JPH03150195A - 蒸着保護ポリマーフィルムを有する液体トランスファー品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 崖１−ＬΔｊｌＬｔ■ 本発明は基材（ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）にセラミック或は
金属カーバイドコーティングを被覆させてなり、該コー
ティングにおいて計量した量の液を受け入れるように適
応させたウェルのパターンを彫刻しており、ウェルの表
面Ｅ：あける微小細孔（ｍｉｃｒｏ−ｐｏｒｏｓｉｔｙ
）に蒸着ポリマーのフィルムが充填された、計量した量
の液体を別の表面にトランスファーするのに用いるため
の液体トランスファー品に関する。

従来の技術 印刷産業において、液体トランスファー品、例えばロー
ルを使用して特定量のインキ或は他の物質のような液体
を液体トランスファー品から別の面にトランスファーす
る。液体トランスフアー品　−は表面に液体を受け入れ
るように適応させたくぼみ或はウェルのパターンがあり
、該パターンは、液体トランスファー品を別の面に接触
させる際にトランスファーされるのが普通である。液体
がインキであり、かつインキを品に塗布する場合、ウェ
ルにインキを満たし、品の残りの面をぬぐい去る。イン
キはウェルによって定められるパターン内に収容される
だけであるので、別の表面にトランスファーされるのは
このパターンである。

商業上の実施においては、ワイパー或はドクターブレー
ドを用いて液体トランスファー品の表面から過剰の液体
を取り去る。被覆品の表面があまり荒いと、インキのよ
うな過剰の液体は荒い品のランド領域面がら除かれず、
それで受面及び／又は不都合な場所にトランスファーさ
れることになる。よって、液体トランスファー品の表面
を仕上げ加工しかつウェル或鯰くぼみをそれらが液体を
受け入れることができるように明瞭鰐−境界を定めるべ
きである。

グラビアロールは液体トランスファーロールとして一般
に用いられている。グラビアロールは、また、アプリケ
ーター或はプリントロールとも呼ばれている。グラビア
ロールは、種々の寸法のウェルをロール面の部分に切断
或は彫刻しくｅｎｇｒａｖｅ）て作る。これらのウェル
に液体を満たし、次いで液体を受面にトランスファーさ
せる。ウェルの直径及び深さを変えて液体トランスファ
ーの容積を調節することができる。受面にトランスファ
ーさせる液体のパターンをもたらすのはウェルの位置で
あり、ウェルを定めるランド領域は液体を何ら収容せず
、よって液体を何らトランスファーすることができない
、ランド領域け、液体を表面に塗布して液体がウェルを
満たし或けあふれる場合に、ロール表面にわたってドク
ターブレードでぬぐうことによって過剰の液をランド　
・領域から取り去ることができるように、共通の表面レ
ベルにある。

各々のウェルの深さ及び大きさが受面にトランスファー
される液体の量を決める。ウェルの深さ及び大きさ及び
表面におけるウェルの位置（パターン）を調節すること
によって、トランスファーさせる液体の容積及び受面に
トランスファーさせる液体の位置の正確な制御を行うこ
とができる。加えて、ウェルの種々の深さ及び／又は寸
法を持つことによって、液体を受面に所定のパターンで
高い精度にトランスファーすることができる。

グラビアロールを金属ロールにし、外層を銅にするのが
代表的である。銅を彫刻するのに用いる彫刻技法は機械
的プロセスが普通であり、例えばダイヤモンド針を使用
してウェルパターンを彫る、或は光化学プロセスを用い
てウェルパターンを化学的に食刻する。

彫刻を完了した後に、銅表面をクロムでめフきするのが
普通である。この最終工程鎗、ロールの彫刻した銅表面
の摩耗寿命を向上させるのに要する。クロムめっきしな
い場谷、ロールの摩耗は速く、印刷に畠いて用いるイン
キによって一層容易に腐食される。このため、クロムめ
っきしない場合、銅ロールが有する寿命は容認し得ない
程に短い。

