方法は、特に制限されるものではなく、従来
知られているいづれの方法によっても製造できるが、一
般的には、光学的に等方性を有する膜状物原反を■予熱
し、次いで、■均一延伸しその後■冷却することによっ
て得ることができる。以下製造工程について、説明する
。
状物を得る方法は、特に制限されるものではなく、従来
知られているいづれの方法によっても製造できるが、一
般的には、光学的に等方性を有する膜状物原反を■予熱
し、次いで、■均一延伸しその後■冷却することによっ
て得ることができる。以下製造工程について、説明する
。
■予熱工程
膜状物原反を[ガラス転移温度(以下rTgJという)
Tg−20℃以上、好ましくは(Tg−10)℃以上さ
らに好ましくは7g以上に、予熱する工程である。
Tg−20℃以上、好ましくは(Tg−10)℃以上さ
らに好ましくは7g以上に、予熱する工程である。
■延伸工程
前記予熱工程で予熱された膜状物原反を流れ方向(以下
rMDJという)もしくはMDと直角方向(以下rTD
Jという)いづれかに1.005〜3.00倍、好まし
くは1601〜2.00倍、さらに好ましくは1.02
〜1゜80倍の範囲内で延伸するものである。
rMDJという)もしくはMDと直角方向(以下rTD
Jという)いづれかに1.005〜3.00倍、好まし
くは1601〜2.00倍、さらに好ましくは1.02
〜1゜80倍の範囲内で延伸するものである。
その延伸温度範囲は(Tg−20)”C〜(7g+30
)”C1好ましくは(Tg−10)”C〜(7g+20
)’C1さらに好ましくは(Tg−5)℃〜(Tg+1
5)’Cである。
)”C1好ましくは(Tg−10)”C〜(7g+20
)’C1さらに好ましくは(Tg−5)℃〜(Tg+1
5)’Cである。
MD延伸機としては、例えば、1段ロール延伸、好まし
くは2段ロール延伸、さらに好ましくは3段ロール以上
の多段ロール延伸等により逐次延伸することができ、T
M延伸機としては特に制限されるものではなく、いずれ
の把持方式の延伸機が使用されるが例えば、クリップテ
ンタ一方式、ピンテンタ一方式、ベルトテンタ一方式等
があり中でもクリップテンタ一方式が好ましく、予熱工
程、横延伸工程、必要に応じてアニール工程/冷却工程
を経て延伸することができる。
くは2段ロール延伸、さらに好ましくは3段ロール以上
の多段ロール延伸等により逐次延伸することができ、T
M延伸機としては特に制限されるものではなく、いずれ
の把持方式の延伸機が使用されるが例えば、クリップテ
ンタ一方式、ピンテンタ一方式、ベルトテンタ一方式等
があり中でもクリップテンタ一方式が好ましく、予熱工
程、横延伸工程、必要に応じてアニール工程/冷却工程
を経て延伸することができる。
また、第1段階として、MDもしくはTDいづれの方向
に一軸延伸し、第2段階として、−第1段階の直角方向
に再延伸することにより、Reを調整することも可能で
ある。
に一軸延伸し、第2段階として、−第1段階の直角方向
に再延伸することにより、Reを調整することも可能で
ある。
■アニール工程/冷却工程
前工程により均一延伸を行った膜状物をアニール工程/
冷却工程において、(7g+10)”C〜(Tg−30
)”C1好ましくは(Tg+5)”C〜(Tg−20)
”C1更に好ましくはTg〜(Tg−10)’Cにアニ
ール/冷却するものである。
冷却工程において、(7g+10)”C〜(Tg−30
)”C1好ましくは(Tg+5)”C〜(Tg−20)
”C1更に好ましくはTg〜(Tg−10)’Cにアニ
ール/冷却するものである。
本発明において、膜全体が均一なる位相差膜状物を得る
ためには、その原反の複屈折値を調製しておくことが望
ましい。以下均一な複屈折性を示す膜状物原反の調製方
法を説明する。
ためには、その原反の複屈折値を調製しておくことが望
ましい。以下均一な複屈折性を示す膜状物原反の調製方
法を説明する。
膜状物原反の製法としては熱溶融法および溶液流延法等
