JPH03150509A - 導波路基板と光ファイバの接続方法及び該方法の実施に使用する紫外光遮断機能付き反射防止膜 - Google Patents
導波路基板と光ファイバの接続方法及び該方法の実施に使用する紫外光遮断機能付き反射防止膜Info
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 57
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 28
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 title abstract 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 29
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 29
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 28
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 15
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 34
- 230000006378 damage Effects 0.000 abstract description 13
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003327 LiNbO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910012463 LiTaO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005513 bias potential Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000008832 photodamage Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4201—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
- G02B6/4204—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms
- G02B6/4212—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms the intermediate optical element being a coupling medium interposed therebetween, e.g. epoxy resin, refractive index matching material, index grease, matching liquid or gel
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
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- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/30—Optical coupling means for use between fibre and thin-film device
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- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S359/00—Optical: systems and elements
- Y10S359/90—Methods
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
目 次
ヰ既 要
産業上の利用分野
従来の技術 （第９図）
発明が解決しようとする課題
課題を解決するための手段
作 用
実 施 例 （第１図〜第８図）
発明の効果
５
概要
電気光学結晶からなる導波路基板と光ファイバの接続方
法等に関し、 導波路に光損傷が生じることがない上記方法等の提供を
目的とし、 例えば、電気光学結晶からなる導波路基板と光ファイバ
を紫外光硬化型の接着剤により接続する方法であって、
上記導波路基板の端面における少なくとも上記光ファイ
バの端面が密着する部分及びその近傍に、上記光ファイ
バにより伝送する波長の光を透過させ上記接着剤を硬化
させる波長の紫外光を透過させない紫外光遮断機能付き
反射防止膜を形成し、該反射防止膜上に付着させた上記
接着剤に、上記導波路基板の端面に概略垂直な方向から
紫外光を照射するようにして構成する。
法等に関し、 導波路に光損傷が生じることがない上記方法等の提供を
目的とし、 例えば、電気光学結晶からなる導波路基板と光ファイバ
を紫外光硬化型の接着剤により接続する方法であって、
上記導波路基板の端面における少なくとも上記光ファイ
バの端面が密着する部分及びその近傍に、上記光ファイ
