JPH03153839A - チタン含有率の低いフエロシリコンの製造法 - Google Patents
チタン含有率の低いフエロシリコンの製造法Info
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- JPH03153839A JPH03153839A JP32417189A JP32417189A JPH03153839A JP H03153839 A JPH03153839 A JP H03153839A JP 32417189 A JP32417189 A JP 32417189A JP 32417189 A JP32417189 A JP 32417189A JP H03153839 A JPH03153839 A JP H03153839A
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- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、極めて純粋なフェロシリコン(ferr。
5ilicon)、更に詳しくはチタン含有率が極めて
低く且つ他の微量元素の含有率が低いフェロシリコンの
製造法に関する。
低く且つ他の微量元素の含有率が低いフェロシリコンの
製造法に関する。
チタン含有率の低いフェロシリコンは、主にトランスフ
ォーマ−鋼(transformer 5teel)す
なわちトランスフォーマ−の材料としての鋼を製造する
のに使用される。方向性ケイ素鋼板を製造する工程中に
、ケイ素含有量はフェロシリコンを添加することによっ
て調整される。電力損失量が少ない、方向性ケイ素鋼板
を製造するためには、該鋼板のチタン含有量をできるだ
け低く保つことが大切である。トランスフォーマ−鋼中
のチタンの主な供給源は、ケイ素含有量を調整するため
に前記鋼に加えられるフェロシリコン中に含有されるチ
タンである。電気溶融炉中で炭熱(carbother
mal)還元によって製造されたフェロシリコンは、通
常は0.05〜0.25重量%の範囲内のチタン含有率
を有する。フェロシリコン中のチタンはこれを除去する
ことが困難であるが、チタンは極めて低い濃度までは溶
融フェロシリコンを精錬することによって除去し得る。
ォーマ−鋼(transformer 5teel)す
なわちトランスフォーマ−の材料としての鋼を製造する
のに使用される。方向性ケイ素鋼板を製造する工程中に
、ケイ素含有量はフェロシリコンを添加することによっ
て調整される。電力損失量が少ない、方向性ケイ素鋼板
を製造するためには、該鋼板のチタン含有量をできるだ
け低く保つことが大切である。トランスフォーマ−鋼中
のチタンの主な供給源は、ケイ素含有量を調整するため
に前記鋼に加えられるフェロシリコン中に含有されるチ
タンである。電気溶融炉中で炭熱(carbother
mal)還元によって製造されたフェロシリコンは、通
常は0.05〜0.25重量%の範囲内のチタン含有率
を有する。フェロシリコン中のチタンはこれを除去する
ことが困難であるが、チタンは極めて低い濃度までは溶
融フェロシリコンを精錬することによって除去し得る。
従って、チタン含有率の低いフェロシリコンの製造に関
しては、チタン含有率の低い原料を選択することが必要
である。原料を注意深く選択することによって、現在の
ところ最低1100ppまで下げたチタン含有率を有す
るフェロシリコンを製造できる。現在、低チタンフェロ
シリコンの標準的な規格は、66%FeS iにおいて
はチタン含量0.02重量%であり、75%FeSiに
おいてはチタン含量0.03重量%である。しかしなが
ら、チタン含量の低い原料の価格は、常に上昇傾向にあ
り、それゆえにチタン含有量の低いフェロシリコンを製
造する費用は、今後は急速に上昇が予期される。
しては、チタン含有率の低い原料を選択することが必要
である。原料を注意深く選択することによって、現在の
ところ最低1100ppまで下げたチタン含有率を有す
るフェロシリコンを製造できる。現在、低チタンフェロ
シリコンの標準的な規格は、66%FeS iにおいて
はチタン含量0.02重量%であり、75%FeSiに
おいてはチタン含量0.03重量%である。しかしなが
ら、チタン含量の低い原料の価格は、常に上昇傾向にあ
り、それゆえにチタン含有量の低いフェロシリコンを製
造する費用は、今後は急速に上昇が予期される。
本発明の目的は、5 ppmまでに下げたチタン含有量
を有し且つ他の微量元素の含有量の低いフェロシリコン
の製造法を提供することにある。
を有し且つ他の微量元素の含有量の低いフェロシリコン
の製造法を提供することにある。
従って、本発明はチタン含有率が低く且つ他の微量元素