いづれの方法によって得られたフィルムでも良く、中で
も溶液流延法が好適である。熱溶融法としては、例えば
、押出法、キレングー法およびプレス法等があり、溶液
流延法としては、例えば溶剤流延法、ゾルキャスト法等
があり、中でも溶剤流延法が好ましい。
いづれの方法によって得られたフィルムでも良く、中で
も溶液流延法が好適である。熱溶融法としては、例えば
、押出法、キレングー法およびプレス法等があり、溶液
流延法としては、例えば溶剤流延法、ゾルキャスト法等
があり、中でも溶剤流延法が好ましい。
溶液流延法で使用される溶媒としては特に制限されるも
のではないが、一般的には塩化メチレン、クロロホルム
、1.1.2−トリクロルエタン、1.1.2.2−テ
トラクロルエタン、クロルベンゼン、0−ジクロルベン
ゼン等のハロゲン化炭化゛水素、或いはフェノール/1
.L、2.2−テトラクロルエタン−1/1の混合溶剤
、及びテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド等が使用され、中でも塩化メチレン
、1.1.2.2−テトラクロルエタンが好ましい。
のではないが、一般的には塩化メチレン、クロロホルム
、1.1.2−トリクロルエタン、1.1.2.2−テ
トラクロルエタン、クロルベンゼン、0−ジクロルベン
ゼン等のハロゲン化炭化゛水素、或いはフェノール/1
.L、2.2−テトラクロルエタン−1/1の混合溶剤
、及びテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド等が使用され、中でも塩化メチレン
、1.1.2.2−テトラクロルエタンが好ましい。
次いで、前述した光学的に等方性を有する膜状物原反は
さらに以下に特定する工程を経ることにより、得られる
こともできる。すなわち、(a)上記膜状物原反を[ガ
ラス転移温度(以下rTgJという)+101”C好ま
しくは(7g+20)℃さらに好ましくは(7g+35
)”C以上に、1分間好ましくは2分間、さらに好まし
くは3分間以上、予熱して膜状物原反をゴム状領域状態
に保持する工程(以下この工程を「工程A」という)と
、 (b)工程Aで予熱された膜状物原反を、(1〜0.0
1) ”C/秒、好ましくは(O18〜0.05) ’
C/秒、さらに好ましくは(0,5〜0.1 )’C/
秒の冷却速度で、(Tg−15)”Cまで、好ましくは
(Tg−65)”Cまで、さらに好ましくは(Tg−1
00)’Cまで徐冷する工程(以下この工程を「工程B
」という) との2工程を経ることにより、上記に特定した光学的に
等方性を有する膜状物原反を得ることができるのである
。
さらに以下に特定する工程を経ることにより、得られる
こともできる。すなわち、(a)上記膜状物原反を[ガ
ラス転移温度(以下rTgJという)+101”C好ま
しくは(7g+20)℃さらに好ましくは(7g+35
)”C以上に、1分間好ましくは2分間、さらに好まし
くは3分間以上、予熱して膜状物原反をゴム状領域状態
に保持する工程(以下この工程を「工程A」という)と
、 (b)工程Aで予熱された膜状物原反を、(1〜0.0
1) ”C/秒、好ましくは(O18〜0.05) ’
C/秒、さらに好ましくは(0,5〜0.1 )’C/
秒の冷却速度で、(Tg−15)”Cまで、好ましくは
(Tg−65)”Cまで、さらに好ましくは(Tg−1
00)’Cまで徐冷する工程(以下この工程を「工程B
」という) との2工程を経ることにより、上記に特定した光学的に
等方性を有する膜状物原反を得ることができるのである
。
また、工程Bにおいて、必要に応じ一部徐冷時間を短縮
することも可能である。すなわち、工程已において、 (b゛)工程Aで予熱された膜状物原反を、(7g+2
0)”Cまで、好ましくは(7g+10)’Cまで、さ
らに好ましくは(Tg±0)℃まで、(1〜0.01)
”C/秒、好ましくはく0.8〜0.05) ”C/
秒、さらに好ましくは(0,5〜0.1)’C/秒の冷