バにより伝送する波長の光を透過させ上記接着剤を硬化
させる波長の紫外光を透過させない紫外光遮断機能付き
反射防止膜を形成し、該反射防止膜上に付着させた上記
接着剤に、上記導波路基板の端面に概略垂直な方向から
紫外光を照射するようにして構成する。
産業上の利用分野
本発明は導波路型光変調器等の導波路型光デバイスに用
いられる導波路基板であって電気光学結晶からなる導波
路基板と光ファイバの接続方法及び該方法の実施に使用
する紫外光遮断機能付き反射防止膜に関する。
いられる導波路基板であって電気光学結晶からなる導波
路基板と光ファイバの接続方法及び該方法の実施に使用
する紫外光遮断機能付き反射防止膜に関する。
光通信システムを構築するためには、光源装置及び受光
装置等の基本構成要素のほかに、光変調器及び光スィッ
チ等の種々の光デバイスが必要とされる。光デバイスの
形態の一つに、導波路型のものがある。導波路型光デバ
イスは、通常、電気光学結晶からなる導波路基板上に導
波路を形成し、この導波路内に光ビームを閉じ込めた状
態で光位相等を制御するように構成されており、構造上
小型化が容易でブレーナ技術等を用いて量産することが
できるという利点の他、電界を効果的に印加することが
でき消費電力を飛躍的に低減することが可能であるとい
う利点を有している。この種の導波路型光デバイスをシ
ステムに組み入れるに際しては、光伝送路としての光フ
ァイバと導波路基板を光学的及び機械的に接続する必要
があり、接続方法の最適化が模索されている。
装置等の基本構成要素のほかに、光変調器及び光スィッ
チ等の種々の光デバイスが必要とされる。光デバイスの
形態の一つに、導波路型のものがある。導波路型光デバ
イスは、通常、電気光学結晶からなる導波路基板上に導
波路を形成し、この導波路内に光ビームを閉じ込めた状
態で光位相等を制御するように構成されており、構造上
小型化が容易でブレーナ技術等を用いて量産することが
できるという利点の他、電界を効果的に印加することが
でき消費電力を飛躍的に低減することが可能であるとい
う利点を有している。この種の導波路型光デバイスをシ
ステムに組み入れるに際しては、光伝送路としての光フ
ァイバと導波路基板を光学的及び機械的に接続する必要
があり、接続方法の最適化が模索されている。
従来の技術
導波路基板と光ファイバの従来の接続方法を第９図によ
り説明する。図中、２は導波路基板、４は導波路基板上
に形成された導波路、６は接続すべき光ファイバである
。導波路基板２と光ファイバ６を接続するに際しては、
第９図（ａ）に示すように光ファイバ６の先端部に紫外
光硬化型の接着剤８を付着させておき、光ファイバ６の
コア端面と導波路４の端面とが相対向し且つ密着するよ
うに高精度な位置調整を行った後、第９図（ｂ）に示す
ように、矢印方向に紫外光を照射して、接着剤８を硬化
させる。これにより導波路基板２と光ファイバ６とが光
学的及び機械的に接続される。この接続方法による場合
、接着剤の常温における硬化が可能であるから、熱硬化
性接着剤や半田を用いて接続を行う場合と異なり、接続
部に熱応力が生じて損失特性が変動等する恐れがない。
り説明する。図中、２は導波路基板、４は導波路基板上
に形成された導波路、６は接続すべき光ファイバである
。導波路基板２と光ファイバ６を接続するに際しては、
第９図（ａ）に示すように光ファイバ６の先端部に紫外
光硬化型の接着剤８を付着させておき、光ファイバ６の
コア端面と導波路４の端面とが相対向し且つ密着するよ
うに高精度な位置調整を行った後、第９図（ｂ）に示す
ように、矢印方向に紫外光を照射して、接着剤８を硬化
させる。これにより導波路基板２と光ファイバ６とが光
学的及び機械的に接続される。この接続方法による場合
、接着剤の常温における硬化が可能であるから、熱硬化
性接着剤や半田を用いて接続を行う場合と異なり、接続
部に熱応力が生じて損失特性が変動等する恐れがない。
的には、ＬｉＮｂＯ３（リチウムナイオベート；以下ｒ
ＬＮＪと称することがある。）やＬｉＴａＯ３（リチウ
ムタンタレート；以下ｒＬＴＪと称することがある。）
であるが、これらの材質からなる導波路基板に従来方法
を適用した場合、接着剤を硬化させるために照射した紫
外光の影響によって、導波路に光損傷が生じるという問
題がある。
ＬＮＪと称することがある。）やＬｉＴａＯ３（リチウ
ムタンタレート；以下ｒＬＴＪと称することがある。）
であるが、これらの材質からなる導波路基板に従来方法
を適用した場合、接着剤を硬化させるために照射した紫
外光の影響によって、導波路に光損傷が生じるという問
題がある。
ここで、光損傷とは、ＬＮ等の電気光学結晶に比較的高
強度な紫外光等の光が照射されたときに、結晶中の不純
物準位から電子が伝導帯に励起される過程で励起電子が
トラップ準位に落ち込み結晶内部に局部的な電界が生じ
、電気光学効果を介して屈折率が局部的に変化する現象
をいう。この光損傷は、可逆的現象として理解されてお
り、紫外光の照射を中止してから上記屈折率の変化は回
復するものであるが、この回復は必ずしも速やかに行わ
れないので、実際上光デバイスを使用する上で問題とな
る。このように光損傷により導波路の屈折率が局部的に
変化すると、導波路型光デバイスの損失特性が劣化した
り或いは動作点（例えば＝９− 導波路型光変調器におけるバイアス電位）が変動したり