しかしながら、クロムめっきした場合でさえ、ロールの
寿命が容認し得ない程に短いことがしばしばある。これ
は液体の摩−損性及びドクターブレードが引き起こすタ
ラッピング作用によるものである。多くの用途において
、ロールの急速な摩耗は、過大のロールに過大の深さを
有するウェルを装備することによって補う、が、このロ
ールは、ロールが新しい場合、液体トランスファーが多
くなるという不利を有する。加えて、ロールが摩耗する
につれて、受面にトランスファーされる液体の容量は急
に減少し、それで品質管理問題を引き起こす、クロムめ
っきした銅ロールの急速な摩耗により、また、、停止期
間及び維持費が相当になる。

セラミックコーティングは長年アニロックスロールにつ
いて用いられて極めて長い寿命をもたらした。アニロッ
クスロールは均一な液体容積をロールの全作用面にわた
ってトランスファーする液体トランスファーロールであ
る。セラミック被覆したロールの彫刻は銅ロールを彫刻
するのに用いられる慣用のＩＥ刻技法によって行うこと
ができず、それでこれらのロールを高エネルギービーム
、例えばレーザー或は電子ビームにようて彫刻しなけれ
ばならない、レーザー彫刻すると、各々のウェルのまわ
りに及びロールの元の表面上に新しいりキャスト（ｒｅ
ｃａｓｔ）面を有するウェルな形成するに至り、このよ
うなりキャスト面は各々のウェルのまわりに小形の火山
クレータ−の外観を有する。これは、高エネルギービー
ムがあたる際に表面から放散される融解材料が固化して
引き起こされる。このように、りキャスト面鎗はとんど
の印刷用途について除かれるべきである。

オフセット印刷では、印刷版を直接紙【適用せず、初め
に像をゴムのようなフレキソ面であるオフセットブラン
ケットシリンダーにトランスファーし、像をブランケッ
トシリンダーから紙にトランスファーする。印刷インキ
をインキトランスファー或はインキ計量ロールによって
版シリンダーに適用し、かかるロール鯰単−口一ルでも
或は一連のロールでもよい、平板印刷法では、像及び非
像領域は印刷版上の同じ平面上にあるが、像領域はグリ
ース受理性かつ撥水性であるのに対し、非像領域は水受
理性かつ撥油性（ｇｒｅａｓｅ−ｒｅｐｅｌｌｅｎｔ）
である。従って、インキ溶媒は像領域にのみ接着し、そ
こから通常オフセット法によって印刷する表面にトラン
スファーされる。

平板印刷法の印駒サイクルでは、水或鯰「インキ溜め溶
液Ｊを、インキトランスファーロールに接触させる直前
に印刷版ロールに供給する。これは、加える水の量を計
量するローラーによって行うのが普通である。印刷版ロ
ール上で作られる含水フィルムは版の非像領域上で連続
であり、インキの接着を防止するバリヤーとして働く、
油脂性像領域における水分は不連続であり、インキが領
ｔ７！ｉｋトランスファーするのを妨げない。

平板インキの場合、成分を注意深く選択することが肝要
である。インキは印刷する間に水と親密にかつ連続して
接触するようになるので、水中インキ形エマルシ１ンを
ブリードする或は形成する傾向をなくさなければならな
い、インキ水形エマルションの形成は不可避であるが、
これは、インキの使用コンシスチンシーがそこなわれな
ければ、害にならない、通常の印刷をする間（、インキ
は水５〜３０％をインキ中水形エマルシコンとして吸収
する。しかしながら、このインキ／水関係の界面化学に
ついては依然はとんどわかっていない。