却速度で徐冷し、次いで、(Tg−15)”Cまで、好
ましくは(Tg−65)’Cまで、さらに好ましくは(
Tg−100)”Cまで、(50〜1)℃/秒、好まし
くは(10〜1)℃/秒、さらに好ましくは(5〜1)
℃/秒の冷却速度で急冷する工程(以下この工程を「工
程B’ Jという)、とすることによっても光学的に等
方性を有する膜状物原反を得ることができるのである。
することも可能である。すなわち、工程已において、 (b゛)工程Aで予熱された膜状物原反を、(7g+2
0)”Cまで、好ましくは(7g+10)’Cまで、さ
らに好ましくは(Tg±0)℃まで、(1〜0.01)
”C/秒、好ましくはく0.8〜0.05) ”C/
秒、さらに好ましくは(0,5〜0.1)’C/秒の冷
却速度で徐冷し、次いで、(Tg−15)”Cまで、好
ましくは(Tg−65)’Cまで、さらに好ましくは(
Tg−100)”Cまで、(50〜1)℃/秒、好まし
くは(10〜1)℃/秒、さらに好ましくは(5〜1)
℃/秒の冷却速度で急冷する工程(以下この工程を「工
程B’ Jという)、とすることによっても光学的に等
方性を有する膜状物原反を得ることができるのである。
本発明でいう「光学的に等方性を有する」とは、ポリマ
ー分子鎖が不規則的な構造(配列)状態である。
ー分子鎖が不規則的な構造(配列)状態である。
すなわち、複屈折が20r+m以下、好ましくは10n
111以下更に好ましくは5nm以下を有することであ
る。
111以下更に好ましくは5nm以下を有することであ
る。
この複屈折値は、例えば日本光学工業■の偏光顕微鏡(
OPT I PIIOT−POL型)を使用し、セナル
モンコンペンセーター法にて測定することができる。
OPT I PIIOT−POL型)を使用し、セナル
モンコンペンセーター法にて測定することができる。
以上のとおり、本発明によって得られた位相差膜状物は
目的に応じた複屈折値とその均一性に優れ、また耐熱性
、耐湿性にも優れた、実用性の極めて大なる全く新規な
ものであり、業界に寄与する所多大である。
目的に応じた複屈折値とその均一性に優れ、また耐熱性
、耐湿性にも優れた、実用性の極めて大なる全く新規な
ものであり、業界に寄与する所多大である。
以下実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明は、
実施例に限定されるべきものではない。
実施例に限定されるべきものではない。
実施例1
テレフタル酸ジクロライドとイソフタル酸ジクロライト
のモル比が9=1である混合酸クロライドの塩化メチレ
ン溶液とビスフェノールAと3.3°、5,5°−テト
ラメチルビスフェノールFのモル比が2:1のアルカリ
水溶液より界面重合法にてM w 7.0万、Tg21
5℃のボリアリレート樹脂を得た。
のモル比が9=1である混合酸クロライドの塩化メチレ
ン溶液とビスフェノールAと3.3°、5,5°−テト
ラメチルビスフェノールFのモル比が2:1のアルカリ
水溶液より界面重合法にてM w 7.0万、Tg21
5℃のボリアリレート樹脂を得た。
このボリアリレート樹脂とポリカーボネート樹脂(パン
ライトK −1300,今人化成■製)90:10の割
合より成る塩化メチレン溶液(15wt%)のドープを
作成した。この樹脂溶液に1.3.5−トリス−メチル
−2,4,8−トリス(3,5−ジーtertブチルー
4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン(A−1)を樹脂1
00重量部当り0.15重量部及びトリス(2,4−ジ
ーtertブチルフェニル)ホスファイト(P−1)を
樹脂100重量部当り0.15重量部配合し撹拌した。
ライトK −1300,今人化成■製)90:10の割
合より成る塩化メチレン溶液(15wt%)のドープを
作成した。この樹脂溶液に1.3.5−トリス−メチル
−2,4,8−トリス(3,5−ジーtertブチルー