する。
強度な紫外光等の光が照射されたときに、結晶中の不純
物準位から電子が伝導帯に励起される過程で励起電子が
トラップ準位に落ち込み結晶内部に局部的な電界が生じ
、電気光学効果を介して屈折率が局部的に変化する現象
をいう。この光損傷は、可逆的現象として理解されてお
り、紫外光の照射を中止してから上記屈折率の変化は回
復するものであるが、この回復は必ずしも速やかに行わ
れないので、実際上光デバイスを使用する上で問題とな
る。このように光損傷により導波路の屈折率が局部的に
変化すると、導波路型光デバイスの損失特性が劣化した
り或いは動作点（例えば＝９− 導波路型光変調器におけるバイアス電位）が変動したり
する。
本発明はこのような点に鑑みて創作されたもので、光損
傷が生じる恐れのない導波路基板と光ファイバの接続方
法の提供を目的としている。また、この方法の実施に直
接使用する紫外光遮断機能付き反射防止膜の提供を目的
としている。
傷が生じる恐れのない導波路基板と光ファイバの接続方
法の提供を目的としている。また、この方法の実施に直
接使用する紫外光遮断機能付き反射防止膜の提供を目的
としている。
課題を解決するための手段
上述した技術的課題を解決するためになされた本発明方
法は、電気光学結晶からなる導波路基板と光ファイバを
紫外光硬化型の接着剤により接続する方法であって、上
記導波路基板の端面における少なくとも上記光ファイバ
の端面が密着する部分及びその近傍に、上記光ファイバ
により伝送する波長の光を透過させ上記接着剤を硬化さ
せる波長の紫外光を透過させない紫外光遮断機能付き反
射防止膜を形成し、該反射防止膜上に付着させた上記接
着剤に、上記導波路基板の端面に概略垂直な方向から紫
外光を照射するようにした方法であ−１０＝ る。
法は、電気光学結晶からなる導波路基板と光ファイバを
紫外光硬化型の接着剤により接続する方法であって、上
記導波路基板の端面における少なくとも上記光ファイバ
の端面が密着する部分及びその近傍に、上記光ファイバ
により伝送する波長の光を透過させ上記接着剤を硬化さ
せる波長の紫外光を透過させない紫外光遮断機能付き反
射防止膜を形成し、該反射防止膜上に付着させた上記接
着剤に、上記導波路基板の端面に概略垂直な方向から紫
外光を照射するようにした方法であ−１０＝ る。
また、この方法の実施に直接使用するものとして、電気
光学結晶からなる導波路基板に５１層及びＳｉＯ２層を
交互に複数層積層してなる紫外光遮断機能付き反射防止
膜が提供される。ここで、５１層及び５ｉＣｈ層の積層
数は５乃至１０層とすることができる。各層の材質の選
択及び各層の厚みの設計値は、積層数に応じて以下の表
のとおりとする。
光学結晶からなる導波路基板に５１層及びＳｉＯ２層を
交互に複数層積層してなる紫外光遮断機能付き反射防止
膜が提供される。ここで、５１層及び５ｉＣｈ層の積層
数は５乃至１０層とすることができる。各層の材質の選
択及び各層の厚みの設計値は、積層数に応じて以下の表
のとおりとする。
各層において膜厚を表す数値は、遮断すべき紫外光の中
心波長の４分の１に相当する膜厚を１゜０としたときの
相対値である。
心波長の４分の１に相当する膜厚を１゜０としたときの
相対値である。
■ 積層数が５の場合
■
積層数が６の場合
■
積層数が７の場合
■
積層数が８の場合
■
積層数が９の場合
３−
■
積層数が１
０の場合
作
用
本発明方法によれば、
導波路基板と光ファイバ
を紫外光硬化型の接着剤により接続するに際して、紫外
光を透過させない反射防止膜上に付着させた接着剤に、
導波路基板の端面に概略垂直な方向から紫外光を照射す
るようにしているので、導波路に紫外光が直接照射され
ることがなく、また、紫外光が反射防止膜を介して導波
路に到達することがない。よって、本発明方法による場
合、導波路に光損傷を生じさせることなく導波路基板と
光ファイバを接続することができる。また、上記反射防
止膜は、光ファイバにより伝送する波長の光に対しては
反射防止機能を有しているので、フレネル損失による接
続損失を小さく抑えることができる。
光を透過させない反射防止膜上に付着させた接着剤に、
導波路基板の端面に概略垂直な方向から紫外光を照射す
るようにしているので、導波路に紫外光が直接照射され
ることがなく、また、紫外光が反射防止膜を介して導波
路に到達することがない。よって、本発明方法による場
合、導波路に光損傷を生じさせることなく導波路基板と
光ファイバを接続することができる。また、上記反射防
止膜は、光ファイバにより伝送する波長の光に対しては
反射防止機能を有しているので、フレネル損失による接
続損失を小さく抑えることができる。
本発明の紫外光遮断機能付き反射防止膜の各構成による
と、光ファイバにより伝送する波長１゜５５μｍ帯の光
を高い透過率で透過させ、即ち、光ファイバにより伝送
する波長１．５５μｍ帯の光に対して反射防止膜として
機能し、また、紫外光硬化型の接着剤を硬化させる波長
０．４μｍ帯の紫外光（波長０．４３μｍの紫外光〉を
透過させないようにすることができる。この場合Ｓｉ層
及びＳｉ０２層の厚みの偏差を設計値に対して±１０％
の範囲内にすることによって、波長１．５５μｍ帯の光
に対しての高い透過率を安定に維持することができ、ま
た、波長０．４μｍ帯の紫外光に対する低い透過率を安