の含有率が低いフェロシリコンの製造法に関し、該製造
法においては、 50重量%よりも高いケイ素含有率と1〜10重量%の
カルシウム含有率とを有するフェロシリコンの溶融物(
メルト)を製造し、その後に該溶融物を固化し、破砕し
、次いで、破砕したフェロシリコンをFeCl3及び/
又は(FeCl s + HC(! )の水溶液中で浸
出し、それによって該フェロシリコン中のCaSi、相
を溶解し且つ該(aS i 2相中に含有されるチタン
含有相を遊離させ、その後、遊離させたチタン含有相は
前記フェロシリコンから洗滌することによって除去され
る。得られたフェロシリコンは、所望に応じて、Fe含
有量をあらかじめ設定した値に調整するために鉄と合金
化される。
の含有率が低いフェロシリコンの製造法に関し、該製造
法においては、 50重量%よりも高いケイ素含有率と1〜10重量%の
カルシウム含有率とを有するフェロシリコンの溶融物(
メルト)を製造し、その後に該溶融物を固化し、破砕し
、次いで、破砕したフェロシリコンをFeCl3及び/
又は(FeCl s + HC(! )の水溶液中で浸
出し、それによって該フェロシリコン中のCaSi、相
を溶解し且つ該(aS i 2相中に含有されるチタン
含有相を遊離させ、その後、遊離させたチタン含有相は
前記フェロシリコンから洗滌することによって除去され
る。得られたフェロシリコンは、所望に応じて、Fe含
有量をあらかじめ設定した値に調整するために鉄と合金
化される。
50重量%よりも高いケイ素含有率を有する溶融フェロ
シリコンを固化させる間に、次の相、すなわち元素状ケ
イ素、 FeSi2. Ti(Zr)FeSi、、 C
a5iz及びCu(Aj? )CaSi2の各相が形成
される。これら相のうち、元素状ケイ素とFe5izは
、FeCL’sの水溶液又は(FeCl s + HC
l )の水溶液に溶解しないが、CaS i 2とCu
(AI)CaSi、の各相は容易に溶解する。
シリコンを固化させる間に、次の相、すなわち元素状ケ
イ素、 FeSi2. Ti(Zr)FeSi、、 C
a5iz及びCu(Aj? )CaSi2の各相が形成
される。これら相のうち、元素状ケイ素とFe5izは
、FeCL’sの水溶液又は(FeCl s + HC
l )の水溶液に溶解しないが、CaS i 2とCu
(AI)CaSi、の各相は容易に溶解する。
カルシウム含有フェロシリコンを固化させる間に、前記
のCa5iz相はフェロシリコンの粒界(grain
boundaries)上に沈澱し、FeCl3水溶液
及び(FeC1,+)IC1)水溶液で浸出する間に、
上記CaSi2相は溶解溶出して、粒界に沿ってフェロ
シリコンの砕解(disintegrat 1on)を
起す。
のCa5iz相はフェロシリコンの粒界(grain
boundaries)上に沈澱し、FeCl3水溶液
及び(FeC1,+)IC1)水溶液で浸出する間に、
上記CaSi2相は溶解溶出して、粒界に沿ってフェロ
シリコンの砕解(disintegrat 1on)を
起す。
前記のTi(Zr)FeSi2相は、前記のFeCj?
3水溶液や(Fei 、 +HCj7 )水溶液に溶解
しないが、フェロシリコンをカルシウムと合金化する場
合には、前記のチタン含有相がCaS i 2相内に沈
澱することが今回意外にも知見された。上記のCaSi
2相はFeC15水溶液や(FeCj’ s + HC
l)水溶液に容易に溶解し、粒界に沿ってフェロシリコ
ンの砕解を生起するので、カルシウム含有フェロシリコ
ンをFeC15又は(FeC1,+HCf )で浸出(
leaching)する間に、前記チタン含有相は微粉
(fines)として遊離される。
3水溶液や(Fei 、 +HCj7 )水溶液に溶解
しないが、フェロシリコンをカルシウムと合金化する場
合には、前記のチタン含有相がCaS i 2相内に沈
澱することが今回意外にも知見された。上記のCaSi
2相はFeC15水溶液や(FeCj’ s + HC
l)水溶液に容易に溶解し、粒界に沿ってフェロシリコ
ンの砕解を生起するので、カルシウム含有フェロシリコ
ンをFeC15又は(FeC1,+HCf )で浸出(
leaching)する間に、前記チタン含有相は微粉
(fines)として遊離される。
浸出が完了すると、前記微粉は、水洗することによって
、浸出処理を受けたフェロシリコンから除かれる。上記
微粉は、CaS i 2相はチタン含有量の多い相を含
有し、該チタン含有量の多い相はCaS i 2相を溶
解する間に遊離される。
、浸出処理を受けたフェロシリコンから除かれる。上記
微粉は、CaS i 2相はチタン含有量の多い相を含
有し、該チタン含有量の多い相はCaS i 2相を溶
解する間に遊離される。