インキトランスファー或鑓計量ロール表向け、その表面
上に彫刻したウェルに油脂性印刷インキを受理するよう
に親油性でなければならず、かつまた印刷ロールの表面
上の水をはじくように疎水性でなければならない、イン
キトランスファーロールは、従来、、＃１の細孔のない
表面で作られてきた。これは親油性かつ疎水性の両方で
あることが認められた。実際上かつ上述した通りに、銅
表面は比較的軟質であって耐摩耗性でなく、よ）て、彫
刻した銅ロールの表面に細孔のないクロムの層を被覆し
て耐水性を増大させるのが普通であった。かかる摩耗紘
、トランスファーするインキの量を計量するのにドクタ
ーブレードを使用する場合に、特に明白である。しかし
、ドクターブレードを適用する場合トランスファーロー
ルの表面上に連続摩耗を生じ、従来、ずつと耐水性のイ
ンキトランスファー或はインキ計量ロールを作ることに
多くの考慮が払われてきた。

初めに、銅をセラミックの微孔質層で被覆しようとする
試みがなされた。おそらく、微孔質セラミック番よ細孔
のない銅表面の親油性及び疎水性を保持し、同時に耐水
性を向上させると考えられたのであろう、実際、これは
うまくいかないことが誌められ、インキをプロット版の
印刷領域にわたってむらなく満足すべき程にトランスフ
ァーすることは、実際達成されなかった。

摩耗の問題を解決しようとする別の試みはベースロール
にセラミックを被覆し、セラミックの表面を彫刻するこ
とであった。これらのベースロールの内、酸化クロム層
を被覆してパルスレーザ−ビーム技法によってウェルの
パターンを彫刻したものは摩耗の問題を解決した。しか
し、このようなセラミック被覆ロールの場合、しばらく
して、インキのトランスフ１−がまだらになるという別
の問題が起きることが認められた。その理由は、セラミ
ック表面に彫刻したインキウェルパターンにおけるウェ
ルの内のいくつかが性質を親油性から疎油性（ｏｌｅｏ
ｐｈｏｂｉｃ）に変え、こうしてトランスファーロール
の領域（わたってトランスファーされるインキの量を減
少させ、これが生じ、それでインキの印刷ロールへのむ
らのある塗布を形成するためであることが判明した。

これを避けるために、このようなロールに、インキトラ
ンスファー虹必要とされ乞裏面特性を、当然、この不利
を生ぜずに長い期間にわたって有することが知られてい
る綱の細孔のない薄い層が被覆されてきた。

西独国特許出願第３７１３０２７ＡＩ号は、ウェルな複
数有し、ウェルは蒸着鋼、ニッケル、ケイ素、アッアル
ト或はテフロン或はマイラーの形の適当な合成物のよう
な物質の撥湿性コーティングを収容する液体トランスフ
１−ロールを開示している。

今、所定の蒸着ポリマーの極めて薄いフィルムは、セラ
ミック被Ｍ液体トランスフアーロールにおけるウェルの
表面に塗布した場合に、レーザー彫刻が引き起こす表面
の微小細孔を充填しかつウェルの表面特性が親油性から
疎油性にかつ疎水性から親水性に変わるのを防止するこ
とを見出した。

従って、本発明は、最も広い態様、において、セラミッ
ク層を被覆し、かつ該セラミック層において液体受理ウ
ェルのパターンを彫刻したベースロールを含む液体トラ
ンスファー品、例えばオフセット印刷において用いるた
めのインキトランスファーロールにおいて、該ウェルの
各々の表面の微小細孔に蒸着ポリマーのフィルムを充填
することを特徴とする液体トランスファー品を提供する
。

本発明はまた、ベース基材にセラミック或は金属カーバ
イドの層を被覆し、コーティングの表面上に液体受理ウ
ェルのパターンをレーザービームによって彫刻し、次い
でポリマーを蒸着してつ工ルの表面の微小細孔を充填す
ることを含む、オフセット印刷において用いるための液
体トランスファー品の製造方法を提供する。

１１１とｌ煎 本発明の目的は液体トランスファー品に彫刻したウェル
の表面に蒸着させたポリマーの薄いフィルムを提供する
にある。

本発明の別の目的は、彫刻したウェルのパターンを有し
、ウェルの表面における微小細孔（蒸着ポリマーを充填
した液体トランスファー品を提供するにある。

本発明の別の目的は、彫刻したウェルのパターンを有す
るセラミックコーティングにウェルの表面における微小
細孔を有効に充填するパリレンの薄いフィルムを被覆し
た印刷産業において用いるための液体トランスファーロ
ールな提供するにある。