定に維持することができる。
と、光ファイバにより伝送する波長１゜５５μｍ帯の光
を高い透過率で透過させ、即ち、光ファイバにより伝送
する波長１．５５μｍ帯の光に対して反射防止膜として
機能し、また、紫外光硬化型の接着剤を硬化させる波長
０．４μｍ帯の紫外光（波長０．４３μｍの紫外光〉を
透過させないようにすることができる。この場合Ｓｉ層
及びＳｉ０２層の厚みの偏差を設計値に対して±１０％
の範囲内にすることによって、波長１．５５μｍ帯の光
に対しての高い透過率を安定に維持することができ、ま
た、波長０．４μｍ帯の紫外光に対する低い透過率を安
定に維持することができる。
実 施 例
以下本発明の詳細な説明する。
第２図は本発明の実施例において使用する導波路型光デ
バイスの斜視図であり、この光デバイスは具体的には一
定強度で入力したレーザ光を強度変調して出力する光変
調器である。このデバイスは、ＬＮからなる導波路基板
２に部分的に例えばＴｉ（チタン）を拡散させることに
よってマツハツエンダ型の導波路４を形成し、この導波
路４の分岐部分４ａ、４ｂに駆動電圧印加用の電極１２
゜１４を装架して構成されている。
バイスの斜視図であり、この光デバイスは具体的には一
定強度で入力したレーザ光を強度変調して出力する光変
調器である。このデバイスは、ＬＮからなる導波路基板
２に部分的に例えばＴｉ（チタン）を拡散させることに
よってマツハツエンダ型の導波路４を形成し、この導波
路４の分岐部分４ａ、４ｂに駆動電圧印加用の電極１２
゜１４を装架して構成されている。
導波路の分岐部分４ａ、４ｂの屈折率は印加電界に応じ
て変化するから、装架電極１２．１４間に電位差を与え
ると、同位相で分岐された分岐光は異なる位相変化を受
けることになる。一方、導波路４はＹ分岐部を除いて基
本モード光のみを伝撤する単一モード導波路とされてい
るから、合流時の分岐光の位相差が０であるときには出
力する干渉光の強度は最大となり、合流時の分岐光の位
相差がπであるときには干渉光の強度は最小となる。ま
た、位相差が０とπの間であるときには、位相差に応じ
た干渉光強度となる。従って、変調信号に応じて装架電
極１’２．１４に印加する電圧を変化させることによっ
て、光強度変調機能が達成される。
て変化するから、装架電極１２．１４間に電位差を与え
ると、同位相で分岐された分岐光は異なる位相変化を受
けることになる。一方、導波路４はＹ分岐部を除いて基
本モード光のみを伝撤する単一モード導波路とされてい
るから、合流時の分岐光の位相差が０であるときには出
力する干渉光の強度は最大となり、合流時の分岐光の位
相差がπであるときには干渉光の強度は最小となる。ま
た、位相差が０とπの間であるときには、位相差に応じ
た干渉光強度となる。従って、変調信号に応じて装架電
極１’２．１４に印加する電圧を変化させることによっ
て、光強度変調機能が達成される。
このように導波路の屈折率の微妙な変化を利用した導波
路型光デバイスにあっては、前述したような光損傷の影
響によって、動作特性が大きく変化することがある。そ
こで、光損傷によ５る影響を排除するために、この光デ
バイスと光ファイバを接続するに際して本発明方法を適
用する。
路型光デバイスにあっては、前述したような光損傷の影
響によって、動作特性が大きく変化することがある。そ
こで、光損傷によ５る影響を排除するために、この光デ
バイスと光ファイバを接続するに際して本発明方法を適
用する。
第１図は本発明の接続方法の実施例を説明するための図
である。まず、接続作業に先立ち、同図 ７− （ａ）に示すように、導波路基板２の端面における少な
くとも光ファイバ６の端面が密着する部分及びその近傍
に、この実施例では波長１．５５μｍ帯の光を透過させ
波長０．４３μｍの紫外光を透過させない紫外光遮断機
能付き反射防止膜１０を形成してふく。反射防止機能を
生じさせる波長は上述のように１．５５μｍ帯とする場
合の他、１゜３μｍ帯としても良い。紫外光の波長も０
．４３μｍに限られず、紫外光硬化型の接着剤を硬化さ
せる他の波長にしても良い。反射防止膜１０は電子ビー
ム蒸着法等の通常の方法により形成することができる。
である。まず、接続作業に先立ち、同図 ７− （ａ）に示すように、導波路基板２の端面における少な
くとも光ファイバ６の端面が密着する部分及びその近傍
に、この実施例では波長１．５５μｍ帯の光を透過させ
波長０．４３μｍの紫外光を透過させない紫外光遮断機
能付き反射防止膜１０を形成してふく。反射防止機能を
生じさせる波長は上述のように１．５５μｍ帯とする場
合の他、１゜３μｍ帯としても良い。紫外光の波長も０
．４３μｍに限られず、紫外光硬化型の接着剤を硬化さ
せる他の波長にしても良い。反射防止膜１０は電子ビー
ム蒸着法等の通常の方法により形成することができる。
尚、この実施例では、導波路基板２の端面の全面に反射
防止膜１０を形成している。
防止膜１０を形成している。
一方、接続すべき光ファイバ６の端部には紫外光硬化型
の接着剤８を付着させておく。このとき、反射防止膜１
０の導波路４に相当する部分及びその近傍に図示はしな
いが接着剤８を付着させておいても良い。
の接着剤８を付着させておく。このとき、反射防止膜１
０の導波路４に相当する部分及びその近傍に図示はしな
いが接着剤８を付着させておいても良い。