4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン(A−1)を樹脂1
00重量部当り0.15重量部及びトリス(2,4−ジ
ーtertブチルフェニル)ホスファイト(P−1)を
樹脂100重量部当り0.15重量部配合し撹拌した。
これをフィルム流延設備にて乾燥しく40℃0.5分、
60℃1分)、更にテンター設備にて、両面乾燥(15
0℃1分、23°0℃5分)及び熱固定(250℃3分
)を行い、約75μ厚さ、1100mm幅の絶乾膜状物
原反(A)を得た。
60℃1分)、更にテンター設備にて、両面乾燥(15
0℃1分、23°0℃5分)及び熱固定(250℃3分
)を行い、約75μ厚さ、1100mm幅の絶乾膜状物
原反(A)を得た。
次いでこの膜状物原反を、クリップ間隔1050 mm
の連続フィルム熱処理装置(クリップテンター)にて2
50℃3分間予熱し、次に250℃から180℃まで連
続的に4分間徐冷した。この膜状物原反(B)の複屈折
は3nmであった。
の連続フィルム熱処理装置(クリップテンター)にて2
50℃3分間予熱し、次に250℃から180℃まで連
続的に4分間徐冷した。この膜状物原反(B)の複屈折
は3nmであった。
この光学的に等方性を有する膜状物原反(B)を横延伸
機にて予備加熱工程として雰囲気温度215℃、20秒
、延伸工程として雰囲気温度215℃、20秒、アニー
ル工程/冷却工程としては、雰囲気温度202℃、10
秒、横一軸に1.010倍の延伸を行ない約75μの一
軸延伸光学的に異方性を有する位相差膜状物(偏光顕微
鏡による複屈折の測定値が約400 nm)を得た。
機にて予備加熱工程として雰囲気温度215℃、20秒
、延伸工程として雰囲気温度215℃、20秒、アニー
ル工程/冷却工程としては、雰囲気温度202℃、10
秒、横一軸に1.010倍の延伸を行ない約75μの一
軸延伸光学的に異方性を有する位相差膜状物(偏光顕微
鏡による複屈折の測定値が約400 nm)を得た。
この位相差膜状物の試験結果を第1表に示す。
実施例2
実施例2は実施例1で使用したボリアリレート樹脂とポ
リカーボネート樹脂を95:5の割合底る塩化メチレン
溶液(15vt%)のドープを使用する以外は実施例1
と全く同様にして、約75μ厚さの約1100mm幅の
絶乾膜状物原反を得た。
リカーボネート樹脂を95:5の割合底る塩化メチレン
溶液(15vt%)のドープを使用する以外は実施例1
と全く同様にして、約75μ厚さの約1100mm幅の
絶乾膜状物原反を得た。
次いで、この膜状物原反を、クリップ間隔1050關の
連続熱処理装置(クリップテンター)にて250℃、3
分間予熱し、次に250℃から220℃まで連続的に1
.5分間徐冷し、220℃から180℃まで連続的に1
5秒間急冷した。この膜状物原反の複屈折は3r+mで
あった。
連続熱処理装置(クリップテンター)にて250℃、3
分間予熱し、次に250℃から220℃まで連続的に1
.5分間徐冷し、220℃から180℃まで連続的に1
5秒間急冷した。この膜状物原反の複屈折は3r+mで
あった。
この光学的に等方性を有する膜状物原反を横延伸機にて
雰囲気温度215℃にて、横一軸延伸を行ない75μの
一軸延伸光学的に異方性を有する位相差膜状物(偏光顕
微鏡による複屈折の測定値が約40 OnIQ)を得た
。
雰囲気温度215℃にて、横一軸延伸を行ない75μの
一軸延伸光学的に異方性を有する位相差膜状物(偏光顕
微鏡による複屈折の測定値が約40 OnIQ)を得た
。
この位相差膜状物の試験結果を第1表に示す。
実施例3.4
実施例3及び4は実施例1で使用したボリアリレート樹
脂とポリカーボネート樹脂を80 : 20及び60:
40の割合より成る塩化メチレン溶液(15vt%)の
ドープを使用する以外は実施例1と全く同様にして、約
75μ厚さ、約1100mm幅の絶乾膜状物原反を得た
。
脂とポリカーボネート樹脂を80 : 20及び60:
40の割合より成る塩化メチレン溶液(15vt%)の