本発明の別の目的は彫刻したウェルのパターンを有し、
蒸着したポリマーがウェルの表面における微小細孔を充
填じかつウェルの表面に親油特性及び疎水特性を示すポ
リマーの薄い層を被覆した液体トランスファー品の製造
方法を提供するにある。

上述した及びそれ以上の目的及び利点は、下記の記載を
検討すれば明らかになるものと思う。

え１立璽蕉 発明は、基材嶋ヤラミック或は金属カーバイドコーティ
ングを被覆させ、コーティングにウェルのパターンを彫
刻し、ウェルの各々は計量した量の液体を受け入れるよ
うに適応させてなり、ウェルの表面における微小細孔は
蒸着ポリマーで充填させる、別の面に計量した量の液を
トランスファーするのに用いるための液体トランスファ
ー品に関する。蒸着ポリマーは、また、親油特性及び疎
水特性を示すウェルの表面の薄いフィルムコーティング
になる。

発明は、また、 （ａ）液体トランスファー品にセラミック及び金属カー
バイドからなる群より選ぶコーティング材料の少なくと
も１つの層を被覆し： （ｂ）被覆した液体トランスファー品の表面を彫刻して
該コーティングの表面に液体を受け入れるように適応さ
せたウェルのパターンを生成し；（ｃ）該ウェルの表面
（ポリマーを蒸着してウェルの表面における微小編孔を
充填する 工程を含む計量した量の液を別の表面にトランスファー
するのに用いるための液体トランスファー品の製造方法
を提供する。

本発明において用いるための好ましいポリマーは、種々
の幾何学形状の基材の形通りになることができる超薄フ
ィルムになる能力を有することから、パリレンである。

これにより、パリレンが極めて小さいウェルに入るばか
りでなく、また、通常レーザー彫刻プロセスの間にウェ
ルの表面において生成する微小細孔、例えばクラック、
亀裂、ピンホール或は隙間を充填することが可能になる
。ウェルは直径１０ミクロン、高さ２ミクロン程に小さ
くすることができるが、パリレンはレーザー彫刻プロセ
スによってウェルの表面に形成され得た微小細孔をなお
充填することができる。蒸着するパリレンは、０．１０
ミクロン程に薄い直径１０ミクロンまでに蒸着すること
ができるピンホールのない強靭なフィルムになる。パリ
レンは物理的に安定かつ化学的に不活性な物質であり、
化学的作用に対して極めて耐性でありかつほとんどの既
知の溶媒に不溶性である。パリレンけ、湿気、腐食性蒸
気及び他の不良環境からの優れた保護をもたらす、蒸着
したパリレンは、また、ピンホールのない被覆面積、微
小細孔侵入及び相似被覆における純度をもたらす。

パリレンは未ｔｉＩ！の及び置換されたポリ−ｐ−キシ
リレンの系統に適用される総称である。ポリマーは１ｍ
の特定の二量体或は異なる二量体の混合物から訊導され
るかどうかに応じてホモポリマー或はコポリマーになる
ことができる。未置換のホモポリマーポリ−ｐ−キシリ
レンは下記の構造を有し： 置換されたホモポリマーは下記の構造（よって例示する
ことができる： 資 十す十 、Ｃ１ｎ ａ！換基鎗任意の有機或は無機基にすることができ、通
常芳香族核において置換されることができるが、但し、
二量体及び千ツマ−はプロセス条件下で気化し得ること
を条件とする。置換基の例はハロゲン、シアノ基であり
、例えばシアノパリレン、ジシアノパリレンである。所
望の場合、フッ素原子或はその他の置換基をメチレン基
ｅＪ５ける水素原子に代えることができる。