次に、光ファイバ６のコアの端面が導波路４の端面に相
対し、且つ、光ファイバ６の端面が導波 ８− 路基板２の端面に密着するようにして、接着剤８が光フ
ァイバ６及び導波路基板２の双方に付着している状態と
する。この場合における光ファイバ６と導波路基板２の
相対的位置関係の調整は、これらの間の実際的な光結合
効率を測定しながら行うことができる。
対し、且つ、光ファイバ６の端面が導波 ８− 路基板２の端面に密着するようにして、接着剤８が光フ
ァイバ６及び導波路基板２の双方に付着している状態と
する。この場合における光ファイバ６と導波路基板２の
相対的位置関係の調整は、これらの間の実際的な光結合
効率を測定しながら行うことができる。
しかる後、同図（ｂ）に示すように、反射防止膜１０上
に付着した接着剤８に、導波路基板２の端面に概略垂直
な方向から矢印へで示すように紫外光を照射させて、接
着剤８を固化させる。このとき、紫外光は導波路基板２
の端面に概略垂直な方向から照射させるようにしている
ので、紫外光が直接導波路４に入射して光損傷が生じる
ことはない。
に付着した接着剤８に、導波路基板２の端面に概略垂直
な方向から矢印へで示すように紫外光を照射させて、接
着剤８を固化させる。このとき、紫外光は導波路基板２
の端面に概略垂直な方向から照射させるようにしている
ので、紫外光が直接導波路４に入射して光損傷が生じる
ことはない。
また、導波路基板２の端面における紫外光を照射させる
べき部分には紫外光遮断機能付き反射防止膜１０が形成
されているので、照射した紫外光が導波路基板２の端面
から入射して導波路基板を介して導波路４に入射するこ
ともない。さらに、反射防止膜１０で反射した紫外光は
導波路基板２から遠ざかる方向、即ち同図中Ｂで示され
る方向に放射されるので、この反射光によって導波路４
が光損傷を受けることもない。よって、この方法により
光ファイバと導波路基板の接続を行う場合には、導波路
型光デバイスの特性が光損傷の影響によって不安定にな
ることがない。
べき部分には紫外光遮断機能付き反射防止膜１０が形成
されているので、照射した紫外光が導波路基板２の端面
から入射して導波路基板を介して導波路４に入射するこ
ともない。さらに、反射防止膜１０で反射した紫外光は
導波路基板２から遠ざかる方向、即ち同図中Ｂで示され
る方向に放射されるので、この反射光によって導波路４
が光損傷を受けることもない。よって、この方法により
光ファイバと導波路基板の接続を行う場合には、導波路
型光デバイスの特性が光損傷の影響によって不安定にな
ることがない。
紫外光遮断機能付き反射防止膜の積層数を前述のように
５層乃至１０層とした場合において、各層の膜厚の偏差
が±１０％のときに特性曲線（透過率と波長の関係を示
す曲線）がとり得る範囲をそれぞれ第３図乃至第８図に
示す。これらの積層構造は、入射角が０°の場合につい
て最適設計を行ったものであり、各層の膜厚の偏差が上
記の範囲にある限りにおいては、波長１．５５μｍの光
について９９．５％以上の透過率を有しているものであ
る。よってこの場合には１．５５μｍ帯の伝送波長の光
について充分反射防止機能を生じさせることができる。
５層乃至１０層とした場合において、各層の膜厚の偏差
が±１０％のときに特性曲線（透過率と波長の関係を示
す曲線）がとり得る範囲をそれぞれ第３図乃至第８図に
示す。これらの積層構造は、入射角が０°の場合につい
て最適設計を行ったものであり、各層の膜厚の偏差が上
記の範囲にある限りにおいては、波長１．５５μｍの光
について９９．５％以上の透過率を有しているものであ
る。よってこの場合には１．５５μｍ帯の伝送波長の光
について充分反射防止機能を生じさせることができる。
また、各層の膜厚の偏差が上記範囲内にある場合には、
波長が０．４３μｍの紫外光に対して充分な遮断特性を
生じさせることができる。紫外光に対する遮断機能は積
層数が増大するほど高（なるが、５１層及び５１０２層
の積層数は実用上５乃至１０層で充分である。
波長が０．４３μｍの紫外光に対して充分な遮断特性を
生じさせることができる。紫外光に対する遮断機能は積
層数が増大するほど高（なるが、５１層及び５１０２層
の積層数は実用上５乃至１０層で充分である。
発明の詳細
な説明したように、本発明方法によれば、光損傷を生じ
させることなく導波路基板と光ファイバを接続すること
が可能になるという効果を奏する。この場合に用いる紫
外光遮断機能付き反射防止膜は伝送波長の光に対して反
射防止機能を生じさせるので、フレネル損失を低減させ
て接続損失を小さく抑えることができるようになる。ま
た、本発明方法の実施に使用する紫外光遮断機能付き反
射防止膜の積層構造によれば、光ファイバにより伝送す
る波長１．５５μｍの光を高い透過率で透過させ、接着
剤を硬化させる波長０．４３μｍの紫外光を高い遮断率
で遮断することができるようになる。
させることなく導波路基板と光ファイバを接続すること
が可能になるという効果を奏する。この場合に用いる紫
外光遮断機能付き反射防止膜は伝送波長の光に対して反
射防止機能を生じさせるので、フレネル損失を低減させ
て接続損失を小さく抑えることができるようになる。ま
た、本発明方法の実施に使用する紫外光遮断機能付き反
射防止膜の積層構造によれば、光ファイバにより伝送す