ドープを使用する以外は実施例1と全く同様にして、約
75μ厚さ、約1100mm幅の絶乾膜状物原反を得た
。
次いでこのフィルムを、クリップ間隔to 50 mm
の連続フィルム熱処理装置(クリップテンター)にて2
50℃3分間予熱し、次に250℃から200℃まで連
続的に3分間徐冷し、更に200℃から160℃まで1
5秒間急冷した。この膜状物原反の複屈折は3ni及び
6rvであった。
の連続フィルム熱処理装置(クリップテンター)にて2
50℃3分間予熱し、次に250℃から200℃まで連
続的に3分間徐冷し、更に200℃から160℃まで1
5秒間急冷した。この膜状物原反の複屈折は3ni及び
6rvであった。
この光学的に等方性を有する膜状物原反を横延伸機にて
それぞれ雰囲気温度200℃及び190℃にて横一軸延
伸を行ない75μの一軸延伸光学的に異方性を有する位
相差膜状物(偏光顕微鏡による複屈折の測定値が約40
0 ni)を得た。
それぞれ雰囲気温度200℃及び190℃にて横一軸延
伸を行ない75μの一軸延伸光学的に異方性を有する位
相差膜状物(偏光顕微鏡による複屈折の測定値が約40
0 ni)を得た。
これ等の位相差膜状物の試験結果を第1表に示す。
比較例1
比較例1は実施例1で使用したボリアリレート樹脂単独
より成る塩化メチレン溶液(15vt%)のドープを作
成した。
より成る塩化メチレン溶液(15vt%)のドープを作
成した。
これを実施例1と全く同様にして、約75μ厚さの約1
100mm幅の絶乾膜状物原反を得た。
100mm幅の絶乾膜状物原反を得た。
次いでこの膜状物原反をクリップ間隔1050 mnの
連続熱処理装置(クリップテンター)にて250℃、3
分間予熱し、次に250℃から200℃まで連続的に3
分間徐冷した。この膜状物原反の複屈折は3nIlであ
った・ この光学的に等方性を有する膜状物原反を横延伸機にて
雰囲気温度220℃にて横一軸延伸を行ない75μの一
軸延伸光学的に異方性を有する位相差膜状物(偏光顕微
鏡による複屈折の測定値が約400 no)を得た。
連続熱処理装置(クリップテンター)にて250℃、3
分間予熱し、次に250℃から200℃まで連続的に3
分間徐冷した。この膜状物原反の複屈折は3nIlであ
った・ この光学的に等方性を有する膜状物原反を横延伸機にて
雰囲気温度220℃にて横一軸延伸を行ない75μの一
軸延伸光学的に異方性を有する位相差膜状物(偏光顕微
鏡による複屈折の測定値が約400 no)を得た。
この位相差膜状物の試験結果を第1表に示す。
比較例2
実施例1で使用したポリカーボネート樹脂単独より成る
塩化メチレン溶液(15vt%)のドープを作成した。
塩化メチレン溶液(15vt%)のドープを作成した。
これを実施例1と全く同様にして流延設備にて乾燥しく
40℃0.5分、60℃1分)、更にテンター設備にて
(130℃1分、170℃5分)及び熱固定(180℃
3分)を行い、約75μ厚、1100+o+s幅の絶乾
ポリカーボネートフィルムを得た。
40℃0.5分、60℃1分)、更にテンター設備にて
(130℃1分、170℃5分)及び熱固定(180℃
3分)を行い、約75μ厚、1100+o+s幅の絶乾
ポリカーボネートフィルムを得た。
次いでこのポリカーボネートフィルムを実施例1と同様
にしてクリップ間隔1050 +amの連続フィルム熱
処理装置(クリップテン−ター)にて185℃4分間予
熱し、次に185℃から135℃まで連続的に3分間徐
冷した。この膜状物原反の複屈折は6nmであった。
にしてクリップ間隔1050 +amの連続フィルム熱
処理装置(クリップテン−ター)にて185℃4分間予
熱し、次に185℃から135℃まで連続的に3分間徐
冷した。この膜状物原反の複屈折は6nmであった。
光学的に等方性を有するTgが149℃のポリカーボネ
ートの膜状物原反を横延伸機にて雰囲気温度155℃に
て横一軸延伸を行ない約75μの一輪延伸光学的に異方
性を有する位相差膜状物(偏光顕微鏡による複屈折の測