パリレン、パリレンの製造方法及びパリレン付着を行う
ことができる装Ｗｔ＆：ついての記述は米国特許３．２
４６．６２７号、同３，３０１゜７０７号及び同３，６
００，２１６号において見ることができ、これらの米国
特許を全て本明細書中に援用する。しかし、「パリレン
」なる用語はこれらの特許において用いられていないこ
とが認められるものと思う、代りに、ポリ−ｐ−キシリ
レンなる用語が総括的に用いられており、この用語は、
本明細書におけるパリレンなる用語と正に同様に、ホモ
ポリマー或はコポリマーの形の未置換の及び置換された
変種の両方を含むものと考えられる。

基材にパリレンを被覆するプロセスは慣用のものである
。かかるプロセスの代表的な段階及び条件は下記を含む
：初めに所望の反復車位を含有する環状二量体、例えば
環状ジ−ｐ−キシリレンを圧力約０．菫〜約１トル及び
温度約１５０°〜約２００℃で気化させ、次いで気化さ
せた環状二量体をわずかに低い圧力で約６７０＠〜約６
９０℃において熱分解し、熱分解段階はベンジリック炭
素−度素結合を切断して蒸気状のＰ−キシリレンそツマ
−とし、最終的に蒸気状の千ツマ−を、更にわずかに低
い圧力で約２０°〜約３０℃の範囲の周囲温度の、基材
を収容する蒸着室に導入し、そこで、千ツマ−は基材の
全ての露出面上で凝縮しかつ重合して薄いパリレンフィ
ルムになる。プロセス全体を通してわずかな圧力勾配が
確立され、圧力は各々の段階で漸進的に低くなる。この
圧力の差が蒸気をプロセスのある段階から次の段階に推
進する。

使用する装置は気化或は昇華セクション、熱分解域及び
蒸着室を全てチェービングで接続させてなり、蒸着室は
バルブ付出口を必要とする圧力を供するポンプに接続さ
せてなる。気化及び熱分解させるための加熱手段を設備
し、凝縮を周囲温度によって行なわせる。

パリレンフィルムの厚さ＆ｔＯ−ｔ〜１００ミクロンに
することができる。本発明のほとんどの用途について、
パリレンフィルムの厚さＵＯ−５〜１０ミクロンになる
。パリレンの厚さを０．５ミクロンより薄く蒸着するこ
とは、通常、確実にウェルの表面における微小細孔を充
填し、かつ表面全体を親油性かつ疎水性のままくするた
めの適当な保護をつエルの表面にもたらさず、他方、コ
ーティングの厚さをｌＯミクロンより厚くすることは、
いくつかの用途において、液体を保有するウェルの容量
をむだに減少させ得る。

インキトランズフ１−ロールの場合、セラミックの表面
に彫刻するウェルの深さは約２０ミクロンを越えないの
が普通であり、蒸着させるポリマーのフィルムの厚さは
、ウェルの親油性及び疎水性を保持し、かつウェルの微
小細孔を充填することと矛盾なく、できるだけ薄くすべ
きである。

実際、コーティングの厚さを約０．５〜約５ミクロン、
好ましくは約１〜約３ミクロンにする９が、これらの目
的を達成するの（有効であることがわかった。最も好ま
しくは、約１．５ミクロンのコーティングがほとんどの
用途について適している。

理論によ〕て束縛されることを望むものてはないが、今
、ウェルの表面特性の変化は、水が彫刻プロセスの間に
作られたウェルの表面における微小細孔（亀裂、キャビ
ティ、ピンホール）に吸収されることに起因し、かかる
水は優先的に微小細孔に吸収される。吸収された水は終
局的にウェルによるインキ吸収を減じる或は起こらせな
いようにする点にまで増加する。すなわち、吸収された
水は個々のウェルの表面特性を変えてインキトランスフ
ァーロールの表面上に「ブラインディング」と称される
ものを引き起こす、蒸着させたポリマーコーティングは
ウェルの表面における微小細孔を充填し、水がかかる微
小細孔に吸収されないようにするものと考えられる。