る波長１．５５μｍの光を高い透過率で透過させ、接着
剤を硬化させる波長０．４３μｍの紫外光を高い遮断率
で遮断することができるようになる。
第１図は本発明の接続方法の実施例を説明する１
だめの図、
第２図は本発明の実施例において使用する導波路型光デ
バイスの斜視図、 第３図乃至第８図はそれぞれ反射防止膜の積層数が５層
乃至１０層の場合において各層の膜厚の偏差が±１０％
のときに特性曲線がとり得る範囲を示すグラフ、 第９図は従来方法の説明図である。 ２・・・導波路基板、 ４・・・導波路、 ６・・・光ファイバ、 ８・・・紫外光硬化型の接着剤、 １０・・・紫外光遮断機能付き反射防止膜。
バイスの斜視図、 第３図乃至第８図はそれぞれ反射防止膜の積層数が５層
乃至１０層の場合において各層の膜厚の偏差が±１０％
のときに特性曲線がとり得る範囲を示すグラフ、 第９図は従来方法の説明図である。 ２・・・導波路基板、 ４・・・導波路、 ６・・・光ファイバ、 ８・・・紫外光硬化型の接着剤、 １０・・・紫外光遮断機能付き反射防止膜。
Claims (8)
- （１）電気光学結晶からなる導波路基板（２）と光ファ
イバ（６）を紫外光硬化型の接着剤（８）により接続す
る方法であって、 上記導波路基板（２）の端面における少なくとも上記光
ファイバ（６）の端面が密着する部分及びその近傍に、
上記光ファイバ（６）により伝送する波長の光を透過さ
せ上記接着剤（８）を硬化させる波長の紫外光を透過さ
せない紫外光遮断機能付き反射防止膜（１０）を形成し
、 該反射防止膜（１０）上に付着させた上記接着剤（８）
に、上記導波路基板（２）の端面に概略垂直な方向から
紫外光を照射するようにしたことを特徴とする導波路基
板と光ファイバの接続方法。 - （２）電気光学結晶からなる導波路基板（２）にＳｉ層
及びＳｉＯ＿２層を交互に５層積層してなる紫外光遮断
機能付き反射防止膜であって、 上記導波路基板（２）に直接接触する第１層をＳｉ層と
し、 遮断すべき紫外光の中心波長の４分の１に相当する膜厚
を１．０とするときに、第１層乃至第５層の膜厚の設計
値をそれぞれ１．０９、０．９２、０．９６、１．０７
、０．９１としたことを特徴とする紫外光遮断機能付き
反射防止膜。 - （３）電気光学結晶からなる導波路基板（２）にＳｉ層
及びＳｉＯ＿２層を交互に６層積層してなる紫外光遮断
機能付き反射防止膜であって、 上記導波路基板（２）に直接接触する第１層をＳｉＯ＿
２層とし、 遮断すべき紫外光の中心波長の４分の１に相当する膜厚
を１．０とするときに、第１層乃至第６層の膜厚の設計
値をそれぞれ０．８３、１．２５、０．９６、０．８４
、１．２４、０．８２としたことを特徴とする紫外光遮
断機能付き反射防止膜。 - （４）電気光学結晶からなる導波路基板（２）にＳｉ層
及びＳｉＯ＿２層を交互に７層積層してなる紫外光遮断
機能付き反射防止膜であって、 上記導波路基板（２）に直接接触する第１層をＳｉ層と
し、 遮断すべき紫外光の中心波長の４分の１に相当する膜厚
を１．０とするときに、第１層乃至第７層の膜厚の設計
値をそれぞれ０．８７、０．８５、１．２４．０．７９
、０．８２、１．２９、０．７０としたことを特徴とす
る紫外光遮断機能付き反射防止膜。 - （５）電気光学結晶からなる導波路基板（２）にＳｉ層
及びＳｉＯ＿２層を交互に８層積層してなる紫外光遮断
機能付き反射防止膜であって、 上記導波路基板（２）に直接接触する第１層をＳｉＯ＿
２層とし、 遮断すべき紫外光の中心波長の４分の１に相当する膜厚
を１．０とするときに、第１層乃至第８層の膜厚の設計
値をそれぞれ１．１１、０．９２、０．９６、１．１０
、０．８９、１．００、１．０９、０．８７としたこと
を特徴とする紫外光遮断機能付き反射防止膜。 - （６）電気光学結晶からなる導波路基板（２）にＳｉ層
及びＳｉＯ＿２層を交互に９層積層してなる紫外光遮断
機能付き反射防止膜であって、 上記導波路基板（２）に直接接触する第１層をＳｉ層と
し、 遮断すべき紫外光の中心波長の４分の１に相当する膜厚
を１．０とするときに、第１層乃至第９層の膜厚の設計
値をそれぞれ０．７０、１．２７、０．９９、０．８３
、１．２１、０．９３、０．８６、１．２６、０．８０
としたことを特徴とする紫外光遮断機能付き反射防止膜
。 - （７）電気光学結晶からなる導波路基板（２）にＳｉ層
及びＳｉＯ＿２層を交互に１０層積層してなる紫外光遮
断機能付き反射防止膜であって、上記導波路基板（２）
に直接接触する第１層をＳｉＯ＿２層とし、 遮断すべき紫外光の中心波長の４分の１に相当する膜厚
を１．０とするときに、第１層乃至第１０層の膜厚の設
計値をそれぞれ０．９３、０．９２、１．３５、１．０
０、０．８７、１．２３、１．００、０．８６、１．１
７、０．５０としたことを特徴とする紫外光遮断機能付
き反射防止膜。 - （８）上記５１層及びＳｉＯ＿２層の厚みの偏差が設計
値に対して±１０％の範囲内にあることを特徴とする請
求項２乃至７のいずれかに記載の紫外光遮断機能付き反
射防止膜。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1288731A JPH03150509A (ja) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | 導波路基板と光ファイバの接続方法及び該方法の実施に使用する紫外光遮断機能付き反射防止膜 |