50重量%よりも高いケイ素含有量を有するフェロシリ
コンにおいては、大部分のチタンは前記のTi(Zr)
FeSi、相中に存在することが知見された。
コンにおいては、大部分のチタンは前記のTi(Zr)
FeSi、相中に存在することが知見された。
上記の理由によって、本発明の方法によりフエロシリコ
ンから大部分のチタンを除去できることになる。
ンから大部分のチタンを除去できることになる。
前記のように、FeSi、相そのものはFeC1z/H
C1溶液に溶解しない。従って、Ti(Zr) Fe5
iz相中に存在する鉄のみが、浸出する間に、フェロシ
リコンから除去される。従って、フェロシリコン中の鉄
含有量は、前記の方法では実質的に影響されない。
C1溶液に溶解しない。従って、Ti(Zr) Fe5
iz相中に存在する鉄のみが、浸出する間に、フェロシ
リコンから除去される。従って、フェロシリコン中の鉄
含有量は、前記の方法では実質的に影響されない。
本発明の別の実施態様によれば、チタン含有量は、フェ
ロシリコンをHF水溶液で処理する第2の浸出工程で更
に低減される。この第2の浸出工程の間に、フェロシリ
コン中のFeSi、相が溶解し、且つ該FeSi2相の
粒界上に存在し得る別のチタン含有量の多い相が遊離さ
れる。水洗後には、極めて低いチタン含有量を有し且つ
他の微量元素を極めて低い含有量で有するケイ素金属が
得られる。その後、上記ケイ素金属は、鉄含有量をあら
かじめ設定した水準に調整するために、チタン含有量の
低い鉄例えばトランスフォーマ−鋼と合金化される。上
記の別の実施態様は、FeSi、相が除去されるという
理由から、90〜98重量%のケイ素含有量を有するフ
ェロシリコンを使用する場合に特に好ましい。更に低い
ケイ素含有率を有するフェロシリコンを使用する場合に
は、多量の鉄が、HF溶液で浸出する間に除去されると
いう理由から、該方法は経済的に実行できない。しかし
ながら、本発明の第2の実施態様によっては、5 pp
mまで下げたチタン含有率を何する75%フェロシリコ
ンを製造できる。HF浸出の間は、HFを0.5〜5%
含有する水溶液を使用することが好ましい。
ロシリコンをHF水溶液で処理する第2の浸出工程で更
に低減される。この第2の浸出工程の間に、フェロシリ
コン中のFeSi、相が溶解し、且つ該FeSi2相の
粒界上に存在し得る別のチタン含有量の多い相が遊離さ
れる。水洗後には、極めて低いチタン含有量を有し且つ
他の微量元素を極めて低い含有量で有するケイ素金属が
得られる。その後、上記ケイ素金属は、鉄含有量をあら
かじめ設定した水準に調整するために、チタン含有量の
低い鉄例えばトランスフォーマ−鋼と合金化される。上
記の別の実施態様は、FeSi、相が除去されるという
理由から、90〜98重量%のケイ素含有量を有するフ
ェロシリコンを使用する場合に特に好ましい。更に低い
ケイ素含有率を有するフェロシリコンを使用する場合に
は、多量の鉄が、HF溶液で浸出する間に除去されると
いう理由から、該方法は経済的に実行できない。しかし
ながら、本発明の第2の実施態様によっては、5 pp
mまで下げたチタン含有率を何する75%フェロシリコ
ンを製造できる。HF浸出の間は、HFを0.5〜5%
含有する水溶液を使用することが好ましい。
本発明の方法によれば、フェロシリコン中の多数の微量
元素の含有率が、実質的に低減され、そのうちでも上記
微量元素としてのZr、 Ni、 V及びMnは、カル
シウム含有フェロシリコン中の前記のチタン含有相と銅
含有相に存在する。
元素の含有率が、実質的に低減され、そのうちでも上記
微量元素としてのZr、 Ni、 V及びMnは、カル
シウム含有フェロシリコン中の前記のチタン含有相と銅
含有相に存在する。
寒廠貫ユ
第1表に示した組成を有する標準的な75%FeS i
を、50KW誘導炉に入れたグラファイト製るつぼ中で
溶融した。上記フェロシリコンを溶融した後に、該溶融
物にCaOを加え、その後、該溶融物をグラファイト製
の成形型に注型した。得られたCa含有フェロシリコン
の化学組成を第1表に示す。その後、成型されたフェロ
シリコンを2〜30ounの粒子寸法に破砕し、FeC
1、/HCj7 (10%水溶液)中で20℃で24時
間浸出し、その後FeCj’ s / HCI(10%
水溶液)で90℃で3時間浸出した。浸出したフェロシ
リコンを水洗した。このように得られた純化処理(cl
eaned)されたフェロシリコンの化学組成を第1表
に示す。
を、50KW誘導炉に入れたグラファイト製るつぼ中で
溶融した。上記フェロシリコンを溶融した後に、該溶融
物にCaOを加え、その後、該溶融物をグラファイト製
の成形型に注型した。得られたCa含有フェロシリコン