本発明の方法に従ってインキロールな作るのに必要な全
般的プロセス段階は、初めに通常紙カーボンスチール或
は銅、等の金属基材ロールの表面をグリットブラスト仕
上げし、グリット仕上げした表面にコーティングな熱吹
付けしてセラミック等のコーティングを表面に塗布する
ことを含む。

次に、コーティング表面からでこぼこを取り去るように
コーティングを研削し、次いでパルスレーザ−技法によ
って適当なパターンを有するように彫刻する。彫刻プロ
セスはレーザービームパルスによって作られるウェルの
縁に所定量のりキャストを生じるので、ロールは、いく
つかの用途でドクターブレードとの接触を伴うことにな
る円滑な表面をもたらすように彫刻した後（磨き仕上げ
することができる。蒸着ポリマーの適用は、最終の磨ぎ
仕上げの前か或は後のいずれかに行うことができるが、
最終の磨き仕上げの後に行うのが好ましい、適用するポ
リマーの量は非常に薄いので、ドクターブレードを受け
る最終表面虹悪影響を与えない。

任意の適したコーティング、例えば耐火性酸化物或は金
属カーバイドコーティングをロールの表面に塗布するこ
とができる。例えば下記を用いることができる：炭化タ
ングステン−コバルト、炭化タングステン−ニッケル、
炭化タングステン−コバルトクロム、炭化タングステン
−ニッケルクロム、クロム−ニッケル、酸化アルミニウ
ム、炭化クロム−ニッケルクロム、炭化クロム−コバル
トクロム、タングステン一炭化チタン−ニッケル、コバ
ルト合金、コバルト合金における酸化物分散体、アルミ
ニウムーチタニア、銅ベースの合金、クロムベースの合
金、酸化クロム、酸化クロム＋酸化アルミニウム、酸化
チタン、チタン＋酸化アルミニウム、鉄ベースの合金、
鉄ベースの合金に分散させたａｉａ物、ニッケル及びニ
ッケルベースの合金等、酸化クロム（ｃｒｔ　０３　）
、酸化アルミニウム（Ａｕｔｏｓ）、酸化ケイ素（Ｓｉ
Ｏｘ）或はこれらの混合物をコーティング材料として用
いることができ、酸化クロムが最も好ましい。

セラミック或は金属カーバイドコーティングを、２つの
よく知られた技法、すなわち、デトネーションガン（Ｄ
−ガン）プロセス或はプラズマコーティングプロセスの
いずれかによってロールの金属表面に適用することがで
きる。デトネーションガンプロセスはよく知られており
、米国特許２，７１４，５６３号、同４，１７３，６８
５号及び同４，５１９．８４０号に十分に記載されてお
り、これらの米国特許の開示を本明細書中に援用する。

基材を塗布する慣用のプラズマ技法は米国特許３，０１
６，４４７号、同３，９１４゜５７３号、同３，９５８
，０９７号、同４゜１７３．６８５号及び同４，５１９
．８４０号に記載されており、これらの米国特許の開示
を本明細書中に援用する。プラズマプロセスか或はＤ−
ガンプロセスのいずれかによって塗布するコーティング
の厚さはＯ−５〜１００ミル（０，０１３〜２．５ｍｍ
）の範囲にすることがてき、かつ荒さはプロセス、すな
わちＤ−ガン或はプラズマ。

コーティング材料のタイプ、コーティングの厚さに応じ
て約５０〜約ｔｏｏｏマイクロ−インチ（１３０〜２．
５００マイクロ−ａｍ）Ｒａの範囲になる。本明細書中
で用いる通りのＲａはＡＮ５１メソッド８４６．１．１
９７８によりマイクロ−インチで測定する平均表面荒さ
である。