定値が約400 nm)を得た。
ートの膜状物原反を横延伸機にて雰囲気温度155℃に
て横一軸延伸を行ない約75μの一輪延伸光学的に異方
性を有する位相差膜状物(偏光顕微鏡による複屈折の測
定値が約400 nm)を得た。
この位相差膜状物の試験結果を第1表に示す。
比較例3
比較例3は比較例1で使用したボリアリレート樹脂単独
より成る塩化メチレン溶液(15vt%)のドープを作
成した。抗酸化剤として1.3.5−トリス−メチル−
2,4,0−トリス(3,5−ジーtertブチルー4
−ヒドロキシベンジル)ベンゼン(A−1)及びトリス
(2,4−ジーtertブチルフェニル)ホスファイト
(P−1)を使用しない以外は比較例1と全く同様にし
て行った。
より成る塩化メチレン溶液(15vt%)のドープを作
成した。抗酸化剤として1.3.5−トリス−メチル−
2,4,0−トリス(3,5−ジーtertブチルー4
−ヒドロキシベンジル)ベンゼン(A−1)及びトリス
(2,4−ジーtertブチルフェニル)ホスファイト
(P−1)を使用しない以外は比較例1と全く同様にし
て行った。
この試験結果を第1表に示す。
ミ 閤
Q Q
\ /
/ \
閤 田
0
o 。
\ /
口。
尚ここでTgとは、ガラス転移温度であり、−次の熱力
学的導関数を温度に対してプロットしたとき、不連続が
起こる温度であり、密度、比容積、比熱、音響係数また
は屈折率の関係より求まる。
学的導関数を温度に対してプロットしたとき、不連続が
起こる温度であり、密度、比容積、比熱、音響係数また
は屈折率の関係より求まる。
物性の測定および評価方法は、以下の方法により行った
値を用いた。
値を用いた。
(1)ガラス転位温度(Tg)
パーキンエルマー社製のDSC(示差走査熱量計)■型
を用いて測定した。すなわち、試料ポリマー10+ng
をDSC装置セットし、この試料を室温より10℃/分
で昇温し、ガラス転移点を1TII定した。
を用いて測定した。すなわち、試料ポリマー10+ng
をDSC装置セットし、この試料を室温より10℃/分
で昇温し、ガラス転移点を1TII定した。
(2)複屈折
日本光学工業■の偏光顕微鏡(0PTIPHOT−PO
L型)を使用し、セナルモンコンペンセーター法にて複
屈折を測定した。
L型)を使用し、セナルモンコンペンセーター法にて複
屈折を測定した。
尚、複屈折バラツキについては、位相差膜状物の幅方向
に対し中央部200 mm X 200 mm広さの部
分を、位相差膜状物の流れ方向及び幅方向に50龍間隔
にて複屈折を測定し、その最大値と最小値の差を複屈折
バラツキ値とした。
に対し中央部200 mm X 200 mm広さの部
分を、位相差膜状物の流れ方向及び幅方向に50龍間隔
にて複屈折を測定し、その最大値と最小値の差を複屈折
バラツキ値とした。
(3)耐久性試験(耐久性の変化率)
試験片を、温度40℃、湿度95%雰囲気中で、100
0時間放置し、日本光学工業■の偏光顕微鏡(OPT
I PIIOT−POL型)を使用し、セナルモンコン
ペンセーター法にてn1定し、下記式にて複屈折の変化
率を求め下記の様に評征した。
0時間放置し、日本光学工業■の偏光顕微鏡(OPT
I PIIOT−POL型)を使用し、セナルモンコン
ペンセーター法にてn1定し、下記式にて複屈折の変化
率を求め下記の様に評征した。
初期複屈折値−試験結果後の複屈折値
X100 (%)
(評価)
変化率が 0%以上〜2%未満のとき Q変化率が 2
%以上〜5%未満のとき Δ変化率が 5%以上のとき
×(4)耐熱・耐湿性試験(耐熱・耐湿性
の変化率)試験片を、温度80℃、湿度90%雰囲気中
で、1000時間放置し、日本光学工業■の偏光顕微鏡
(0PTIPI!0T−POL型)を使用し、セナルモ
ンコンペンセ−ター法にて測定し、下記式にて複屈折の
変化率を求め下記の様に評価した。
%以上〜5%未満のとき Δ変化率が 5%以上のとき
×(4)耐熱・耐湿性試験(耐熱・耐湿性