の化学組成を第1表に示す。その後、成型されたフェロ
シリコンを2〜30ounの粒子寸法に破砕し、FeC
1、/HCj7 (10%水溶液)中で20℃で24時
間浸出し、その後FeCj’ s / HCI(10%
水溶液)で90℃で3時間浸出した。浸出したフェロシ
リコンを水洗した。このように得られた純化処理(cl
eaned)されたフェロシリコンの化学組成を第1表
に示す。
第1表 化学組成(重量%)
第1表に示したように、チタン含有率は、本発明の方法
によって、0.082重量%(820ppm)から0、
020重量%(200ppm)に低減された。更に第1
表の結果は、フェロシリコンではAI、Ca及びNiの
大幅な低減が達成されたことを示す。300〜400p
pmという更に低いチタン含有率を有する原料フェロシ
リコンを使用することによって、1100ppよりも更
に低いチタン含有率を有するフェロシリコンを得ること
ができることが明らかである。
によって、0.082重量%(820ppm)から0、
020重量%(200ppm)に低減された。更に第1
表の結果は、フェロシリコンではAI、Ca及びNiの
大幅な低減が達成されたことを示す。300〜400p
pmという更に低いチタン含有率を有する原料フェロシ
リコンを使用することによって、1100ppよりも更
に低いチタン含有率を有するフェロシリコンを得ること
ができることが明らかである。
X置皿l
第■表に示した化学組成を有する92%のCa含有フェ
ロシリコンを、FeC1s / IC1溶液で105°
Cで6時間浸出した。それによって、第1表に示した化
学組成を有する純化処理(cleaned)されたフェ
ロシリコンが得られた。上記の浸出したフェロシリコン
を、次の化学組成(重量%):Fe 96.6. kl
000025. Ca O,0016,Ti O,0
045゜Si 3.18. P O,074 を有するトランスフォーマ−鋼と共に溶融した。
ロシリコンを、FeC1s / IC1溶液で105°
Cで6時間浸出した。それによって、第1表に示した化
学組成を有する純化処理(cleaned)されたフェ
ロシリコンが得られた。上記の浸出したフェロシリコン
を、次の化学組成(重量%):Fe 96.6. kl
000025. Ca O,0016,Ti O,0
045゜Si 3.18. P O,074 を有するトランスフォーマ−鋼と共に溶融した。
鉄含有率20.4%を有するフェロシリコンを得るため
に、添加した鉄の量を調整した。製造した低チタン含有
量のフェロシリコンの化学組成を第1表に示す。
に、添加した鉄の量を調整した。製造した低チタン含有
量のフェロシリコンの化学組成を第1表に示す。
第
■
表
第■表に示したように、0.0051重量%(51pp
m)の極めて低いチタン含有量を有するフェロシリコン
が得られた。
m)の極めて低いチタン含有量を有するフェロシリコン
が得られた。
実施例3
実施例2におけるFeC15/HCI浸出から得られた
フェロシリコンを、HFを1.2%含有するHF水溶液
中で別段の浸出工程に供した。それによって、0.1%
Fe、 0.002%Ti、 0.08%Al。
フェロシリコンを、HFを1.2%含有するHF水溶液
中で別段の浸出工程に供した。それによって、0.1%
Fe、 0.002%Ti、 0.08%Al。
0.03%Ca、 0.001%Cu、 0.002%
Ni、 0.001%以下のCr、 0.006%P
及び0.001%以下のMnを含有する生成物が得られ
た。
Ni、 0.001%以下のCr、 0.006%P
及び0.001%以下のMnを含有する生成物が得られ
た。
上記の別段の浸出処理を受けた合金を、実施例2で使用
したトランスフォーマ−鋼と同じ化学組成を有するトラ
ンスフォーマ−鋼と合金化した。
したトランスフォーマ−鋼と同じ化学組成を有するトラ
ンスフォーマ−鋼と合金化した。
鉄の量を最終的にフェロシリコンが鉄を20.9%含有
するように調整した。製造した低チタン含有量のフェロ
シリコンの化学組成(重量%)は次の通りであった。
するように調整した。製造した低チタン含有量のフェロ
シリコンの化学組成(重量%)は次の通りであった。
Fe 20.9. Ti O,0027,AI O,
03,Ca O,002゜Cu O,007,Mn O
,00?、 Ni O,006,Cr O,014及び
PO,024゜ 本実施例の方法では、それによって27pprnのチタ
ン含有量と他の微量元素を低含有率で有するフェロシリ
コンが得られた。
03,Ca O,002゜Cu O,007,Mn O
,00?、 Ni O,006,Cr O,014及び
PO,024゜ 本実施例の方法では、それによって27pprnのチタ
ン含有量と他の微量元素を低含有率で有するフェロシリ