| US07/608,745 US5107535A (en) | 1989-11-08 | 1990-11-05 | Connecting method between waveguide substrate and optical fiber |
| CA002029411A CA2029411C (en) | 1989-11-08 | 1990-11-06 | Connecting method between waveguide substrate and optical fiber |
| DE69026471T DE69026471T2 (de) | 1989-11-08 | 1990-11-07 | Verbindungsmethode zwischen einem Wellenleiter und einer optischen Faser |
| EP90121296A EP0428049B1 (en) | 1989-11-08 | 1990-11-07 | Connecting method between waveguide substrate and optical fiber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1288731A JPH03150509A (ja) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | 導波路基板と光ファイバの接続方法及び該方法の実施に使用する紫外光遮断機能付き反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03150509A true JPH03150509A (ja) | 1991-06-26 |
Family
ID=17733959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1288731A Pending JPH03150509A (ja) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | 導波路基板と光ファイバの接続方法及び該方法の実施に使用する紫外光遮断機能付き反射防止膜 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5107535A (ja) |
| EP (1) | EP0428049B1 (ja) |
| JP (1) | JPH03150509A (ja) |
| CA (1) | CA2029411C (ja) |
| DE (1) | DE69026471T2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2674033B1 (fr) * | 1991-03-14 | 1993-07-23 | Corning Inc | Composant optique integre a liaison entre un guide d'onde integre et une fibre optique, fonctionnant dans un large domaine de temperature. |
| US5282071A (en) * | 1992-07-13 | 1994-01-25 | Motorola, Inc. | Contact areas on an optical waveguide and method of making |
| DE69330563T2 (de) * | 1993-11-08 | 2002-06-27 | Corning Inc | Kopplung von planaren optischen Wellenleitern und optischen Fasern mit geringer Rückreflexion |
| US5337383A (en) * | 1993-11-09 | 1994-08-09 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Method for internal laser welding of metallized optical components for attachment of optical fibers |
| US5926594A (en) * | 1994-08-31 | 1999-07-20 | Litton Systems, Inc. | System and method for aligning and attaching optical fibers to optical waveguides, and products obtained thereby |
| FR2798741A1 (fr) * | 1999-09-21 | 2001-03-23 | Corning Inc | Procede de raccordement par fusion d'une fibre optique a un dispositif optique integre et structures resultantes |