の変化率)試験片を、温度80℃、湿度90%雰囲気中
で、1000時間放置し、日本光学工業■の偏光顕微鏡
(0PTIPI!0T−POL型)を使用し、セナルモ
ンコンペンセ−ター法にて測定し、下記式にて複屈折の
変化率を求め下記の様に評価した。
初期複屈折値−試験結果後の複屈折値
× 100 (%)
(評価)
変化率が 0%以上〜2%未満のとき O変化率が 2
%以上〜5%未満のとき Δ変化率が 5%以上のとき
X(5〉黄変性 ■島津製作所製の分光光度計(ダブルモノクロメータ−
自己分光光度計UV−365)にて390 nmの全光
線透過率を測定した。
%以上〜5%未満のとき Δ変化率が 5%以上のとき
X(5〉黄変性 ■島津製作所製の分光光度計(ダブルモノクロメータ−
自己分光光度計UV−365)にて390 nmの全光
線透過率を測定した。
(評価)
全光線透過率が80%以上 O〃 が
70%以上〜80%未満 △/l が70%未満
×(6)吹出し性 フィルム試験片を雰囲気温度150℃×30分間放置し
、抗酸化剤のフィルム表面への吹出し性を肉眼にて評価
した。
70%以上〜80%未満 △/l が70%未満
×(6)吹出し性 フィルム試験片を雰囲気温度150℃×30分間放置し
、抗酸化剤のフィルム表面への吹出し性を肉眼にて評価
した。
吹出が全く認められない 0吹出かわずかに
認められる Δ吹出が認められる
×(7)透明性(光線透過率%) フィルム試験片を雰囲気温度150℃x30分間放置し
、(3)で使用した■島津製作所製の分光光度計にて5
00 n11〜750■における平行光線透過率(%)
を測定し、その平均値を算出した。
認められる Δ吹出が認められる
×(7)透明性(光線透過率%) フィルム試験片を雰囲気温度150℃x30分間放置し
、(3)で使用した■島津製作所製の分光光度計にて5
00 n11〜750■における平行光線透過率(%)
を測定し、その平均値を算出した。
(8) クラック
フィルム試験片50(至)×50cITl内におけるク
ラックの数を肉眼にて判定した。
ラックの数を肉眼にて判定した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、樹脂組成分が主に芳香族ポリエステル系樹脂と炭酸
エステル系樹脂であることを特徴とする位相差膜状物。 2、該芳香族ポリエステル系樹脂の主成分が▲数式、化
学式、表等があります▼( I ) (式中、Xは炭素数1〜10の置換或いは無置換の2価
炭化水素基、−O−、−S−、 −SO_2−及び−CO−から選ばれる基、R、R′は
炭素数1〜20のアルキル、アリル、アラルキル、アル
コキシル、アリロキシル及びアリルアルコキシル基、そ
の置換体、ハロゲン及びそれらの混合物から選ばれる1
価の基、p、qはp+q=0〜8の整数、m、nは0又
は1、但しm=1のときn=0) である特許請求の範囲第1項記載の位相差膜状物。 3、該( I )式において、一部又は全てが ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、X、m、nは( I )式に同じ、R_1〜R_
4は炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシル基、フェ
ニル基及びハロゲン原子から選ばれる1価の基を示す) である特許請求の範囲第2項記載の位相差膜状物。 4、該(II)式における芳香族ジカルボン酸成分におい
て、モル比率が(10/0〜7/3)である(テレフタ
ル酸/イソフタル酸)とモル比率が2/1である(ビス
フェノールA/3,3’,5,5’テトラメチルビスフ
ェノールF)とからなる共重合体である特許請求の範囲
第3項記載の位相差膜状物。 5、該炭酸エステル系樹脂が、ポリカーボネートである
特許請求の範囲第1項記載の位相差膜状物。 6、該芳香族ポリエステル系樹脂が99〜51重量%、
炭酸エステル系樹脂が1〜49重量%である特許請求の