この測定系では、数が大きい程、表面鎗荒くなる。

セラミック或は全屈カーバイドコーティングにおいてウ
ェルを形成するのに、広範囲のレーザーマシンが利用可
能である。通常、レーザーパルス当りｏ、ｏｏｏｔ〜０
．４ジュールの放射線のビーム或はパルスを１０〜３０
０マイクロ秒の期間発生することができるレーザーを使
用することができる。レーザーパルスは、所望のウェル
の特定のパターンに応じて３０〜２０００マイクロ秒離
すことができる。エネルギー及び期間の一層大きい或は
一層小さい値を用いることができ、かつ当分野におしご
て容易に利用し得る他のレーザー彫刻技法を本発明につ
いて使用することができる。

レーザー彫刻した後に、荒さは代表的には２０〜１００
０マイクロ−インチ（５１〜２５００マイクロ−ａｍ）
Ｒａの範囲になり、かつウェルは直径１０〜３００ミク
ロン及び高さ２〜２５０ミクロンの範囲になることがで
きる。

受面「トランスファーすることかでざる液体は、インキ
、液体接着剤、等のような任意の液体である。

発明を更に添付図面によって説明する。添付図面を参照
すれば、全体を１と表示するインキトランスファーロー
ルは、シリンダー２が低カーボンスプールの基材３で構
成されてなる。基材３の表面はグリットブラストして粗
面４としである。熱吹付によって塗布した厚さ７５〜１
００ミクロンのセラミックコーティング５（好ましくは
酸化クロム）がグリットブラストした表面４を覆う、セ
ラミック層５の表面を研削仕上、レーザービーム彫刻、
研磨によってインキを受容するウェル６のパターンに形
成し、ウェルの間の表面領域７を研磨してドクターブレ
ード（図示せず）を受ける。

ウェル６及び研磨した表面領域７の表面にパリレンのフ
ィルムを好ましくは厚さ約１．５ミクロンに被覆する。

被覆層５を慣用の技法によって塗布した後に慣用の研削
仕上によう−て表面を（Ｌ　５ミクロンメートルＲａよ
り小さくすることができる。

本発明の研磨した彫刻表面に、次いで上述した１ｎ用の
蒸着技法によってパリレンのフィルムな被覆することが
できる。パリレンを被覆する表面を、塩素化溶剤及び超
音波振動を用いて４８℃において脱脂することができる
。脱脂は３段階で各々の段階においてフレッシュ塩素化
溶剤を用いて行なう、次いで、表面をイソプロパノール
／脱イオン水混合物中に浸漬して置き、次いで、ＵＣＡ
Ｒ−Ａ１７４（υＣＡＲはユニオンカーバイドの登録商
標）をイソプロパノール／脱イオン水混合物に溶解させ
てなる促進系に浸漬する。浸漬した表面を次いでオーブ
ン中７５℃において空気循環させて乾燥した後に、７５
℃において真空乾燥する。次いで、パリレンを慣用の手
段によって蒸着して厚さ１．５ミクロンのフィルムを生
成することができる。蒸着パリレンはレーザー彫刻した
ロールのウェルの表面上の微小細孔を有効に満たし、ま
たウェルの表面にパリレンの薄いフィルムを付着する。

それで、インキトランスファーロールはオフセット中刷
装置において用いる準備ができた。

第３図はレーザー彫刻したロールのウェルの表面の拡大
写真を示し、第４図は第３図に示すウェルの表面の中央
領域を一層拡大した写真を示す。

第３図及び第４図から明らかな通りに、レーザー彫刻プ
ロセスの間に、キャビティ３０、クラック３２のような
微小編孔がウェルの表面に形成される。実際、セラミッ
クコーティングの結晶の内のいくつかは砕かれて、ウェ
ルの表面において隙間や亀裂を生じる。蒸着されるパリ
レンはこれらの微小細孔を充填し、ウェルの表面に極め
て薄い均一なフィルムを付着して水がかかる微小細孔に
吸収されるのを防ぐ、加えて、パリレンの薄いフィルム
は親油及び疎水特性を示し、液体トランスファー用途用
に理想的に適したものになる。