コンが得られた。
上記実施例によれば、本発明の方法によって極めて低い
チタン含有率を有するフェロシリコンを製造できること
が示される。
チタン含有率を有するフェロシリコンを製造できること
が示される。
純化されたフェロシリコンを合金化するために、より低
いチタン含有量を有する鉄供給源を使用することによっ
て、5 ppmまで下げたチタン含有率を有するフェロ
シリコンを製造できる。また、上記実施例はリン、クロ
ム、マグネシウム、ニッケル及び銅のような微量元素の
含有量が実質的に低減されることを示す。
いチタン含有量を有する鉄供給源を使用することによっ
て、5 ppmまで下げたチタン含有率を有するフェロ
シリコンを製造できる。また、上記実施例はリン、クロ
ム、マグネシウム、ニッケル及び銅のような微量元素の
含有量が実質的に低減されることを示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、50重量%よりも高いケイ素含有率と1〜10重量
%のカルシウム含有率とを有するフェロシリコン溶融物
を製造し、該溶融物を固化し次いで破砕し、その後、得
られた破砕したフェロシリコンを、該フェロシリコン中
のCaSi_2相を溶解するためにFeCl_3及び/
又は(FeCl_3+HCl)の水溶液で処理し、それ
によって該CaSi_2相中に含有されるチタン含有相
を遊離させ、遊離させたチタン含有相を前記フェロシリ
コンから洗滌することによって除去し、その後、所望に
応じて、鉄含有率をあらかじめ設定した水準に調整する
ために、得られたフェロシリコンを鉄供給源と合金化す
ることを特徴とする、チタン含有率が低く且つ他の微量
元素の含有率が低いフェロシリコンの製造法。 2、カルシウムを2〜5重量%含有するフェロシリコン
溶融物を製造することを特徴とする請求項1記載の方法
。 3、純化したフェロシリコンを、該フェロシリコンから
更にチタンを除去するためにHF水溶液中で更に処理し
、その後に、鉄含有率をあらかじめ設定した値に調整す
るために、得られたフェロシリコンを鉄供給源と共に合
金化することを特徴とする請求項1記載の方法。 4、ケイ素を90%よりも多く含有するフェロシリコン
を使用することを特徴とする請求項3記載の方法。 5、前記HF水溶液がHFを0.5〜5%含有するもの
であることを特徴とする請求項3又は4記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NO894484A NO168541C (no) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | Fremgangsmaate for fremstilling av ferrosilisium med lavt titaninnhold. |
NO894484 | 1989-11-10 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03153839A true JPH03153839A (ja) | 1991-07-01 |
JPH0575818B2 JPH0575818B2 (ja) | 1993-10-21 |
Family
ID=19892567
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32417189A Granted JPH03153839A (ja) | 1989-11-10 | 1989-12-15 | チタン含有率の低いフエロシリコンの製造法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03153839A (ja) |
NO (1) | NO168541C (ja) |
-
1989
- 1989-11-10 NO NO894484A patent/NO168541C/no not_active IP Right Cessation
- 1989-12-15 JP JP32417189A patent/JPH03153839A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NO168541C (no) | 1992-03-04 |
NO168541B (no) | 1991-11-25 |
NO894484L (no) | 1991-05-13 |
JPH0575818B2 (ja) | 1993-10-21 |
NO894484D0 (no) | 1989-11-10 |
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