範囲第1項記載の位相差膜状物。 7、該位相差膜状物の膜厚が5〜3000μである特許
請求の範囲第1〜6項記載の位相差膜状物。 8、該位相差膜状物の複屈折が100〜 1000nmである特許請求の範囲第1〜7項記載の位
相差膜状物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29391789A JP2873342B2 (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 位相差膜状物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29391789A JP2873342B2 (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 位相差膜状物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03155502A true JPH03155502A (ja) | 1991-07-03 |
JP2873342B2 JP2873342B2 (ja) | 1999-03-24 |
Family
ID=17800832
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29391789A Expired - Fee Related JP2873342B2 (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 位相差膜状物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2873342B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06194520A (ja) * | 1992-12-24 | 1994-07-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 位相差フィルム |
JP2000338344A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-12-08 | Unitika Ltd | 光デバイス用高分子光学材料、高分子光デバイス及びその製造方法 |
CN115782146A (zh) * | 2021-09-10 | 2023-03-14 | 日东电工株式会社 | 拉伸膜的制造方法及光学层叠体的制造方法 |
-
1989
- 1989-11-14 JP JP29391789A patent/JP2873342B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06194520A (ja) * | 1992-12-24 | 1994-07-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 位相差フィルム |
JP2000338344A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-12-08 | Unitika Ltd | 光デバイス用高分子光学材料、高分子光デバイス及びその製造方法 |
CN115782146A (zh) * | 2021-09-10 | 2023-03-14 | 日东电工株式会社 | 拉伸膜的制造方法及光学层叠体的制造方法 |
CN115782146B (zh) * | 2021-09-10 | 2023-06-30 | 日东电工株式会社 | 拉伸膜的制造方法及光学层叠体的制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2873342B2 (ja) | 1999-03-24 |
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