本発明によって、発明の範囲から逸脱しないで多くの可
能な実施態様を成し得るので、記述した全ての事項は制
限する意味でなく、例示と解すべきことは理解されるも
のと思う、例えば、本発明を用いて、液体或は接着剤の
パターンを紙、布、フィルム、木材、スチール、等に付
与することができる液体トランスファー品を製造するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

第二！はノン上トランスファークールの斜視図である。 第２図；ま第：ＩＯ線ＡＩ”−についての断面図である
。 第３ば：ま発明に従うレーザー℃刻したつ−７′、／に
お；するワニルの表面の拡大写真である。 第４　ｇ　′、：第３又の写真二二示す表面の山央領域
の拡大写真である。 ｉ・・・インキトランスファーコール ２・・・シリンダー ３−・・基材（支持体） ４・・・粗面 ５・・・コーアイノノ ６・・・フニル Ｎ　斗 Ｆ１Ｇ、２ Ｆ１６．４

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. １．基材にセラミック或は金属カーバイドコーティング
   を被覆させ、コーティングにウェルのパターンを彫刻し
   、ウェルの各々が計量した量の液体を受け入れるように
   適応させてなり、ウェルの表面における微小細孔は蒸着
   ポリマーで充填される、別の面に計量した量の液をトラ
   ンスファーするのに用いるための液体トランスファー品
   。
2. ２．ポリマーがパリレンである特許請求の範囲第１項記
   載の液体トランスファー品。
3. ３．ウェルが直径１０〜３００ミクロン、及び深さ２〜
   ２５０ミクロンであり、ウェルの表面が厚さ０．５〜５
   ミクロンのパリレンの蒸着フィルムを有する特許請求の
   範囲第２項記載の液体トランスファー品。
4. ４．ウェルの表面上のパリレンのフィルムの厚さが１〜
   ３ミクロンである特許請求の範囲第３項記載の液体トラ
   ンスファー品。
5. ５．基材上の被覆材料を酸化クロム、酸化アルミニウム
   、酸化ケイ素及びこれらの混合物からなる群より選ぶ特
   許請求の範囲第１項記載の液体トランスファー品。
6. ６．被覆材料が酸化クロムである特許請求の範囲第５項
   記載の液体トランスファー品。
7. ７．ポリマーがパリレンであるウェルの表面が厚さ１〜
   ３ミクロンのパリレンの蒸着フィルムを有する特許請求
   の範囲第６項記載の液体トランスファー品。
8. ８．インキロールである特許請求の範囲第７項記載の液
   体トランスファー品。
9. ９．（ａ）液体トランスファー品にセラミック及び金属
   カーバイドからなる群より選ぶコーティング材料の少な
   くとも１つの層を被覆し； （ｂ）被覆液体トランスファー品の表面を彫刻して該コ
   ーティングの表面に液体を受け入れるように適応させた
   ウェルのパターンを生成し； （ｃ）該ウェルの表面にポリマーを蒸着してウェルの表
   面における微小細孔を充填する 工程を含む計量した量の液を別の表面にトランスファー
   するのに用いるための液体トランスファー品の製造方法
   。
10. １０．ポリマーがパリレンである特許請求の範囲第９項
    記載の方法。
11. １１．工程（ｃ）において、パリレンを蒸着してウェル
    の表面に厚さ０．５〜５ミクロンのフィルムを得る特許
    請求の範囲第１０項記載の方法。
12. １２．工程（ａ）において、液体トランスファー品に酸
    化クロム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素及びこれらの
    混合物からなる群より選ぶ材料の層を被覆する特許請求
    の範囲第１１項記載の方法。
13. １３．液体トランスファー品がインキロールであり、工
    程（ａ）におけるコーティングが酸化クロムであり、工
    程（ｃ）においてフィルムをウエルの表面に厚さ１〜３
    ミクロンに蒸着する特許請求の範囲第１２項記載の方法
    。
14. １４．工程（ｃ）において、フィルムをウエルの表面に
    厚さ１．５ミクロンに蒸着する特許請求の範囲第１２項
    記載の方法。