| FR2809500B1 (fr) * | 2000-05-29 | 2003-09-26 | Highwave Optical Tech | Procede et dispositif de conditionnement de composant a fibres optiques |
| US6599957B2 (en) | 2001-05-07 | 2003-07-29 | Corning Incorporated | Photosensitive material suitable for making waveguides and method of making waveguides utilizing this photosensitive optical material |
| US6744951B2 (en) * | 2001-05-07 | 2004-06-01 | Cornigg Incorporated | Waveguides and method of making them |
| ES2701054T3 (es) * | 2013-01-08 | 2019-02-20 | Commscope Inc North Carolina | Curado selectivo de epoxi adyacente a fibras ópticas por transmisión de energía UV a través del revestimiento de las fibras |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4210923A (en) * | 1979-01-02 | 1980-07-01 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Edge illuminated photodetector with optical fiber alignment |
| FR2546311B1 (fr) * | 1983-05-17 | 1986-03-28 | France Etat | Procede et dispositif de connexion entre une fibre optique et un composant d'optique integree comportant un guide d'onde |
| JPS60198791A (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-08 | Hitachi Ltd | 光結合方式 |
| GB8417911D0 (en) * | 1984-07-13 | 1984-08-15 | British Telecomm | Connecting waveguides |
| DE3525892C1 (de) * | 1985-07-19 | 1986-10-02 | Optische Werke G. Rodenstock, 8000 München | Reflexionsvermindernder Belag fuer ein optisches Element aus organischem Material |
| US4871226A (en) * | 1987-10-01 | 1989-10-03 | United Technologies Corporation | Mounting of optical fibers to integrated optical chips |
-
1989
- 1989-11-08 JP JP1288731A patent/JPH03150509A/ja active Pending
-
1990
- 1990-11-05 US US07/608,745 patent/US5107535A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-06 CA CA002029411A patent/CA2029411C/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-07 DE DE69026471T patent/DE69026471T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-07 EP EP90121296A patent/EP0428049B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69026471T2 (de) | 1996-10-02 |
| DE69026471D1 (de) | 1996-05-15 |
| EP0428049A3 (en) | 1992-07-08 |
| CA2029411A1 (en) | 1991-05-09 |
| US5107535A (en) | 1992-04-21 |
| EP0428049B1 (en) | 1996-04-10 |
| CA2029411C (en) | 1993-11-09 |
| EP0428049A2 (en) | 1991-05-22 |
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